• マイクロリアクターULREA(アルリア)シリーズ 製品画像

    マイクロリアクターULREA(アルリア)シリーズ

    PR各種ナノ粒子の超精密合成、大量生産ができます。

    ULREA(アルリア)シリーズは2枚のディスク間にできるマイクロメートルオーダーの間隙を反応場、晶析場として応用した湿式法・連続式の反応装置です。 金属、合金、酸化物、複合酸化物、有機顔料など各種ナノ粒子の超精密合成・表面処理と大量生産が容易に実現できます。 その他、マイクロスフェア、ナノスフェアも容易に創製可能です。 【ULREA(アルリア)の特長】 1. 確実なスケールアッ...

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    メーカー・取り扱い企業: エム・テクニック株式会社

  • 【AI顔認証と連携】自動ドアシステム『アシスト・スイング』 製品画像

    【AI顔認証と連携】自動ドアシステム『アシスト・スイング』

    PRドアに触れずに自動開閉!既存のドアに後付け設置が可能。カギもカードも手…

    『ASSIST SWING Slim-SW300』は、既存のドアに後付け設置が可能な スイング自動ドアシステムです。 高性能のAI顔認証デバイスと自動ドアの連携でセキュリティをより強化し、 安心・安全を確保。 【こんなことにお困りではありませんか】 ・台車を押しながらドアを開けることが面倒 ・カードキーを忘れてドアを開けられない ・いちいち荷物を置いてドアを開閉している ・高い衛生環境が求めら...

    メーカー・取り扱い企業: ゴールドマン株式会社

  • レーザーCVD装置 製品画像

    レーザーCVD装置

    サンプルMAXサイズ10mm口!耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用い…

    『レーザーCVD装置』は、CO2レーザーをあてながらCVD成膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。 【仕様】 ■サンプルMAXサイズ10mm口 ■600℃までヒーター加熱 ■RPにて排気、MAX 5Pa ■...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 電気炉『高温ガス雰囲気炉』 製品画像

    電気炉『高温ガス雰囲気炉』

    デジタルプログラムPID制御を採用!下部から試料挿入可能な実験用炉です

    『高温ガス雰囲気炉』は、下部から試料挿入可能な実験用炉です。 ヒーター内寸法はφ140mm×300mmHで、重量は200Kg。 デジタルプログラムPID制御を採用しています。 【特長】 ■下部から試料挿入可能な実験用炉 ■ヒーター内寸法はφ140mm×300mmH ■重量は200...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 小型加圧ホットプレス 製品画像

    小型加圧ホットプレス

    高分子材料用の簡易なホットプレス!軽量化のため、ベースはアルミ材を使用…

    当製品は、手動油圧ジャッキで加圧する『小型加圧ホットプレス』です。 温度は最高300℃までかけられます。 上下に真空吸着付き。軽量化のため、ベースはアルミ材を使用しています。 温調はサイクル制御2系統です。 【特長】 ■高分子材料用の簡易なホットプレス ■手動油...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 極低温ホール測定システム 製品画像

    極低温ホール測定システム

    真空中もしくはガス雰囲気中でプレスする極低温ホール測定システムをご紹介…

    本システムは、お客様がお持ちのホール効果測定装置に接続する事により、 4.2K~300Kの温度において試料を冷却制御する事が可能な 『極低温ホール測定システム』です。 又標準装備の温度コントローラーは、GP-IBにより既存装置との データー通信も行える様になっております。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 電気炉『LPE装置(縦型2段式加熱炉)』 製品画像

    電気炉『LPE装置(縦型2段式加熱炉)』

    溶湯に温度差をつけての実験に!上下個別温度制御可能な電気炉のご紹介です

    『LPE装置(縦型2段式加熱炉)』は、溶湯に温度差をつけての実験に用いる 電気炉です。 サイズはφ80×300(有効内径)×2段。上下個別温度制御可能です。 また、駆動機構は「炉体上下」と「試料(溶湯)上下」、 「上部ロッド回転機構、上下微動」です。 【特長】 ■溶湯に温度差をつけての実験...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 小型スパッタ装置 製品画像

    小型スパッタ装置

    対応基板は最大φ1インチまで処理が可能!デュアルガスノズルを備えた装置

    気後3時間) ■基板サイズ:1インチSiウェハ1枚 ■膜圧分布:±5%以下(1インチ基板のφ20mm内) ■ターゲット寸法:φ25.4mm x 3t(非磁性金属材料など) ■RF出力:最大300W オートマッチング付き ■プロセス圧力:0.1Pa ~ 1.0Pa(Arガス) ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

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