除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

手動式粉体試料採取器『SAMPER(サンパー)』

PR縦式で粉末を確実に採取！高強度の優れた材質を使用した粉体試料採取器

『SAMPER(サンパー)』は、粉体サンプルの上部はもちろん、中間部や 底の粉体サンプリングも正確に採取する手動式粉体試料採取器です。 サイドフィンは流動性の悪い粉体も巻き込んでキャッチし採取。 外筒本体と内筒による回転式2重構造により粉体を逃しません。 材質はステンレス製の鋼材(SUS304)で、各種化学薬品にも強く、 物理的強度も強い構造です。 【特長】 ■縦式で粉末...

メーカー・取り扱い企業： 福伸工業株式会社

レーザーCVD装置

サンプルMAXサイズ10mm口！耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用い…

『レーザーCVD装置』は、CO2レーザーをあてながらCVD成膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。 【仕様】 ■サンプルMAXサイズ10mm口 ■600℃までヒーター加熱 ■RPにて排気、MAX 5Pa ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

小型スパッタ装置

対応基板は最大φ1インチまで処理が可能！デュアルガスノズルを備えた装置

気後3時間） ■基板サイズ：1インチSiウェハ1枚 ■膜圧分布：±5%以下（1インチ基板のφ20mm内） ■ターゲット寸法：φ25.4mm x 3t（非磁性金属材料など） ■RF出力：最大300W オートマッチング付き ■プロセス圧力：0.1Pa ～ 1.0Pa（Arガス） ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック