除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

まるごと洗える撹拌機　ジェット式撹拌機AJITER×水圧モータ

PRいつも清潔　まるごと洗える撹拌機　オイルやグリースは不使用

水で撹拌機を動かすため設置環境には電気は不要。 またモータ・撹拌機本体はグリースやオイル等一切使用していません。 撹拌機まるごと水洗い可能でいつでも清潔です。 水産・食品工場等の油分を嫌うシチュエーションをはじめ、 危険場所や漏電の危険がある環境下等でも 安心してご使用いただけます。...【仕様】 ■型式：RJ02-ADS ■回転数：約350~1200rpm ■接液材質：（軸）SUS304/（翼）...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社島崎エンジニアリング 本社

レーザーCVD装置

サンプルMAXサイズ10mm口！耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用い…

『レーザーCVD装置』は、CO2レーザーをあてながらCVD成膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。 【仕様】 ■サンプルMAXサイズ10mm口 ■600℃までヒーター加熱 ■RPにて排気、MAX 5Pa ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

小型スパッタ装置

対応基板は最大φ1インチまで処理が可能！デュアルガスノズルを備えた装置

気後3時間） ■基板サイズ：1インチSiウェハ1枚 ■膜圧分布：±5%以下（1インチ基板のφ20mm内） ■ターゲット寸法：φ25.4mm x 3t（非磁性金属材料など） ■RF出力：最大300W オートマッチング付き ■プロセス圧力：0.1Pa ～ 1.0Pa（Arガス） ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック