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高周波解凍装置 ※大量処理の連続送り~中型/小型タイプまで対応
PRさまざまな改善を実現してきた高周波解凍装置を展示実演予定!【6月4日~…
食品業界へは長年、大型連続送りタイプから小型タイプまで 高周波解凍装置を導入いただいております。 【高周波解凍装置 特長】 ■20分から30分という短時間での解凍 ■厚みのある内部も表面と同時に解凍できる(電波にいる内部昇温現象) ■ドリップロスの削減 ■品質保持した解凍ができる ■フィルム包装材や段ボールごと解凍できる 山本ビニター株式会社は、東京ビッグサイトで開催される...
メーカー・取り扱い企業: 山本ビニター株式会社
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KR C5コントローラーは、極小の空間で最高のパフォーマンス、接続性、…
コンパクトでオープンかつ柔軟な小型ロボット用プラットフォームは、既存のオートメーション環境にシームレスに統合することができます。さまざまなKUKAソフトウェア製品によって、異なるアプリケーションを素早く実現することができます。KR C5 microは、セル / ライン統合のための最新のフィールドバス規格もサポートしています。 ...小型ロボットコントローラー KR C5 microには、未来の課題...
メーカー・取り扱い企業: KUKA Japan株式会社
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ホットメルト押出システム STEER HMES <製薬向け>
精度の高い温度管理システムによる、高品質なホットメルト押出
製薬アプリケーション用、STEER社製ホットメルト押出システム HMESは、向回転の完全ワイピング2軸スクリューとクラム・シェル型バレルで構成されています。 押出機の主要な機能は混合、均質化と脱気作用です。 このモジュール型設計により、異なるアプリケーションに対応するインテーク、混合や計量ゾーンのそれぞれの構成を可能にするスクリュー・エレメントを選択することができます。 柔軟な連...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社STEER JAPAN
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ALD(アトミックレイヤーデポジション) アプリケーション例
ALD(アトミックレイヤーデポジション) アプリケーション例を写真付き…
当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、アプリケーション例を写真でご紹介しています。 【アプリケーション例】 ■トレンチの成膜 ...
メーカー・取り扱い企業: PICOSUN JAPAN株式会社
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原薬・医薬中間体の生成反応プロセス後の不純物除去を高速ろ過処理。密閉状…
『ロータリーフィルター』は、クロスフローろ過を応用した高いろ過性能で、高速・長時間連続運転ができるろ過装置です。 洗浄ムラがなくスラリーの高純度化が可能で、密閉構造により異物混入防止・作業環境改善を提供します。 【特長】 ■反応後の不純物除去目的に 対象物を乱流状態で水置換(洗浄)するため、ムラのない不純物除去ができます。クロスフローろ過による高速処理で処理時間が短縮できます。 ■...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社広島メタル&マシナリー ケムテック事業部
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