無菌室向け 二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』

PR高精度計測器を搭載し、低濃度0.05ppm～高濃度1200ppm まで…

当社トラステック愛知が得意とするのは二酸化塩素の高精度の濃度計測と制御管理。 その技術を用いて開発したのが、二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』です。 除染効果の高い二酸化塩素ガスを用いた除染装置で、 精度に優れたガスの濃度測定と、ガスの制御機能を有しています。 搭載された高精度計測器により、低濃度0.05～高濃度1200ppm（校正値1000ppm　検知管使用　当社...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トラステック愛知 本社

高温の排水、そのまま排水にしていませんか？『排熱回収装置』

PR高温の排水を捨てる前に当製品に通すだけ！排水の熱を供給水に移して利用〈…

『排熱回収装置』は、排水が保有する熱量を給水加熱に利用することで、 給水加熱に要する燃料消費削減を目的とした装置です。 排水を伝熱パイプに滴下させるだけで良いため、ポンプ等の動力機器や 安全機器搭載の必要がありません。伝熱パイプに異物の付着しにくい 防汚処理を施しているため、伝熱性能が低下しにくいです。 また、本体の分解、組み立てもとても簡単な構造になっており丸ごと取り外しが可能なため、 伝熱...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ショウワ 本社、東京営業所、名古屋営業所、北陸営業所

成膜・熱処理装置ラインナップ

半導体などの工程加工に適した各種成膜、酸化膜形成、アニール処理に適した…

SiCのアニール前処理として最適なカーボン成膜をPBIIで、アニール処理をRTAで、アニール前後処理を弊社で行うことができます。...成膜 ・PBII（Plasma Based Ion Implantation) 　カーボン成膜が可能 ・スパッタ 　電極膜の成膜が可能 熱処理 ・RTA（Rapid thermal annealing） 　縦型高周波誘導加熱方式により、～1800度...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

イオン注入装置のラインナップ

低エネルギーから8MeＶまでの多彩な注入装置を完備しております。

室温でのイオン注入はもちろん、世界で数社のみが対応可能な高温でのイオン注入では、トップレベルの技術力と設備を誇ります。 弊社では、チップ小片から300ｍｍ（12インチ）径ウエハまで多種多様なサンプル及び、お客様からのご要望に合わせて各種条件での注入処理が可能です。注入条件は10～8,000KeVまで、室温から高温加熱（600℃）まで、イオン種は約60種の対応が可能です。...※詳しくはPDF...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

今さら聞けない【半導体の基礎知識】～イオン注入～※イラスト解説

半導体の特性の決め手となるイオン注入の一連の流れをイラストを用いて解説…

当資料では、イオン注入の基礎として、目的、装置、その評価についてイラストにてご紹介しています。 株式会社イオンテクノセンターでは、研究開発のためのサンプル作製から 量産請負まで、半導体の前工程のプロセスの受託サービスを行っています。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター