低温ALD装置　CVA series

緻密で均質、かつ均一の厚みの膜が形成可能
　・ほとんどの金属酸化膜に対応可能
　・どのような基板（材質、平坦性、形状等々）でも密着性良く成膜可能
　・用途に応じた膜厚の制御が可能
　・室温で成膜可能

PETボトルコーティング活用例
　・アルコール飲料（軽量化・ロングライフ化）
　・医療・化粧品（容器の低コスト化、意匠性・透明性、酸アルカリ封入）
　・燃料（軽量小型燃料電池、フレキシブル燃料タンク） （詳細を見る）

「気相技術」は、樹脂原料・燃料電池など『新素材・新材料』『エネルギー』、医療センサー・機器など『医療・ヘルスケア』、電子部品・新ディスプレイなど『モバイル端末』『ウェアラブル機器』『オートモーティブ』など多様な分野で活用されています。

また、多様なプロセス・膜厚・膜種で1nm～1000nmの成膜を実現。
蒸着方式やCVD方式、ALD方式、スパッタ方式でコーティングしています。

【特長】
■ALDロボットCVA series
　ALDでは難しいと言われている低温での高品質な成膜が可能
■バレル型ALDロボットCVA-B series
　低温ALD装置とバレル機構の融合
■低温高周波励起DLC成膜装置CVC series
　低温で、グラファイトからDLCまで密着性の良い成膜が可能
■バブリングCVDロボットCVB series
　液体→気体
　低温で、低コスト＆高品質成膜が可能
■IBAD（イオンアシスト蒸着法）CVI series
　IBADによる受託成膜例
　低温での低エネルギー照射を可能にし、タッチパネルの透明導電膜（Zn　O）や高融点金属電極形成の密着性が向上 （詳細を見る）

自社開発のバレル機構による均一撹拌とバラつきのない膜厚・膜質を実現
・粉体材料や極小部品表面に均一に高品質な成膜が可能
・平面ではないワーク形状や他の方法では成膜できなかった材料などにも技術応用可能

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【特徴】
　・従来技術の真空蒸着法に加え、イオンビームを組み合わせた複合技術
　・低温で低エネルギー照射が可能
　・曲面や立体にも成膜が可能

【主な用途】
　・超硬工具用保護膜（c-BN）
　・食品用バリア膜（アルミ）
　・太陽電池用下地膜（アルミ）
　・光学用フィルタ膜（ZrO₂、AI₂O₃等）

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

成膜形状に合わせた動作と塗布ノズルヘッドを組み合わせることで自由自在な成膜が可能。

ヘッド動作プログラムを新設計
・簡単・シンプルにノズル動作位置を設定可能
・ノズル移動シミュレーション表示が可能

塗布ヘッドは用途に合わせて選択可能
・スプレー方式、ディスペンサ方式、ディップコート方式等、プロセスに合わせたヘッドを準備

装置開発だけでなく、プロセス開発・装置調整、最適な冶具提案、最適な成膜レシピ、成膜作製等、成膜に関する受託サービスを提供いたします。

装置販売だけでなく、スプレー塗布の受託もお受けしております。
試作作成も可能です。ワークとご要望をお聞かせください。

※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

『連続プロセス』で工法の違うプロセスもワンストップで対応可能。
生産工程を飛躍的に向上させます！
多様なプロセス・膜種・膜厚が可能

■ドライ
　・スパッタ
　・蒸着
　・CVD
　・ALD
　・DLC
■ウェット
　・ディップ
　・スプレー
　・印刷、転写
　・ダイコーター
　・ディスペンサー

装置開発だけでなく、プロセス開発・装置調整、最適な冶具提案、最適な成膜レシピ、成膜作製等、成膜に関する受託サービスを提供いたします。

装置販売だけでなく、成膜受託もお受けしております。
試作作成も可能です。ワークとご要望をお聞かせください。

※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

高周波と直流負パルスを同時印加
・高周波プラズマは反応容器外から供給
・直流電圧はアークに直結

コンパクトでシンプルデザイン
・加熱源をもたない
・ワークの設置方向に制限なし

グラファイトからDLC まで膜質を連続制御
・高周波パワーで反応制御
・直流電圧値で密着性制御 （詳細を見る）