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特殊冷風(干物)乾燥機『KFR-5000W/KF-2000』
PR水洗いOK!「テイストモディファイア」の2020年改正食品衛生法HAC…
テイストモディファイア(R)(特殊冷風(干物)乾燥機)は、 乾きムラを無くし、均質仕上げの高速乾燥を実現 又、生で食べる食材の除菌・乾燥にも適した HACCP対応仕様となっています。 【特長】 ◼ウイングレットファンと 4 面循環送風で乾きムラを解消し、 誰もが同一のものをつくれる ◼乾燥と冷蔵除湿機能のW機能 ◼水銀レスのUVオゾンランプによる除菌・消臭 ◼カートセパレ...
メーカー・取り扱い企業: GSK株式会社 大阪本社
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LNPの製剤開発からGMP製造までをサポートする多彩なツール
PR製剤条件のスクリーニングからスケールアップ、GMP製造までをシームレス…
弊社のLNPツールは、合成から特性解析までにかかる様々な手間と時間を軽減し、製剤化を加速化します。 【LNP合成】 ・Sunシリーズ:処方・製造条件スクリーニングからスケールアップ、GMP対応製造まで、同じポンプとマイクロ流路チップを使用してシームレスに実行・移行可能です。 ・Sunscreen:スクリーニングのために開発された装置。96種類の条件検討を完全自動で実行。 ・Sunshine:...
メーカー・取り扱い企業: Unchained Labs株式会社
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ご要望のイオン種や深さ、濃度に合わせてシミュレーションが可能です。
お客様のご要望「ご希望の深さと濃度にするにはエネルギーと注入量をどれくらいにすればよいのか」や「ご指定のエネルギーと注入量でドーパントのイオンはどのような深さ分布となるか」に対して、シミュレーションをご提供することが可能です。 (...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター
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各種半導体の様々な目的に合わせて、各種手法で分析が可能!
半導体の微細な形状の観察、結晶性評価、不純物濃度測定、硬度測定、故障解析など 各種手法により研究開発のサポートを致します。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター
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2点の問題を解決するために濃度既知の試料を3点以上分析。
歪 Si デバイスに用いられる組成比勾配を持つ Si(1-x)Gex膜の深さ方向に 対するGeの濃度分布を正確に定量するのに SIMS(2 次イオン質量分析法)が 用いられます。 SIMS で Si(1-x)Gex 膜を分析する際に 2 点解決しなければならない問題があり、 1点目はSi...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター
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高精度計測器を搭載し、低濃度0.05ppm~高濃度1200pp…
株式会社トラステック愛知 本社