ついに販売開始！温風乾燥試験機と新機能搭載の2製品をご案内！

PR『FOOMA JAPAN 2024』に出展！乾燥データ抽出・可視化…

当社は、2024年6月4日(火)～9日(金)に開催される「FOOMA JAPAN 2024」に出展致します。 ついに販売を開始した「温風乾燥試験機」の展示と、新機能を搭載した2製品を技術発表！ ■温風乾燥試験機　型番 : RAD-AD-EC80【展示】 ■横流れ式循環型乾燥機 SKH-10【パネル展示】 ■冷風除湿ユニット搭載試験機【展示（技術発表）】 ■横吹き多段ファン式循環型乾燥...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社木原製作所

フローズンスライサー

PR凍結状態の肉を定厚かつ高速でスライス！歩留まり・洗浄性UPを実現

『フローズンスライサー』は、凍っている原料を定厚で スライスする機械です。 サーボモータにより、コンベヤとナイフの位置・回転を制御。 原料高さ200mmまで可能で、原料温度は-10℃までカットできます。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■洗浄性 ・ベルト裏側も容易に洗浄可能 ■安全 ・カバーの無い状態では機械を動かすことができないため、安全に作業可能 ■高性能 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒガシモトキカイ

真空対応5nmフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　リニアエンコーダ内蔵により5nm分…

光学式リニアエンコーダに対して、5nm分解能と±10nmの再現性を実現した超高分解能位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

サブミクロンフィードバックステージコントローラ　FC-111

100nm分解能で位置決め！リニアエンコーダによる位置フィードバックで…

サブミクロンフィードバックステージと組み合わせて100nm分解能位置決め装置として使用できます。 ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック（フルクローズドループ）制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れてい...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

ナノメートル位置決め装置 [ポジショニングEXPO出展]

検査効率向上に！リニアエンコーダ内蔵で優れた再現性があるナノメートル分…

独自開発したリニアエンコーダを内蔵したステージとコントローラで構成される装置です。 ステージのエンコーダの読み取り値は逓倍処理後に1nm~100nmの分解能があります。 可動域は20mm~300mm（分解能によりラインナップが異なります。） コントローラはフィードバック回路とモータードライバを搭載しておりステージのフィードバック制御が...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

シグマテック株式会社　会社案内

正確性・安全性を考慮し、常に安定したサービスを提供いたします

【取扱製品（抜粋）】 ■フィードバックステージシステム ・1nmフィードバックステージシステム ・5nmフィードバックステージシステム ・10nmフィードバックステージシステム ・サブミクロンフィールドバックステージシステム ■真空対応フィードバックステージシステム ・真空対応1nmフィードバックステージシステム ・真空対応5nm...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

10nmフィードバックステージコントローラ　FC-514

10nm分解能で位置決め。スローダウン機能搭載

10nmフィードバックステージと組み合わせて10nm分解能位置決め装置として使用できます。 ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック（フルクローズドループ）制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。 FC-514はスローダウンセンサ信号とORGセンサ信号に対応しています。 10nmフィードバックステージではロングスケールタイプのステージにスロー...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

10nmフィードバックステージシステム（精密位置決め装置）

10nm分解能で位置決め！再現性に優れ、20～200mmストロークのス…

■高分解能、再現性 コントローラ内蔵のモータードライバーにより10nm分解能でステージを動作させ、ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御しているため、高分解能で再現性に優れています。 ■長ストローク 最大200mmの可動がで...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応10nmフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　リニアエンコーダ内蔵により10nm…

ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、10nm分解能と±20nmの再現性を実現した精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応サブミクロンフィードバックステージシステム

真空チャンバー内での位置決め用途に　サブミクロン分解能で位置決め　可動…

ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、サブミクロン分解能（0.1μm or 0.05μm）の再現性を実現した精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

真空対応1nmフィードバックステージシステム

リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め　可動範囲最大50mm…

光学式リニアエンコーダに対して、1nm分解能と±2nmの再現性を実現した超精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロ...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社