紫外線殺菌装置　紫外線ランプ搭載水殺菌装置　展示会出展7/30~

PR第3回 国際発酵・醸造食品産業展にぜひご来場ください 紫外線（ＵＶ）殺…

東芝ライテックでは食品・飲料の製造をはじめ、様々な用途の水処理で活躍する、 紫外線ランプを搭載した『水殺菌装置』をラインアップしています。 装置の種類が豊富で、様々なシーンに適用可能です。 装置は、幅広いテストを経て、厳格な検証・認定試験にも合格した 信頼性や品質の高いものばかりを取り揃えています。 【ＵＶを使用した水処理のメリット】 ■熱や化学薬品を使わずに殺菌が可能 ■設...

メーカー・取り扱い企業： 東芝ライテック株式会社 次世代ソリューション事業本部　ＵＶ水殺菌システム部

解砕機（ダマほぐし機）ランデルミル

PR工程中に発生する二次凝集品の造粒物（ダマ）をほぐします！ 低速回転の…

工程中に発生する二次凝集品の造粒物をほぐします！ ランデルミルは粉体処理の中間工程、特にふるい分け・混合・貯蔵・計量・充填操作など単位操作のコンディショニングにも有効です。 さらに、分解・洗浄が容易なのでサニタリー性を要求する食品・医薬品・化学薬品などの解砕に好適です。 【特長】 ・シンプルなワンローラータイプ ・工具なしで分解、組み立てが可能 ・密閉構造で、粉漏れがない ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社徳寿工作所

高出力レーザー装置の冷却『ThermoFlexシリーズ 』

循環ポンプと電源仕様の選択、さらに各種オプションの装備により、多様なレ…

注水口と見易いレベルインジケーター ○空冷式/水冷式モデルが選択可能(TF 900、15000、20000 は空冷のみ) ○通信インターフェースをはじめ多様なオプションを用意 ※詳細は、カタログをダウンロードするかお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

冷却水循環装置『ThermoChillシリーズ 』

シンプルデザインで使いやすさに徹したチラー

ermoChill 2 のみマグドライブポンプが搭載可能 ○RS232 シリアルコミュニケーションを用意 (オプション) ○ロッキングキャスターを標準装備 ○CE 対応 ※詳細は、カタログをダウンロードするかお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

スマートチラー『ACCELシリーズ』

省エネルギー設計の新型温度制御システムの採用により、省電力と低騒音を実…

【簡単給水操作】 フロントローディング方式の給排水ポートから専用ファンネルを用いて簡単に給水可能 【安全機構】 低水位安全機能（Low Level）が標準装備 ※詳細は、カタログをダウンロードするかお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

冷却水循環装置　熱交換式チラー『SYSTEMシリーズ』

１次冷却水量は最小限にコントロールされるため、ランニングコストが抑えら…

で、冷却ラインにおける様々な汚染物質による問題点を克服します。 【ラインナップ】 ○SYSTEM-1 ○SYSTEM-2 ○SYSTEM-3 ○SYSTEM-4 ※詳細は、カタログをダウンロードするかお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

低振動・低騒音ペルチェチラーThermoRack800

レーザーの温度制御に最適！

0～900W＠20℃(周囲温度20℃) タンク：0.8L 接液部材質：アルミニウムまたは銅・真鍮、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L480×W510×H270(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

低温バスサーキュレーター VersaCool

コンパクトながら十分なワークスペースを確保

・インバーター圧縮機、ステッパーバルブ、スピード調節可能なDCファン 採用して省エネルギー運転を実現。 ・操作性に優れた5.7インチカラータッチスクリーン装備。 ※詳しくは、カタログをダウンロードするかお問い合わせください。 ...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

小型レーザー装置に最適！ペルチェチラー　UCシリーズ

超小型！低振動・低騒音・高い温度安定性。小型レーザー装置の温度制御に最…

●詳しい製品スペックはカタログダウンロードよりご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

プラズマエッチャーチラー ThermoRack1201/1801

半導体製造工程のプラズマエッチングに好適！消費電力最大93％削減！騒音…

℃ 　　　　　　　　　　　　　　 <Low Flow>3400W@20℃ 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L483×W610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

プラズマエッチャーチラー　NIKOLA3K/5K

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

冷却水循環装置『ThermoFlexシリーズ 』

循環ポンプと電源仕様の選択、さらに各種オプションの装備により、多種多様…

口と見易いレベルインジケーター ○空冷式/水冷式モデルが選択可能(TF 900、15000、20000 は空冷のみ) ○通信インターフェースをはじめ多様なオプションを用意 ※詳細は、カタログをダウンロードするかお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

温度制御チラー『ThermoRack1201』　

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

：1340W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：5.7L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L483×W610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

低振動・低騒音ペルチェチラー『ThermoRack401』

低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適！消費電…

力：420W＠20℃(周囲温度20℃) タンク：1.0L 接液部材質：アルミニウムまたは銅・真鍮、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L480×W530×H180(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

温度制御チラー　『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

フロン対策はお済みですか?『ThermoRack1201』

フロンガス不使用のペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエッチングに…

：1340W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：5.7L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W483×D610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack1801』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

W＠20℃ 加熱能力：3000～3400W＠25℃ タンク：5.7L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L483×W610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack1201』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

：1340W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：5.7L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L483×W610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

プラズマエッチャーチラー『ThermoRack1201』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

：1340W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：5.7L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L483×W610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

レーザー装置に最適！ペルチェチラー『ThermoRack800』

レーザーの温度制御に最適！

＠20℃(周囲温度20℃) タンク：0.8L 接液部材質：アルミニウムまたは銅・真鍮、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L480×W510×H270(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

レーザー装置に最適！ペルチェチラー『ThermoRack401』

低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適！ 消…

力：420W＠20℃(周囲温度20℃) タンク：1.0L 接液部材質：アルミニウムまたは銅・真鍮、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L480×W530×H180(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack800』

レーザーの温度制御に最適！

0～900W＠20℃(周囲温度20℃) タンク：0.8L 接液部材質：アルミニウムまたは銅・真鍮、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L480×W510×H270(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー　『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack401』

低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適！消費電…

力：420W＠20℃(周囲温度20℃) タンク：1.0L 接液部材質：アルミニウムまたは銅・真鍮、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L480×W530×H180(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

フロン対策はお済みですか？ 『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社