マイクロリアクターULREA（アルリア）シリーズ

PR各種ナノ粒子の超精密合成、大量生産ができます。

ULREA（アルリア）シリーズは2枚のディスク間にできるマイクロメートルオーダーの間隙を反応場、晶析場として応用した湿式法・連続式の反応装置です。 金属、合金、酸化物、複合酸化物、有機顔料など各種ナノ粒子の超精密合成・表面処理と大量生産が容易に実現できます。 その他、マイクロスフェア、ナノスフェアも容易に創製可能です。 【ULREA（アルリア）の特長】 1. 確実なスケールアッ...

メーカー・取り扱い企業： エム・テクニック株式会社

【乾燥テスト対応！】オーダーメイドの乾燥機

PRしらす加工場の６０%に納品実績あり！オーダーメイド乾燥機

当社は、しらす工場の約6割に納品実績があり、多種多様な乾燥機を製造しております。 製茶加工における熱風乾燥の機器・装置をはじめとして、水産加工・食品加工のプラントなど、幅広い業種で熱風乾燥機の技術を生かした製品を創り出しています。 例えば、食品加工の分野は、お客様の製造する食品ジャンルは様々。インスタント食品の野菜や薬味、穀物などの乾燥機や、練り製品の加熱冷却装置など、いずれも製品はオーダ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社河村バーナー製作所

リニアエンコーダ内蔵　高分解能位置決め装置

【新型ステージコントローラ】とリニアエンコーダを内蔵した【フィードバッ…

機能追加 ・USBインターフェース追加 ・パラメータ数増加 などの追加により。多機能になりフィードバックステージの状態把握や細かなパラメータを設定することができます。 [高分解能位置決め装置の特長] フィードバックステージと新型フィードバックステージコントローラで構成されています。 フィードバックステージ内蔵のリニアエンコーダで検出する位置情報をもとにフィードバック制御するため高分...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応5nmフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　リニアエンコーダ内蔵により5nm分…

光学式リニアエンコーダに対して、5nm分解能と±10nmの再現性を実現した超高分解能位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

Z軸用サブミクロンステージ FS-1005Z/1010Z

【精密位置決め装置】50nm又は100nmの高分解能・高い位置決め再現…

光学式リニアスケールを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

1nmフィードバックステージシステム（精密位置決め装置）

リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め　可動範囲最大50mm

光学式リニアエンコーダに対して、1nm分解能と±2nmの再現性を実現した超精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応サブミクロンフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　サブミクロン分解能で位置決め　可動…

ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、サブミクロン分解能（0.1μm or 0.05μm）の再現性を実現した精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応1nmフィードバックステージシステム

リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め　可動範囲最大50mm…

光学式リニアエンコーダに対して、1nm分解能と±2nmの再現性を実現した超精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応10nmフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　リニアエンコーダ内蔵により10nm…

ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、10nm分解能と±20nmの再現性を実現した精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

10nmフィードバックステージ FS-1050PX/XY

【精密位置決め装置】10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後…

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、 位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社