MOE抗体設計アプリケーション

PRコンピューターで抗体モデリング・抗体設計を行うための有用なアプリケーシ…

近年、抗体医薬品開発を効率化するためにインシリコによる合理的な設計が益々重要となっています。 統合計算化学システム MOEは、低分子、ペプチド、抗体、核酸などの広範なスケールの分子の設計に活用でき、創薬モダリティー開発に対応した分子モデリングソフトウェアです。ホモロジーモデリング、タンパク質デザイン、バーチャルファージディスプレイ、エピトープマッピング、分子表面解析、物性推算、化学的修飾候補部位...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社モルシス

無菌室向け 二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』

PR高精度計測器を搭載し、低濃度0.05ppm～高濃度1200ppm まで…

当社トラステック愛知が得意とするのは二酸化塩素の高精度の濃度計測と制御管理。 その技術を用いて開発したのが、二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』です。 除染効果の高い二酸化塩素ガスを用いた除染装置で、 精度に優れたガスの濃度測定と、ガスの制御機能を有しています。 搭載された高精度計測器により、低濃度0.05～高濃度1200ppm（校正値1000ppm　検知管使用　当社...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トラステック愛知 本社

サブミクロンフィードバックステージコントローラ　FC-111

100nm分解能で位置決め！リニアエンコーダによる位置フィードバックで…

ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック（フルクローズドループ）制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。 そのため、再現性が必要な精密検査や研究等で使用されています。 外部機器からコマンドによる通信制御が可能で、測定システムの一部として使用できます。...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

10nmフィードバックステージコントローラ　FC-511

10nm分解能で位置決め制御！検査や研究の再現性向上に！

10nmフィードバックステージと組み合わせて10nm分解能位置決め装置として使用できます。 ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック（フルクローズドループ）制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。 外部機器からコマンドによる通信制御が可能で、測定システムの一部として使用できます。 ...型式：FC-511 接続対象ステージ：FS-10...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

フィードバックステージシステム総合カタログ（大気・真空）第5版

リニアエンコーダでナノメートル分解能・高再現性・高保持性を実現！特注製…

タム品の製作も承っております。お気軽にご相談ください。 【大気用システムの特徴】 リニアスケールを内蔵した小型位置決め装置を開発・製造・販売しております。 半導体関連の装置、通信関連、先端研究の光学系などで使用されています。 【真空対応システムの特徴】 創業以来、特注品の製作で得た真空対応に対するノウハウを元に 真空用途で高分解能及び高精度な再現性をご提供致します。 ※...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

長ストロークに対応！精密位置決め装置

長距離（150mm）を細かく位置決め可能！『精密位置決め装置（分解能：…

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージ。 長ストローク（150mm）を細かく（10nm単位※）位置決め可能。 ストロークが長いため、光学実験での光学遅延を作るのに適しています。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性を位置決め後の位置保持性を備えております。 ※フィードバック...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

5nmフィードバックステージコントローラ　FC-611

検査や研究を効率化！5nm分解能で位置決め制御ができます。

5nmフィードバックステージと組み合わせて5nm分解能位置決め装置として使用できます。 ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック（フルクローズドループ）制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。 外部機器からコマンドによる通信制御が可能で、測定システムの一部として使用できます。 ...型式：FC-611 接続対象ステージ：FS-10□0...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

総合フィードバックステージシステムカタログ（大気・真空）第5版

リニアエンコーダでナノメートル分解能・高再現性・高保持性を実現したステ…

どを網羅。 位置決めの事なら何でもご相談ください。 ■大気用システム特徴・説明 リニアスケールを内蔵した小型位置決め装置を開発・製造・販売しております。半導体関連の装置、通信関連、先端研究の光学系などで使用されており、そのノウハウを元にお客様のニーズに応えます。 ■真空対応システム特徴・説明 創業以来特注対応にて得た真空対応に対するノウハウを元に真空用途で高分解能及び高精度...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社