除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

「第25回 国際粉体工業展 POWTEX2024」出展のご案内

PR食品や電池・電子材料など各テーマに沿って、粉粒体装置を使用したアプリケ…

株式会社パウレックは、東京ビッグサイトにて開催される「第25回 国際粉体工業展 POWTEX2024」に出展いたします。 当社のブースでは“POWREXFESTA"と題しまして、パウレックオールスターによる ブース内セミナーを実施。業界別・機種別の各種テーマに沿って、当社装置を使用した アプリケーション事例をご紹介させていただきます。 ドリンクやお菓子もご用意し、学園祭さながらの...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パウレック

原子間力顕微鏡『Park NX-Wafer』

自動欠陥検査機能、低ノイズ、高スループット！正確な原子間力顕微鏡をご紹…

『Park NX-Wafer』は、欠陥のイメージングと解析を完全自動で行う AFM計測手法により、欠陥検査における生産性を1,000％向上する 原子間力顕微鏡です。 正確でハイスループットのCMPプロファイル測定のための低ノイズ 原子間力プロファイラー。 サブÅの表面粗さを極めて正確に測定し、チップ間のバラツキを最小化します。 【特長】 ■欠陥のイメージングと解析を完全自...

メーカー・取り扱い企業： パーク・システムズ・ジャパン株式会社

原子間力顕微鏡(AFM)『Park NX-3DM』

NXテクノロジーを導入した完全自動化産業用AFM

『Park NX-3DM』は、オーバーハングプロファイル、高解像度側壁 イメージング、および臨界角測定用に設計された完全自動AFMシステムの 原子間力顕微鏡(AFM)です。 傾斜Zスキャナを備えた特許取得済みの分離型XYおよびZスキャン システムにより、正確な側壁分析における通常およびフレアチップ法の 課題を克服します。 【ウエハファブ用で必須なツール】 ■高度で正確なPar...

メーカー・取り扱い企業： パーク・システムズ・ジャパン株式会社

原子間力顕微鏡(AFM)『Park NX-Hivac』

故障解析アプリケーションに適した真空環境スキャニング

『Park NX-Hivac』は、故障解析および環境の影響を受けやすい材料向けの 高真空原子間力顕微鏡(AFM)です。 高濃度ドープの半導体の正確な故障解析が可能。 また、当社のすでに認められた技術を用いることによって、高分解能で 高い再現性と操作性による低ノイズ計測を可能にした製品です。 【故障解析の為の高真空計測】 ■高速スキャンのための進化したStepScan自動機構...

メーカー・取り扱い企業： パーク・システムズ・ジャパン株式会社