除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

「第25回 国際粉体工業展 POWTEX2024」出展のご案内

PR食品や電池・電子材料など各テーマに沿って、粉粒体装置を使用したアプリケ…

株式会社パウレックは、東京ビッグサイトにて開催される「第25回 国際粉体工業展 POWTEX2024」に出展いたします。 当社のブースでは“POWREXFESTA"と題しまして、パウレックオールスターによる ブース内セミナーを実施。業界別・機種別の各種テーマに沿って、当社装置を使用した アプリケーション事例をご紹介させていただきます。 ドリンクやお菓子もご用意し、学園祭さながらの...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パウレック

レーザーCVD装置

サンプルMAXサイズ10mm口！耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用い…

『レーザーCVD装置』は、CO2レーザーをあてながらCVD成膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。 【仕様】 ■サンプルMAXサイズ10mm口 ■600℃までヒーター加熱 ■RPにて排気、MAX 5Pa ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

電気炉『高温ガス雰囲気炉』

デジタルプログラムPID制御を採用！下部から試料挿入可能な実験用炉です

『高温ガス雰囲気炉』は、下部から試料挿入可能な実験用炉です。 ヒーター内寸法はφ140mm×300mmHで、重量は200Kg。 デジタルプログラムPID制御を採用しています。 【特長】 ■下部から試料挿入可能な実験用炉 ■ヒーター内寸法はφ140mm×300mmH ■重量は200...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

小型加圧ホットプレス

高分子材料用の簡易なホットプレス！軽量化のため、ベースはアルミ材を使用…

当製品は、手動油圧ジャッキで加圧する『小型加圧ホットプレス』です。 温度は最高300℃までかけられます。 上下に真空吸着付き。軽量化のため、ベースはアルミ材を使用しています。 温調はサイクル制御2系統です。 【特長】 ■高分子材料用の簡易なホットプレス ■手動油...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

極低温ホール測定システム

真空中もしくはガス雰囲気中でプレスする極低温ホール測定システムをご紹介…

本システムは、お客様がお持ちのホール効果測定装置に接続する事により、 4.2K～300Kの温度において試料を冷却制御する事が可能な 『極低温ホール測定システム』です。 又標準装備の温度コントローラーは、GP－IBにより既存装置との データー通信も行える様になっております。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

電気炉『LPE装置(縦型2段式加熱炉)』

溶湯に温度差をつけての実験に！上下個別温度制御可能な電気炉のご紹介です

『LPE装置(縦型2段式加熱炉)』は、溶湯に温度差をつけての実験に用いる 電気炉です。 サイズはφ80×300（有効内径）×2段。上下個別温度制御可能です。 また、駆動機構は「炉体上下」と「試料(溶湯)上下」、 「上部ロッド回転機構、上下微動」です。 【特長】 ■溶湯に温度差をつけての実験...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

小型スパッタ装置

対応基板は最大φ1インチまで処理が可能！デュアルガスノズルを備えた装置

気後3時間） ■基板サイズ：1インチSiウェハ1枚 ■膜圧分布：±5%以下（1インチ基板のφ20mm内） ■ターゲット寸法：φ25.4mm x 3t（非磁性金属材料など） ■RF出力：最大300W オートマッチング付き ■プロセス圧力：0.1Pa ～ 1.0Pa（Arガス） ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック