粉体溶解機『パウダーミキサー』※ホモジナイザーいらずで乳化まで！

PR粉体と液体を分散・溶解・乳化。真空タンクの設置で脱気運転も可能！医薬品…

紛体溶解機『パウダーミキサー』は、強力な剪断力を持つシャーポンプと 真空化でも安定した液送りを可能とするロータリーポンプを組み合わせ、 粉体と液体を効率的に分散・溶解し、乳化まで行えるシャーポンプ循環システムです。 食品分野では、 高い乳化力とサニタリー構造を備え、真空タンクを使用することで循環時に ピックル内に発生する気泡を除去しながら、粉体と液体の効率的な乳化を実現。 食品分野...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒガシモトキカイ

恒温真空プローバー

小型TMP排気セット装備！最大4プローブまで増設可能なプロービングシス…

当製品は、軽量化のため、ベースはアルミ材を使用している、上下に 真空吸着付きの『恒温真空プローバー』です。 温調はサイクル制御2系統。 ステージ部が温調機能があり、真空雰囲気・ガス雰囲気・温度可変といった 環境下で測定ができるシステムとなってます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

真空ホットプレス

真空中もしくはガス雰囲気中でプレスする真空ホットプレスをご紹介します

株式会社和泉テックで取り扱う『真空ホットプレス』をご紹介します。 加重MAX 1.5t（油圧式）。 温度はMAX 400℃で上下別制卸可能です。 真空中もしくはガス雰囲気中でプレスします。 空圧プレスの場合は、1tも...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

真空(ガス置換)加熱炉

Max1000℃！石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱が可能で…

株式会社和泉テックで取り扱う『真空(ガス置換)加熱炉』をご紹介します。 ガスはO2に加えてArも使用可能。 試料を早く冷却するため炉体は可動式です。 石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱ができます 【仕様...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

極低温ホール測定システム

真空中もしくはガス雰囲気中でプレスする極低温ホール測定システムをご紹介…

度において試料を冷却制御する事が可能な 『極低温ホール測定システム』です。 又標準装備の温度コントローラーは、GP－IBにより既存装置との データー通信も行える様になっております。 真空中もしくはガス雰囲気中でプレスします。 【特長】 ■4.2K～300Kの温度において試料を冷却制御する事が可能 ■標準装備の温度コントローラーは、GP－IBにより既存装置との 　データー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

水素還元雰囲気炉『lZR-1600』

6打点式（ハイブリット型）！水素排気に安全性が設計されている水素還元雰…

【仕様（抜粋）】 ■ヒーター内寸法：140mmW×140mmH×170mmD ■均熱熱処理部：60mmW×60mmH×140mmD ■温度：最高1600℃　常用1500℃ ■真空度：×10^-4Pa（常温、空炉） ■雰囲気：真空、不活性ガス（H、N、Ar） ■ヒートエレメント：タングステンロッド ヒーター ■ヒートシールド：モリブデン ■制御：デジタルプログラムPI...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

2次元抵抗加熱蒸着装置

蒸着源はボートタイプ！基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任…

抗加熱により蒸着出来る 装置です。 蒸着源はボートタイプで、基板は支柱上のプレートに取付けられており、 高さは任意に変更可能。 排気系は、DPとRPを併用しておりますので、短時間で高真空が得られます。 【特長】 ■SUS製上チャンバーには、CF70ポートが2式、50φの窓が2式、 　又下チャンバーはCF70ポートが6式標準装備されている ■上チャンバーは電動にて上下する...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

電気炉『高温ガス雰囲気炉』

デジタルプログラムPID制御を採用！下部から試料挿入可能な実験用炉です

【仕様】 ■型式：IZU－HGH－2500 ■ヒーター内寸法：φ140mm × 300mmH ■均熱熱処理部：φ50mm × 100mmH ■温度：常用 1500℃ ■真空度：×10^-1Pa ■雰囲気：Ar O2 ■ヒートエレメント：SiCヒーター ■制御：デジタルプログラムPID制御 ■排気系：ロータリーポンプ ■真空計：ピラニー真空計 ■電源：20K...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

小型加圧ホットプレス

高分子材料用の簡易なホットプレス！軽量化のため、ベースはアルミ材を使用…

当製品は、手動油圧ジャッキで加圧する『小型加圧ホットプレス』です。 温度は最高300℃までかけられます。 上下に真空吸着付き。軽量化のため、ベースはアルミ材を使用しています。 温調はサイクル制御2系統です。 【特長】 ■高分子材料用の簡易なホットプレス ■手動油圧ジャッキで加圧 ■温度は最高300℃...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

小型スパッタ装置

対応基板は最大φ1インチまで処理が可能！デュアルガスノズルを備えた装置

『小型スパッタ装置』は、1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載した 実験用高真空小型制膜装置です。 放電用にマッチングユニット付きのRF電源を一台装備。 酸化反応スパッタリングに対応できるデュアルガスノズルを備えます。 また、対応基板は最大φ1インチまで処理が可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

高周波レーザーCVD装置

簡単に試料セットする事が可能！外部ビューポートよりYAGレーザーを入射…

【仕様】 ■排気系：ロータリーポンプ（ターボポンプ御要望の場合は別途御相談下さい） ■試料ステージサイズ：20 × 40 ■試料ステージ回転機構：ステッピングモーター（回転速度可変可能） ■真空計：ピラニー真空計 ■レーザー入射装置：位置決め機構付き（X・Y・ゴニオ機構） ■チャンバー水冷機構付き ※YAGレーザーは価格には含まれておりません。 ※詳しくは外部リンクページをご覧...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

プラズマCVD装置

漏洩マイクロ波検出用も付属！試料の取付は、下部よりモーターによる上下機…

【仕様】 ■マイクロ波出力：1.5Kw ■排気：ロータリーポンプ ■導入ガス：5系統（配管加熱付き） ■温調：試料ステージ試料加熱（4系統） ■配管加熱（2系統） ■真空計：バラトロン ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

電気炉『高温試料急冷試験炉』

急冷が可能！試料サイズはφ30x60（白金ワイヤー吊り下げ式）です

【仕様】 ■真空：10^-4Pa ■ガス導入：2系統プログラム温度調整器 ■試料サイズ：φ30 x 60（白金ワイヤー吊り下げ式） ■温度：Max1500℃（SiCヒーター） ■電源：3相200V 60A ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

酸化シリコン成膜CVD装置

3インチウェハ対応！コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しま…

【仕様】 ■真空排気：ターボポンプ ■ヒーター：SiC　MAX1200℃ ■水冷：外周蛇管　上フランジジャケット ■外寸：φ360 x 500H ■内面処理：電解研磨 ■ガスケット：金メッキ銅ガスケット ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック