• 【分析事例】Si-IGBTチップのキャリア濃度分布評価 製品画像

    【分析事例】Si-IGBTチップのキャリア濃度分布評価

    フィールドストップ層およびライフタイムキラーのSRA評価

    分布を浅い領域(数100nm)から深い領域(数100μm)までの幅広いレンジで分析が可能です。また、試料表面や指定深さにおける抵抗値の面内分布評価も可能です。 一例として、市販品のSi-IGBTチップを解体し、チップ全体/フィールドストップ層/ライフタイムキラーの深さ方向濃度分布評価と、ライフタイムキラー照射深さにおける抵抗値の面内分布評価をSRAで行った事例をご紹介いたします。 ...

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  • 【分析事例】ウェハ・チップの特定箇所の前処理技術 製品画像

    【分析事例】ウェハ・チップの特定箇所の前処理技術

    目的箇所のみサンプリングし、ウェハを割らずにサンプル作製します

    ウェハ・チップを割らずに小片を抜き出して薄片化し、高分解能TEM観察・分析を行います。 さらに分析したい箇所を残してカットしてサンプルを作製することで、目的箇所をご要望のあらゆる方向からTEM観察・分析し、デ...

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  • 【分析事例】白色LEDのフォトルミネッセンス分析 製品画像

    【分析事例】白色LEDのフォトルミネッセンス分析

    白色LED中のチップ、蛍光体の発光特性の確認

    白色LEDは長寿命・省エネルギーであるため、近年需要が照明用途を中心に急激に増加しています。 白色LEDは青色の半導体チップを電気によって発光させ、その発光によって周囲の蛍光体(主に黄色)を光らせることにより白色を演出しています。そのため、発光特性の向上や劣化原因の調査においては半導体チップ・蛍光体それぞれの発光特性の...

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  • 【分析事例】特殊形状試料のSIMS測定 製品画像

    【分析事例】特殊形状試料のSIMS測定

    固定方法の工夫により特殊な形状でも分析可能

    通常、SIMS測定では数mm角で表面が平坦なチップを用いて分析を行いますが、1mm 角以下の小さなチップや特殊な形状の試料についても固定の前処理を施すことで分析が可能です。 微量成分を調べたい試料の中には、微小チップやワイヤー状試料など、通常で...

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  • 【分析事例】Si系IGBTチップ断面の低温顕微PL分析 製品画像

    【分析事例】Si系IGBTチップ断面の低温顕微PL分析

    断面方向からライフタイムキラーの影響を確認することが可能です

    IGBT(絶縁ゲートバイポーラトランジスタ)はパワー半導体モジュールとして、家電用品から産業機器まで様々な製品に使用されています。 IGBTは特性改善のためにライフタイム制御が行われていますが、この制御はドリフト層に欠陥(ライフタイムキラー)を作成することによって行われています。断面からの低温顕微PL分析を行うことによって、ライフタイムキラーに関する知見を得ることが可能です。...詳しいデータは...

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  • 【分析事例】DRAMチップの解析 製品画像

    【分析事例】DRAMチップの解析

    製品内基板上DRAMのリバースエンジニアリング

    代表的なメモリであるDRAMについて製品レベルからTEM観察による素子微細構造解析まで一貫して分析します。 外観観察からレイヤー解析、Slice&Viewを行うことで構造の全体像を把握し、FIB加工位置をナノレベルで制御し薄片形成後にメモリ部の微細構造をTEM像観察しました。...詳しいデータはカタログをご覧ください...

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  • サンプルの送り方 製品画像

    サンプルの送り方

    分析を行うサンプルをMSTにお送りいただく際の送り方をまとめました。

    ◆ウェハ ・元素分析 枚葉ケース・FOSB・チップケースなどでお送りください。 ・有機汚染評価 できれば、同一試料を2枚ご用意いただき、測定面同士を合わせて、アルミホイル艶消し面で、二重に包んでください。 ◆微小片サンプル ピンセ...

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  • SiC Trench MOSFET ディスクリートパッケージ評価 製品画像

    SiC Trench MOSFET ディスクリートパッケージ評価

    ディスクリートパッケージ内部の構造を非破壊で立体的に観察

    他社品調査や異常品検査では、まず内部構造の調査が必要です。X線CTでは、非破壊で試料内部の透過像を取得し、三次元構築することが可能です。本資料では、製品調査の一環としてSiCチップが搭載されたディスクリートパッケージをX線CTで観察した事例をご紹介します。 X線CTによる構造確認後、MSTで実施している物理分析(破壊分析)をご提案します。...

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  • 【分析事例】近赤外VCSELのSMMによるキャリア分布評価 製品画像

    【分析事例】近赤外VCSELのSMMによるキャリア分布評価

    実装品の解体・加工から拡散層の計測までを一貫して行えます

    近赤外VCSEL(面発光レーザー)の実装品を解体して微小なチップを取り出し、断面加工の後にSMM計測を実施しました。 VCSELの開口部を取り囲むように、高抵抗の電流狭窄層が観察されました。また、活性層近傍では材質の異なる膜が積層しており、この組成を反映した...

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  • 【分析事例】パワーデバイスのキャリア濃度分布評価 製品画像

    【分析事例】パワーデバイスのキャリア濃度分布評価

    ドーパントの活性化率に関する評価が可能

    2探針を接触させ、広がり抵抗を測定する手法です(図1)。 キャリア濃度分布を評価することで、ドーパントの活性化状況についての知見を得ることが可能です。 一例として、パッケージ開封後のダイオードチップ表面中央部と外周部(図2)についてSRAを行った事例をご紹介します。...

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  • 【分析事例】CMOSセンサの総合評価 製品画像

    【分析事例】CMOSセンサの総合評価

    スマートフォン部品のリバースエンジニアリング

    市販品のスマートフォンからレンズ、CMOSセンサチップをそれぞれ取り出し、評価した事例をご紹介します。 目的に応じて研磨・FIB加工により、平面、断面を作製し、TEM,SEMにより層構造やレイヤーを確認しまた。さらに、EDXにより膜種の同定を行いま...

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  • 【分析事例】水素終端ウエハの脱ガス分析 製品画像

    【分析事例】水素終端ウエハの脱ガス分析

    最表面、単原子層の水素をTDSで評価可能です

    TDSは試料を昇温し、脱離したガスをイオン化して質量分析を行う手法です。高真空中(1E-7 Pa)で、質量電荷比(m/z) 2~199について分析可能です。 今回は水素終端処理を施したSiチップについて、TDS分析を実施した例をご紹介します。TDSにて、水素終端の水素の脱離を捉えることができました。...

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  • 【分析事例】照明用発光素子の総合評価 製品画像

    【分析事例】照明用発光素子の総合評価

    LEDの解体から蛍光体・LEDチップなど各材料の分析まで行います

    省エネルギー化のキーデバイス照明用LEDについて、市販品を解体し、各材料の組成分析・不具合箇所特定・物理解析・不純物分析など実施します。...詳しいデータはカタログをご覧ください...

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  • 【分析事例】パワーデバイスのドーパント及びキャリア濃度分布の評価 製品画像

    【分析事例】パワーデバイスのドーパント及びキャリア濃度分布の評価

    複合解析で活性化率に関する評価が可能

    不純物の存在、構造的な問題の内在が示唆されます。 Profile Viewerを用いれば、お手元でSIMSのデータとSRAのデータを重ね、解析することが可能です。 一例として、市販のダイオードチップについて、パッケージ開封後のダイオードチップ表面中央部と外周部(図1)および裏面について、SIMSとSRAを行った事例をご紹介します。...

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  • 【分析事例】FT-IRによるポリイミド樹脂の硬化度評価 製品画像

    【分析事例】FT-IRによるポリイミド樹脂の硬化度評価

    官能基の変化を捉えることで樹脂のイミド化率を評価することが可能です

    発に有効です。一例として、ポリイミドのイミド基から、イミド化率を評価した事例をご紹介します。 デバイス上の絶縁膜におけるイミド化率と、耐水性・耐熱性等のデータを比較してのプロセス確認に有効です。チップ、ウエハのいずれの状態でも評価が可能です。...

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