• エッチング装置『MS-3030LWE』 製品画像

    エッチング装置『MS-3030LWE』

    局所的なエッチング領域を形成!走査することによる高精度形状創成

    『MS-3030LWE』は、局所的な液相エッチング領域を速度制御走査する ことにより任意な形状創成を行うことができる数値制御ローカルウェット エッチング装置です。 非接触な化学的無歪加工法なので、振動などの外乱に対して鈍感。 加工量...

    メーカー・取り扱い企業: 明昌機工株式会社

  • 【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置 製品画像

    【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    00W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー <30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWind...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 小型装置|開発装置|試験装置のご相談は製造実績40年の当社まで! 製品画像

    小型装置|開発装置|試験装置のご相談は製造実績40年の当社まで!

    小型装置のカスタム設計・製作に対応しています!お客様のご使用用途、ご要…

    【開発装置事例】 <エッチング装置> ■ワークの裏面の処理方法をスプレー方式・ディップ方式にするなどご要望にお応え ■ディップ方式の場合、液中スプレー方式やバブリング方式を併用した実験機の製作実績もある <洗浄装置...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社NSC エンジニアリング本部

  • 多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】 製品画像

    多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    00W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー <30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWind...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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