ポンプ | イプロス医薬食品技術

PR水の力で撹拌機を動かす！エアーを使わないので空気が綺麗、電気を使わない…

水道水を作動流にするNADSの水圧モータを使用した撹拌機です。エアーを使わないので空気が綺麗、電気を使わないので環境に配慮した安全・安心な撹拌機です。【NADSとは？】 NADSはNACOL株式会社の新・水圧技術（ADS: Aqua Drive System）を使用したポンプやモータ、リリーフ弁、ソレノイドバルブ等を展開するシリーズ。空圧や電気駆動では難しかった高性能な駆...

メーカー・取り扱い企業：株式会社島崎エンジニアリング本社

無菌室向け二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』

PR高精度計測器を搭載し、低濃度0.05ppm～高濃度1200ppm まで…

当社トラステック愛知が得意とするのは二酸化塩素の高精度の濃度計測と制御管理。その技術を用いて開発したのが、二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』です。除染効果の高い二酸化塩素ガスを用いた除染装置で、精度に優れたガスの濃度測定と、ガスの制御機能を有しています。搭載された高精度計測器により、低濃度0.05～高濃度1200ppm（校正値1000ppm　検知管使用　当社...

メーカー・取り扱い企業：株式会社トラステック愛知本社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

【主仕様】・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源点（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Mode...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

【主仕様】・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・最大基板サイズ：Φ8inch ・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源） ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

nchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源（最大4源）、有機蒸着源（最大4源）、又はΦ2"マグネトロン（最大3基）、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション） ◉ グローブボックス連結仕様（*要仕様協議） ◉ 豊富なオプション：基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc.. ＊その他のMin...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置

小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適蒸着・スパッタ・アニール等全て…

・抵抗加熱蒸着源（最大4源）・有機蒸着源（最大4源）・Φ2"マグネトロンカソード（最大3基）・プラズマエッチング・基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライスクロールポンプオプション） ◉ その他豊富なオプション＊その他の詳細仕様は当社へお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab-SA125A】多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

（最大6）、Φ3"（最大4）・プラズマ電源：RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー＜30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching"技術で基...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…

x 40mm：銅（ニッケル）箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板，他 ◆Model. nanoCVD-8G（グラフェン用）◆ ・グラフェン生成用，真空プロセス制御・ロータリーポンプ標準付属（オプション：TMP, Diffusion or Dry Pump）・ガス供給3系統（標準）・試料加熱ステージMax1100℃ ・Kタイプ熱電対 ◆Model. nanoC...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

nchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源（最大4源）、有機蒸着源（最大4源）、又はΦ2"マグネトロン（最大3基）、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション） ◉ グローブボックス連結仕様（*要仕様協議） ◉ 豊富なオプション：基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc.. ＊その他のMin...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

【主仕様】・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源点（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Mode...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

0ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）・最大基板サイズ：Φ8inch ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

nchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源（最大4源）、有機蒸着源（最大4源）、又はΦ2"マグネトロン（最大3基）、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション） ◉ グローブボックス連結仕様（*要仕様協議） ◉ 豊富なオプション：基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc.. ＊その他のMin...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

（最大6）、Φ3"（最大4）・プラズマ電源：RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー＜30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching"技術で基...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社