薄型恒温プレート『LABOPAD Series』

PR当製品で快適な作業を！無菌操作やプロテオミクスの処理に好適

『LABOPAD Series』は、直感的に操作可能で、設置スペースを選ばない コンパクトサイズの薄型恒温プレートです。 「LABOPAD-C2」は0～100℃、「LABOPAD-H2」は室温＋3℃～100℃までに 設定できるドライバスインキュベーター。当製品は、厚さが薄いため、 どこでも簡単に持ち運べます。 また、「LABOPAD-C2」は冷却機能が付いていますので、これまでの...

メーカー・取り扱い企業： トスク株式会社(旧十慈フィールド)

バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現。 移動…

『バックターン洗浄機』は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

摩擦摩耗試験装置 EFM-3シリーズ

すべり摩擦と潤滑および摩耗に関する特性の科学的解明および技術的な評価

【仕様】 型式：EFM-3-G、EFM-3-H、EFM-3-1010、EFM-3-1020 用途 　EFM-3-G：普及型 　EFM-3-H：高耐久型 　EFM-3-1010：高速高トルク型 　EFM-3-1020：高速高トルクワイド型 ※詳細はPDFをご覧いた...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

熱融解積層型3Dプリンターを用いた造型受託サービス

STRATASYS社製3Dプリンター使用！リアルマテリアル12種に対応…

高弾性・高疲労耐性・高耐久性樹脂 ■ハイパフォーマンス ・ULTEM9085　耐熱153℃ 耐薬品・難燃 (V0） ・PPSF/PPSU　耐熱189℃ 耐薬品・耐衝撃・疎水性 ・ULTEM1010　耐熱213℃ 耐薬品 生体適合性 　ISO10993 USP Class VI 　NFS51　食品接触認定樹脂 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エムトピア

3Dプリント『FDM（熱溶解積層方式）』

ABS、PCからULTEM1010（PEI）、Antero800NA（…

当社の3Dプリント『FDM』は、熱で溶かした樹脂材料を 積層することで立体物をモデリングします。 用途や目的にあわせて、様々な樹脂材料が選択可能。 造形領域x910×y605×z910mmの大型サイズの造形ができ、 塗装、接着、切削加工などの仕上げ加工が可能です。 【特長】 ■用途や目的にあわせて、様々な樹脂材料が選択可能（リアルマテリアル） ■内部構造（ソリッド、スパー...

メーカー・取り扱い企業： 八十島プロシード株式会社

電子顕微鏡での受託観察

走査型電子顕微鏡（ＦＥ-ＳＥＭ）による表面観察を受託いたします：分解能…

料表面の形状を観察 ・試料サイズの条件：最大試料サイズ：　15mm（径）×高さ10mm以下 ・対象試料の条件：高分子材料、金属、セラミックスなどの固体試料（他は要相談） ・試料の前処理：E-1010イオンスパッター（日立）により金蒸着を行います。 【注意事項】 ※試料に関する種類・注意事項等ございましたら、事前にお申しつけ願います。 ※高真空状態で撮影しますので、湿潤サンプルはお受...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

化合物半導体系超格子サンプルにおける深さ分解能測定

化合物半導体サンプルを試料に、深さ分解能を測定した結果を紹介。

(O2+, Cs+)を試料 表面に照射し、スパッタされた二次イオンを質量分析して試料中の微量 不純物を分析する事ができる装置です。 Q-pole SIMS(アルバックファイ：ADEPT-1010)によっては、Al0.28Ga0.72As/GaAs を 50nm ずつ分子線エピタキシー(MBE)で成膜した化合物半導体サンプルを 試料として用い、深さ分解能を求めました。 1次イオンビー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

SiC 基板へのAl イオン注入深さ分析

SiC基板へアルミニウムをBOX 注入したサンプルを分析した結果を紹介…

SIMS(アルバックファイ：ADEPT-1010)によって、SiC基板へアルミニウムを BOX 注入したサンプルを分析した結果を紹介します。 SiC 基板は絶縁性が高いため、1次イオンビームを試料表面に照射すると 電荷が蓄積するため正...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

砒素イオン注入深さ分析

SIMSによる、シリコンへ砒素をイオン注入した分析結果を紹介。

当ページでは、SIMS (アルバックファイ：ADEPT-1010)によって、シリコンへ 砒素をイオン注入したサンプルを分析した結果を紹介します。 砒素（75As）はマトリックスであるシリコンと残留ガスである酸素あるいは 水素との複合分子（29Si30...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

アルミイオン注入深さ分析

検出下限を1E16n/cm3に下げることが出来ました。SIMSによる分…

半導体材料開発には不純物分析が重要ですが、高感度で分析できる二次イオン 質量分析（SIMS）が適しています。 SIMS(アルバックファイ：ADEPT-1010)によって、シリコンへアルミニウムを イオン注入したサンプルを分析した結果を紹介します。 アルミニウムの質量数はシリコンと隣接しているため Q ポール型 SIMS では 測定が困難ですが...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター

化合物半導体系超格子サンプルにおける深さ分解能測定 事例集

化合物半導体系超格子サンプルを使用した深さ分解能測定の結果を掲載！

究・事業化マネジメントの サービスなどを提供している株式会社イオンテクノセンターの 深さ分解能測定の結果を掲載している事例集です。 Q-pole SIMS(アルバックファイ：ADEPT-1010)によって、 Al0.28Ga0.72As/GaAsを50nmずつ分子線エピタキシー(MBE)で成膜した 化合物半導体サンプルを試料として用いて、深さ分解を求めた結果を 掲載しています。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター