薄型恒温プレート『LABOPAD Series』

PR当製品で快適な作業を！無菌操作やプロテオミクスの処理に好適

『LABOPAD Series』は、直感的に操作可能で、設置スペースを選ばない コンパクトサイズの薄型恒温プレートです。 「LABOPAD-C2」は0～100℃、「LABOPAD-H2」は室温＋3℃～100℃までに 設定できるドライバスインキュベーター。当製品は、厚さが薄いため、 どこでも簡単に持ち運べます。 また、「LABOPAD-C2」は冷却機能が付いていますので、これまでの...

メーカー・取り扱い企業： トスク株式会社(旧十慈フィールド)

ついに販売開始！温風乾燥試験機と新機能搭載の2製品をご案内！

PR『FOOMA JAPAN 2024』に出展！乾燥データ抽出・可視化…

当社は、2024年6月4日(火)～9日(金)に開催される「FOOMA JAPAN 2024」に出展致します。 ついに販売を開始した「温風乾燥試験機」の展示と、新機能を搭載した2製品を技術発表！ ■温風乾燥試験機　型番 : RAD-AD-EC80【展示】 ■横流れ式循環型乾燥機 SKH-10【パネル展示】 ■冷風除湿ユニット搭載試験機【展示（技術発表）】 ■横吹き多段ファン式循環型乾燥...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社木原製作所

フィードバックステージシステム総合カタログ（大気・真空）第5版

リニアエンコーダでナノメートル分解能・高再現性・高保持性を実現！特注製…

当社が設計・製造・販売を行っている、大気用高分解能位置決め装置および 真空対応高分解能位置決め装置(フィードバックステージシステム)の総合カタログです。 フィードバックステージ・フィードバックステージ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

長ストロークに対応！精密位置決め装置

長距離（150mm）を細かく位置決め可能！『精密位置決め装置（分解能：…

可能なステージです。 フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせで10nm分解能の制御を行うことができます。 自社開発したリニアスケールを内蔵していながら、薄型で軽量な設計になっています。 またフルクローズドループ制御により高精度な繰返し位置決めが可能です。 ■詳細は資料請求またはカタログをダウンロードして下さい■...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

Z軸用サブミクロンステージ FS-1005Z/1010Z

【精密位置決め装置】50nm又は100nmの高分解能・高い位置決め再現…

ルを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備え...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

総合フィードバックステージシステムカタログ（大気・真空）

リニアスケールフィードバックで高分解能・高再現性・高保持性を実現したス…

シグマテックが設計・製造・販売を行っている、大気用高分解能位置決め装置及び真空対応高分解能位置決め装置 （フィードバックステージシステム）の総合カタログ。 フィードバックス テージ ・ フィードバックステージコント...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

総合フィードバックステージシステムカタログ（大気・真空）第5版

リニアエンコーダでナノメートル分解能・高再現性・高保持性を実現したステ…

シグマテックが設計・製造・販売を行っている、大気用高分解能位置決め装置及び真空対応高分解能位置決め装置 （フィードバックステージシステム）の総合カタログ。 フィードバックステージ ・ フィードバックステージコントロ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

10nmフィードバックステージ FS-1050PX/XY

【精密位置決め装置】10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後…

可能なステージです。 フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせで10nm分解能の制御を行うことができます。 自社開発したリニアスケールを内蔵していながら、薄型で軽量な設計になっています。 またフルクローズドループ制御により高精度な繰返し位置決めが可能です。 ■詳細は資料請求またはカタログをダウンロードして下さい■...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

Z軸用10nmステージ FS-1005PZ/1010PZ

【昇降ステージ】リニアエンコーダ内蔵により10nmの高分解能・高い位置…

光学式リニアエンコーダを内蔵した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社