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PR食品用コーティング剤の飛散や周囲の汚れを防止。ダクト工事不要で設置でき…
チョコレート、離型油、バター、卵、フードカラーなど、 食品用コーティング剤のオーバーミストで、 厨房が霧がかったようになっていませんか? アネスト岩田では、強力な吸引力でオーバーミストの飛散防止に貢献する 『食液スプレーステーション』を提供しています。 食品向けのスプレー塗布における「床・周辺機器への付着」「視界の悪化」などを防止。 清掃の手間削減や作業環境の改善に貢献します。...
メーカー・取り扱い企業: アネスト岩田株式会社
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PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現。 移動…
『バックターン洗浄機』は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法:1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヒタカ精機
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真空チャンバー内での位置決め用途に リニアエンコーダ内蔵により5nm分…
光学式リニアエンコーダに対して、5nm分解能と±10nmの再現性を実現した超高分解能位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20mm 』『 40mm 』『 50mm 』ま...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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サブミクロンフィードバックステージコントローラ FC-111
100nm分解能で位置決め!リニアエンコーダによる位置フィードバックで…
サブミクロンフィードバックステージと組み合わせて100nm分解能位置決め装置として使用できます。 ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック(フルクローズドループ)制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。 そのため、再現性が必要な精密検査や研究等で使用されています。 外部機器からコマンドによる通信制御が可能で、測定システムの一部として使用...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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5nm分解能で位置決め!再現性に優れ、可動距離がミリオーダー
■ステージ 最小分解能:5nm(内蔵スケールの読み取り値に対して) ストローク:20mm~50mm 最大移動速度:5mm/sec ■コントローラ 制御軸数:2 最小指令単位:5nm 最大動作速度設定値:30mm/sec(ステージの最大移動速度が優先されます) 制御インターフェース:ジョグコントローラ、緊急...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め 可動範囲最大50mm
■ステージ 最小分解能:1nm(内蔵スケールの読み取り値に対して) ストローク:20mm~50mm 最大移動速度:5mm/sec(UPシリーズ) ■コントローラ 制御軸数:2 最小指令単位:1nm 最大動作速度設定値:6mm/sec(ステージの最大移動速度が優先されます) 制御インターフェース:ジョグコン...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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サブミクロンフィードバックステージコントローラ FC-414
50nm分解能で位置決め!ロングステージ向けコントローラ
サブミクロンフィードバックステージと組み合わせて50nm分解能位置決め装置として使用できます。 ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック(フルクローズドループ)制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。 FC-414はスローダウンセンサとORGセンサの信号入力に対応しています。 ロングスケールサブミクロンフィードバックステージを使用する場...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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10nm分解能で位置決め。スローダウン機能搭載
10nmフィードバックステージと組み合わせて10nm分解能位置決め装置として使用できます。 ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック(フルクローズドループ)制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。 FC-514はスローダウンセンサ信号とORGセンサ信号に対応しています。 10nmフィードバックステージではロングスケールタイプのステージに...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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