除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

【ウェビナー開催】レジンの充填不要なメンブレンクロマトグラフィー

PRレジンの充填不要。すぐに使用できる、Sartobind Rapid A…

ダウンストリームプロセス精製工程を改善することで製品コストを削減することが可能であるため、ダウンストリームプロセスの生産性を向上させることに大きな関心が寄せられています。本ウェビナーでは、アフィニティー・レジンの充填が不要で、プロセス時間の短縮が実現できるSartobind Rapid Aの特長をご紹介いたします。 【セミナー概要】 ■開催日程：11月21日(木) 15時～(約20分) ■開催方...

メーカー・取り扱い企業： ザルトリウス・ステディム・ジャパン

プローブに原子を採用した表面分析装置（CAICISSの発展版）

結晶方位・極製は15分で一目瞭然！帯電の影響がなく安定した表面分析が可…

『TOFLAS-3000』は、金属、半導体、絶縁体などの固体表面の結晶構造および 元素分析を同時に行うことができる原子散乱表面分析装置です。 本装置は同軸型直衝突イオン散乱分光法（CAICISS）を発展させ、電気的に中性なHe(Ne、Ar)等の原子ビームを探査プローブとして用いている為、絶縁体でも帯電の影響がなく安定した表面分析が可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル

表面分析機器『TOFLAS-3000』

電気的に中性な原子ビームを採用！帯電の問題を解決した表面分析機器

『TOFLAS-3000』は、入射プローブとしてイオンではなく電気的に中性な 原子ビームを用いた飛行時間型原子散乱表面分析装置です。 本製品を使用することにより、半導体，金属のみならず絶縁体表面の 組成および原子配列の解析も可能です。 また、帯電（チャージアップ）の問題も解決します。 【特長】 ■金属、半導体はもとより絶...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル

飛行時間型原子散乱表面分析装置『TOFLAS-3000』

結晶方位・極製は15分で一目瞭然！帯電の影響がなく安定した表面分析が可…

『TOFLAS-3000』は、金属、半導体、絶縁体などの固体表面の結晶構造および 元素分析を同時に行うことができる原子散乱表面分析装置です。 本装置は同軸型直衝突イオン散乱分光法（CAICISS）を発展させ、電気的に中性なHe(Ne、Ar)等の原子ビームを探査プローブとして用いている為、絶縁体でも帯電の影響がなく安定した表面分析が可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル