【サンプル無料】タイヤの汚れを90％以上除去！『リフトマット』

PR工場内の衛生管理対策に！AGV、配膳車のタイヤ汚れ・異物混入対策に役立…

工場内を移動するハンドリフトやAGV、屋内用フォークリフトなどの、車輪のタイヤ汚れを気にする企業様は少なくありません。既存の粘着紙のタイプは破れたりタイヤに巻き込まれたりと余計なリスクを増やしてしまうことも。 リフトマットは高強度のゲルが巻き込みや破れのリスクを抑え、工場内の床をクリーンに保ちます。 無料サンプルもご用意しております！お気軽にお問い合わせください。 【リフトマットの重要ポ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エクシール 本社

【食品製造業の環境改善】食液用スプレーステーション

PR食品用コーティング剤の飛散や周囲の汚れを防止。ダクト工事不要で設置でき…

チョコレート、離型油、バター、卵、フードカラーなど、 食品用コーティング剤のオーバーミストで、 厨房が霧がかったようになっていませんか？ アネスト岩田では、強力な吸引力でオーバーミストの飛散防止に貢献する 『食液スプレーステーション』を提供しています。 食品向けのスプレー塗布における「床・周辺機器への付着」「視界の悪化」などを防止。 清掃の手間削減や作業環境の改善に貢献します。...

メーカー・取り扱い企業： アネスト岩田株式会社

メンソン油

ハッカ精油を分留精製！香料や食品添加物などの規格に適合する製品をご紹介

東洋薄荷工業が取り扱う『メンソン油』をご紹介します。 当製品は、ハッカ精油を分留精製し、メンソーン部を調製したもので、 85％、90％を規格としています。 当社では、この他、局方・食添等の規格内で使用用途に合わせた 特殊加工品をご提供。ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■ハッカ精油を分留精製...

メーカー・取り扱い企業： 東洋薄荷工業株式会社

金剛化学株式会社　受託合成のご案内

様々なKeyTechnologyを駆使してGMP対応下、種々の受託合成…

金剛化学株式会社では、GMP対応下、種々の受託合成サービスを ご提供しております。 超低温反応は-90℃まで対応し、高温反応は220℃まで対応可能。 C-C結合形成例としてNaNH2を用いたアルキル化反応やハミック反応 （高温反応）、またC-O結合・C-N結合形成例として脱水エーテル化反応 ...

メーカー・取り扱い企業： 金剛化学株式会社 本社・工場

モンモリロナイト『ポーラゲル』有機ベントナイト

白色度が高く、安全性の高く幅広い用途で利用可能なベントナイト精製品

【製品規格】 ■合格基準：CTFA&USP/NF ■白色度（G.E）：85～90 ■水分：8.0%以下 ■乾燥粒度：200メッシュ：99.0%パス ■pH（分散溶液濃度）：9.0～10.0（5%分散液） ■粘度（分散溶液濃度）：40～200cps（5%分散液） ■微生...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ボルクレイ・ジャパン 事業開発室

水分散「コア・コロナ型微粒子」

放射状に親水性ユニットを配置した形状のコア・コロナ型徴粒子

］ ○製品粘度：5mp・s ○製品pH：約7 ○有効成分：約30％ ○平均粒子径：約80nm ○ゼータ電位：+50mV ［品名：アニオン ナノアタッカー A-MSA21］ ○製品粘度：90mp・s ○製品pH：約7 ○有効成分：約40％ ○平均粒子径：約140nm ○ゼータ電位：-40mV ［品名：ノニオン ナノアタッカー N-MSG11］ ○製品粘度：3.5mp・s ...

メーカー・取り扱い企業： センカ株式会社

株式会社特殊免疫研究所　事業紹介

どこよりも早く医療現場へ貢献します

■抗ヒトグリコホリンAモノクローナル抗体（マウス） ■抗ヒトグリコホリンBモノクローナル抗体（マウス）　他 〔その他〕 ■抗マウス RBP-Jκモノクローナル抗体（ラット） ■抗ヒトHSP90αモノクローナル抗体（マウス） ■抗ヒトAFP モノクローナル抗体　抗原決定基 a（マウス）　他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社特殊免疫研究所

ベーガン通商株式会社　事業紹介

有機酸類・食品用製剤・電子材料薬品類など豊富なラインアップ！

【取扱品目】 ■有機酸類 　・L型発酵乳酸(90%・88%・50%) 　・L型発酵乳酸カルシウム 　・L型発酵乳酸ナトリウム(60%・50%)　他 ■自社開発食品用製剤 　・機能性製剤 　・日持向上製剤 　・アルコール製剤 ■電子材...

メーカー・取り扱い企業： ベーガン通商株式会社 本社

レジスト剥離液『アンラスト M10』

浸漬法、スプレー法にも対応！基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良…

。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を 防止できます。 【処理条件】 ■濃度：原液処理又は純水にて希釈使用 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト M601』

浸漬法、スプレー法に対応！浸透性が高いため、細部まで剥離が可能！

20kg缶／ドラムでご用意しています。 浸透性が高いため、細部まで剥離が可能。浸漬法、スプレー法に対応できます。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト M6』

ポジ型レジストの剥離用途に！浸漬法、スプレー法に対応できます

ーリーでご用意。 ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプレー法に 対応できます。 【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト No.1D』

水溶性レジスト剥離剤に！アルミニウム基盤にも対応可能なレジスト剥離液

溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。 20kg缶／ドラム／ローリーでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所