【品質管理試験】繰り出し式容器の繰り返しトルク耐久性試験

PR角度を指定しての繰り返しトルク耐久性試験が可能なトルク試験機器 [HP…

イマダ製のトルクゲージ、電動トルクスタンド、アタッチメントなどを組み合わることで、繰り出し式容器の繰り返しトルク耐久性試験が可能です。測定イメージ、製品構成は関連リンク先の測定動画をご確認ください。 【特長】 ■口紅やスティックのりなどに使用される繰り出し式容器のトルク試験が可能です。 ■電動トルクスタンドの使用により、均一スピードでの試験を実現します。 ■指定の回転角度で回転を停止、反転させる...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イマダ

除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

冷却水循環装置『ThermoChillシリーズ 』

シンプルデザインで使いやすさに徹したチラー

ローラーを採用 ○±0.1℃ の優れた温度安定性 (ThermoChill3 は ±0.5℃) ○新たに追加された低温仕様 (-10℃～+30℃) ○冷却能力 700 W, 1000 W, 2000 W の 3機種を用意 ○ThermoChill 2 のみマグドライブポンプが搭載可能 ○RS232 シリアルコミュニケーションを用意 (オプション) ○ロッキングキャスターを標準装備 ○...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

プラズマエッチャーチラー ThermoRack1201/1801

半導体製造工程のプラズマエッチングに好適！消費電力最大93％削減！騒音…

<Medium Flow> 1800W@20℃ 　　　　　　　　　　　　　　 <Low Flow>2000W@20℃ 加熱能力：Thermorack1201 ： 2000W＠20℃ ThermoRack1801 ： <High Flow>3000W@20℃ ...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

プラズマエッチャーチラー　NIKOLA3K/5K

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

【基本仕様】 温度範囲：－10℃～80℃ 冷却能力：NIKOLA3K ： 3000W＠20℃ NIKOLA5K ： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽に...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

温度制御チラー『ThermoRack1201』　

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

【基本仕様】 温度範囲：－10℃～80℃ 冷却能力：1340W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：5.7L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L483×W610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

温度制御チラー　『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

【基本仕様】 温度範囲：－10℃～80℃ 冷却能力：NIKOLA3K ： 3000W＠20℃ NIKOLA5K ： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽に...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

フロン対策はお済みですか?『ThermoRack1201』

フロンガス不使用のペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエッチングに…

【基本仕様】 温度範囲：－10℃～80℃ 冷却能力：1340W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：5.7L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W483×D610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack1801』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

【基本仕様】 温度範囲：－15℃～80℃ 冷却能力：1600～2000W＠20℃ 加熱能力：3000～3400W＠25℃ タンク：5.7L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L483×W610×H221(mm) ※詳しくは...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack1201』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

【基本仕様】 温度範囲：－10℃～80℃ 冷却能力：1340W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：5.7L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L483×W610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

プラズマエッチャーチラー『ThermoRack1201』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

【基本仕様】 温度範囲：－10℃～80℃ 冷却能力：1340W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：5.7L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L483×W610×H221(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー　『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

【基本仕様】 温度範囲：－10℃～80℃ 冷却能力：NIKOLA3K ： 3000W＠20℃ NIKOLA5K ： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽に...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

フロン対策はお済みですか？ 『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

【基本仕様】 温度範囲：－10℃～80℃ 冷却能力：NIKOLA3K ： 3000W＠20℃ NIKOLA5K ： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽に...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社