KrosFlo KR2i RPM システム

PRサイクル時間を短縮！歩留率を向上させることでプロセスの効率性を高めます

当社では、リアルタイムプロセス管理とラボスケールタンジェンシャル フローろ過(TFF)を統合した『KrosFlo KR2i RPM システム』を 取り扱っております。 当システムは、KrosFlo KR2i システムとCTech FlowVPX 可変光路長紫外可視分光光度計を組み合わせ、インライン濃度 モニタリングとエンドポイント制御を備えた自動TFFを提供。 KR2iとFlo...

メーカー・取り扱い企業： レプリジェンジャパン合同会社

化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

プローブに原子を採用した表面分析装置（CAICISSの発展版）

結晶方位・極製は15分で一目瞭然！帯電の影響がなく安定した表面分析が可…

『TOFLAS-3000』は、金属、半導体、絶縁体などの固体表面の結晶構造および 元素分析を同時に行うことができる原子散乱表面分析装置です。 本装置は同軸型直衝突イオン散乱分光法（CAICISS）を発展させ、電気的に中性なHe(Ne、Ar)等の原子ビームを探査プローブとして用いている為、絶縁体でも帯電の影響がなく安定した表面分析が可能です。 結晶表面構造解析では、入射角の全方位スキャ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル

表面分析機器『TOFLAS-3000』

電気的に中性な原子ビームを採用！帯電の問題を解決した表面分析機器

『TOFLAS-3000』は、入射プローブとしてイオンではなく電気的に中性な 原子ビームを用いた飛行時間型原子散乱表面分析装置です。 本製品を使用することにより、半導体，金属のみならず絶縁体表面の 組成および原子配列の解析も可能です。 また、帯電（チャージアップ）の問題も解決します。 【特長】 ■金属、半導体はもとより絶縁体の表面分析にも威力を発揮 ■試料表面の元素の同定が可...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル

クラスター真空成膜・評価装置紹介

測定・研究したい要素をそのまま！お客様のニーズに合致させることが可能な…

『クラスター真空成膜システム』は、試料自動搬送システム、サンプル交換室、 サンプルストッカー室、スパッタ室に加え誘電率・磁性測定、ホール測定装置 などの分析機を備えた評価室から構成されます。 また、中央の試料自動搬送チャンバーは、各成膜室ならびに分析室と接続。 試料を真空中でロボット搬送し試料作製から評価までを自動で行います。 尚、すべてのチャンバーは高真空環境で接続させることも...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル

飛行時間型原子散乱表面分析装置『TOFLAS-3000』

結晶方位・極製は15分で一目瞭然！帯電の影響がなく安定した表面分析が可…

『TOFLAS-3000』は、金属、半導体、絶縁体などの固体表面の結晶構造および 元素分析を同時に行うことができる原子散乱表面分析装置です。 本装置は同軸型直衝突イオン散乱分光法（CAICISS）を発展させ、電気的に中性なHe(Ne、Ar)等の原子ビームを探査プローブとして用いている為、絶縁体でも帯電の影響がなく安定した表面分析が可能です。 結晶表面構造解析では、入射角の全方位スキャ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル