【書籍】造粒プロセスの最適化と設計・操作事例集（No.2227）

PR【試読できます】★ 各種造粒のメカニズム、プロセス、操作パラメータ設定…

★ シミュレーション、AIを駆使した造粒プロセス最適化、連続生産システムの構築！ －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ■　本書のポイント ●　造粒のスケールアップに必要な操作パラメータの適切な設定 ●　造粒装置・操作におけるトラブルと対策 ●　造粒物の粒度分布・粒子径・流動性・付着性の評価 ●　造粒のリアルタイムモニタリング、固形製剤連続生産システムの構築 ......

メーカー・取り扱い企業： 株式会社技術情報協会

ベンチスケールの連続回転ろ過機　mini CURUPO

PR【新製品】商用スケールの連続回転ろ過機CURUPOのコンセプトを活かし…

mini CURUPO（ミニクルポ）は『トップチャージによる液供給』を 特長とするベンチスケールの連続ろ過機です。 小型ながら密閉性に優れたケーシング内でろ過からケーキ剥離まで 一連のろ過サイクルを切れ目なく自動で行います。 少量のサンプルで検証した連続生産プロセスを商用スケールの CURUPOにそのまま適用できるため、 治験・サンプル供与ステージから量産へのスケールアップも ス...

メーカー・取り扱い企業： 三菱化工機株式会社　産業機械

サブミクロンフィードバックステージシステム（精密位置決め装置）

サブミクロン分解能で位置決め！エンコーダ内蔵で再現性に優れ、20～40…

■ステージ 最小分解能：100nm or 50nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～400mm 最大移動速度：20mm/sec（ストロークや可動タイプにより異なります） ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：100nm...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応5nmフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　リニアエンコーダ内蔵により5nm分…

■ステージ 最小分解能：5nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～50mm 最大移動速度：2mm/sec 対応真空度：10^-4 Pa ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：5nm 最大動作速度設...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

シグマテック株式会社　会社案内

正確性・安全性を考慮し、常に安定したサービスを提供いたします

シグマテック株式会社は、埼玉県飯能市にある、精密位置検出器の製造 および販売や精密位置決め機器の製造および販売等を行っている会社です。 光学式リニアスケールをステージ内部に内蔵し、独自のフィードバック 回路を搭載した「高分解能フィードバックステージシステム」をはじめ、 「真空対応フィードバックステージシステム」などを取り扱っております。 【...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

10nmフィードバックステージコントローラ　FC-514

10nm分解能で位置決め。スローダウン機能搭載

ローズドループ）制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。 FC-514はスローダウンセンサ信号とORGセンサ信号に対応しています。 10nmフィードバックステージではロングスケールタイプのステージにスローダウンセンサが搭載されており、高速にロングストロークを高分解能に位置決めすることができるため、測定データの範囲が広くすることができます。 外部機器からコマンドによる通...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

10nmフィードバックステージシステム（精密位置決め装置）

10nm分解能で位置決め！再現性に優れ、20～200mmストロークのス…

■ステージ 最小分解能：10nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～200mm 最大移動速度：20mm/sec（ストロークや可動タイプにより異なります） ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：10nm ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

5nmフィードバックステージシステム（精密位置決め装置）

5nm分解能で位置決め！再現性に優れ、可動距離がミリオーダー

■ステージ 最小分解能：5nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～50mm 最大移動速度：5mm/sec ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：5nm 最大動作速度設定値：30mm/sec（ステージ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

1nmフィードバックステージシステム（精密位置決め装置）

リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め　可動範囲最大50mm

■ステージ 最小分解能：1nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～50mm 最大移動速度：5mm/sec（UPシリーズ） ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：1nm 最大動作速度設定値：6mm/s...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応サブミクロンフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　サブミクロン分解能で位置決め　可動…

■ステージ 最小分解能：100nm or 50nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～100mm 最大移動速度：2mm/sec 対応真空度：10^-4 Pa ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：100nm or 50...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応1nmフィードバックステージシステム

リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め　可動範囲最大50mm…

■ステージ 最小分解能：1nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～50mm 最大移動速度：2mm/sec 対応真空度：10^-4 Pa ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：1nm 最大動作速度設...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応10nmフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　リニアエンコーダ内蔵により10nm…

■ステージ 最小分解能：10nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～100mm 最大移動速度：2mm/sec 対応真空度：10^-4 Pa ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：10nm 最大動作速...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社