ガラス基板などへの対応可　成膜加工（PVD）

１枚からの成膜や異形サイズの基板への成膜も対応可能

PE-CVD成膜の受託加工を中心にスパッタ、イオンプレーティング、蒸着、 EB蒸着による成膜も行っております。 大口径基板への成膜も可能なターゲットもございますので、 お気軽にお問い合わせください。 その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社

マスクの製作からパターニングまでの一貫製作　「パターニング」

小数枚の加工への対応可。シリコンウエーハ以外の基板投入可能。

6インチのMEMS加工を中心に展開をしておりますが、 8インチ、12インチへの部分的なパターニングの対応も可能です。 基板サイズ、パターン仕様に応じて装置を選定します。 １枚からの対応も可能です。 フォトリソ（アライナ、KｒＦ、ＥＢ）やＷｅｔエッチング、ミリング、ＲＩＥに対応しております。 シリコン以外の基板も対...

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カスタム対応可　Φ200mm ナノパターンウエーハ

試作開発に最適！半導体業界、液晶、燃料電池など多くの業界で採用されてい…

ので、ご相談下さい。 【パターンサイズ】 ○パターン寸法 →75nm 100nm 150nm 200nm ○パターン形状 →ライン＆スペース、ピラー ○ショットサイズ →4mm□ ○基板 →合成石英、シリコンウエーハ、など ○基板サイズ →Φ200mm ●その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社

ボンディング方式により製造　「SOIウエーハ」

少数枚対応可能で、試作開発に最適！ご希望に応じ、一貫したものづくりが出…

【特長】 ○ウエーハサイズ：Φ100mm、Φ125mm、Φ150mm、Φ200mm ○活性層基板 →面方位：＜100＞　＜111＞　＜110＞ →ウエーハ厚み：10～300μｍ →抵抗値：0.001～1,000（Ω・ｃｍ） →表面仕上げ：ミラー ○BOX →厚さ：0.2～2μｍ ...

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各種熱処理装置

半導体や太陽電池の生産・研究開発設備！独自の高温処理技術による高温熱処…

産設備および 研究開発向けに提供します。 主要製作装置としては、拡散炉、エピタキシャル装置、CVD装置、 エッチング装置、半導体製造設置用コントローラーなどがあります。 また、小口径基板に適した縦型電気炉や、太陽電池製造用横型拡散炉、 横型CVD装置・LC6400シリーズなどもラインアップされています。 【特長】 ■生産設備・研究開発向けの高温処理炉 ■半導体製造や太陽...

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１枚からの成膜が可能　成膜加工（CVD）

低温ＣＶＤは、１００℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィ…

【特長】 ○１枚からの成膜が可能です。 ○低温ＣＶＤは、１００℃以下での成膜が可能です。 ○異形サイズの基板への成膜も対応可能です。 ○樹脂、フィルムなどの材質への成膜も可能です。 ○パターニング後の基板も投入可能です。 ○温度条件を変えての成膜対応可能です。 ○薄膜成膜にて、±4％以下での成膜加...

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