• 【人手に頼っていた重筋作業を改善】段ボールケース開梱・取出し装置 製品画像

    【人手に頼っていた重筋作業を改善】段ボールケース開梱・取出し装置

    PR【人手に頼っていた重筋作業を改善】原料段ボールケースの開梱と原料の取り…

    [重労働な原料段ボールケースの開梱作業] 食品工場での原料の荷捌き工程は、重量物の取り扱いや作業環境による身体の負担、怪我の心配があり、省人化及び労務改善の観点から自動化を求める声が高まってきています。また、開梱時に段ボール自体をカットすると紙粉が発生しやすく、紙粉は異物混入の原因になり得ます。 [自動で開梱、原料の取り出し、空ケース排出をコンパクトに] 本装置は、食品原料入りの段ボールケースを...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ニッコー

  • 【シンポジウム開催】Annex 1改訂に伴う無菌製造の新たな基準 製品画像

    【シンポジウム開催】Annex 1改訂に伴う無菌製造の新たな基準

    PR製薬企業が考慮するポイントや最新のソリューションについてご紹介します …

    2023年8月25日に発効したEU GMP Annex 1の改訂版では、文書が大幅に拡充され、特にバリア技術に関する項目が強化されました。無菌製造プロセスにおいて製品の汚染を防ぐことが一層重視され、作業者からの汚染リスクを最小限に抑えるため、アイソレーターやRABSの導入が推奨されています。 この改訂は、世界中の製薬企業に影響を与え、無菌性を維持するための汚染管理戦略(CCS)策定が不可欠となって...

    メーカー・取り扱い企業: シンテゴンテクノロジー株式会社

  • レーザーCVD装置 製品画像

    レーザーCVD装置

    サンプルMAXサイズ10mm口!耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用い…

    膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。 【仕様】 ■サンプルMAXサイズ10mm口 ■600℃までヒーター加熱 ■RPにて排気、MAX 5Pa ■O2 x 1 Ar x 4系統 MFC仕様 ■φ300 x 300H チャンバーサイズ ※詳しくは外部リンクページ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 電気炉『高温ガス雰囲気炉』 製品画像

    電気炉『高温ガス雰囲気炉』

    デジタルプログラムPID制御を採用!下部から試料挿入可能な実験用炉です

    【仕様】 ■型式:IZU-HGH-2500 ■ヒーター内寸法:φ140mm × 300mmH ■均熱熱処理部:φ50mm × 100mmH ■温度:常用 1500℃ ■真空度:×10^-1Pa ■雰囲気:Ar O2 ■ヒートエレメント:SiCヒーター ■制御:デジタルプログラムPID制御 ■排気系:ロータリーポンプ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

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    水素還元雰囲気炉『lZR-1600』

    6打点式(ハイブリット型)!水素排気に安全性が設計されている水素還元雰…

    『lZR-1600』は、室内寸法の割にはコンパクトサイズに設計されている 水素還元雰囲気炉です。 設置寸法は、700mmW×1800mmH×810mmD、重量は約600Kg。 ガス2系統が入ります。 水素排気に安全性が設計されています 【特長】 ■室内寸法の割にはコンパクトサイズに設計 ■ガス2系統が入る ■素排気に安全性...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 電気炉『高温試料急冷試験炉』 製品画像

    電気炉『高温試料急冷試験炉』

    急冷が可能!試料サイズはφ30x60(白金ワイヤー吊り下げ式)です

    【仕様】 ■真空:10^-4Pa ■ガス導入:2系統プログラム温度調整器 ■試料サイズ:φ30 x 60(白金ワイヤー吊り下げ式) ■温度:Max1500℃(SiCヒーター) ■電源:3相200V 60A ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 真空(ガス置換)加熱炉 製品画像

    真空(ガス置換)加熱炉

    Max1000℃!石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱が可能で…

    O2に加えてArも使用可能。 試料を早く冷却するため炉体は可動式です。 石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱ができます 【仕様】 ■排気系 RP + TMP/到達真空5 x 10^-5Pa ■ガスはO2に加えてArも使用可能 ■Max 1000℃ ■石英管内経φ76 ■試料を早く冷却するため炉体は可動式 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 小型スパッタ装置 製品画像

    小型スパッタ装置

    対応基板は最大φ1インチまで処理が可能!デュアルガスノズルを備えた装置

    【仕様】 ■構成:成膜室および排気系、ガス導入系 ■到達圧力:6.7 x 10^-5Pa以下(排気後3時間) ■基板サイズ:1インチSiウェハ1枚 ■膜圧分布:±5%以下(1インチ基板のφ20mm内) ■ターゲット寸法:φ25.4mm x 3t(非磁性金属材料など) ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 2次元抵抗加熱蒸着装置 製品画像

    2次元抵抗加熱蒸着装置

    蒸着源はボートタイプ!基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任…

    【仕様】 ■SUSチャンバー ■到達圧力 7×10^-2Pa ■基板ホルダー φ1インチ ■抵抗加熱蒸着源 Wボートタイプ 2基 ■DP1500L/s ■RP220L/m ■ピラニー真空計 電離真空計 標準装備 ■シャッター機構 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 磁場中加熱炉 製品画像

    磁場中加熱炉

    従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで加熱…

    列5枚です。 従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで 加熱できます。 【仕様】 ■炉内寸法φ50石英管 ■サンプルサイズ12mm口 x 縦配列5枚 ■10^-5Pa (PR. 分子ポンプ) ■Minギャップ80mmまで可能 ■MAX 800℃ ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

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