• パレット洗浄脱水機【衛生レベルアップ、洗浄の省人化!】 製品画像

    パレット洗浄脱水機【衛生レベルアップ、洗浄の省人化!】

    PR2024年問題で物流効率アップに有効なパレット輸送。そのパレットが製品…

    段積みされたパレットをフォークリフトで洗浄ラインに投入するだけで、洗浄・脱水・乾燥まで行います。 処理能力は1時間30枚~200枚まで対応可能!手洗い、高圧ジェッター洗浄と比較して衛生的な洗浄と工数削減が期待できます。 5つの工程で洗浄の自動化が可能です。 【段ばらし】→【洗浄・すすぎ】→【脱水】→【乾燥】→【段積み】 お客様のパレット、処理能力、設置スペースに合わせて設計、製作いたします。 ...

    • 低圧多水量方式.gif
    • 遠心脱水.gif
    • 高温エアブロー.gif

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クレオ

  • フェイス合わせ装置『PBD-30型』 製品画像

    フェイス合わせ装置『PBD-30型』

    PR異種、異常ボトルの検査・ラベラー機前のボトル容器の向き合わせに! ノズ…

    『PBD-30型』は、画像マッチング機能で異種、異常ボトル容器の検査が可能です。 『PBD-30型』のメイン機能としては、ボトル容器の向きを任意の位置で一定に合わせるフェイス合わせ機能を持っているのでPOPラベラー機の前に設置する事で、ボトル容器のキャップやノズルの向きとラベルの貼り付け位置を合わせる事ができます。 設定は最初にボトル容器の全周画像を自動で取込み、モニターに表示された全周画...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社プランナー

  • レーザーCVD装置 製品画像

    レーザーCVD装置

    サンプルMAXサイズ10mm口!耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用い…

    『レーザーCVD装置』は、CO2レーザーをあてながらCVD成膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。 【仕様】 ■サンプルMAXサイズ10mm口 ■600℃までヒーター加熱 ■RPにて排気、MAX 5Pa ■...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 電気炉『高温ガス雰囲気炉』 製品画像

    電気炉『高温ガス雰囲気炉』

    デジタルプログラムPID制御を採用!下部から試料挿入可能な実験用炉です

    『高温ガス雰囲気炉』は、下部から試料挿入可能な実験用炉です。 ヒーター内寸法はφ140mm×300mmHで、重量は200Kg。 デジタルプログラムPID制御を採用しています。 【特長】 ■下部から試料挿入可能な実験用炉 ■ヒーター内寸法はφ140mm×300mmH ■重量は200...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 小型加圧ホットプレス 製品画像

    小型加圧ホットプレス

    高分子材料用の簡易なホットプレス!軽量化のため、ベースはアルミ材を使用…

    当製品は、手動油圧ジャッキで加圧する『小型加圧ホットプレス』です。 温度は最高300℃までかけられます。 上下に真空吸着付き。軽量化のため、ベースはアルミ材を使用しています。 温調はサイクル制御2系統です。 【特長】 ■高分子材料用の簡易なホットプレス ■手動油...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 極低温ホール測定システム 製品画像

    極低温ホール測定システム

    真空中もしくはガス雰囲気中でプレスする極低温ホール測定システムをご紹介…

    本システムは、お客様がお持ちのホール効果測定装置に接続する事により、 4.2K~300Kの温度において試料を冷却制御する事が可能な 『極低温ホール測定システム』です。 又標準装備の温度コントローラーは、GP-IBにより既存装置との データー通信も行える様になっております。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 電気炉『LPE装置(縦型2段式加熱炉)』 製品画像

    電気炉『LPE装置(縦型2段式加熱炉)』

    溶湯に温度差をつけての実験に!上下個別温度制御可能な電気炉のご紹介です

    『LPE装置(縦型2段式加熱炉)』は、溶湯に温度差をつけての実験に用いる 電気炉です。 サイズはφ80×300(有効内径)×2段。上下個別温度制御可能です。 また、駆動機構は「炉体上下」と「試料(溶湯)上下」、 「上部ロッド回転機構、上下微動」です。 【特長】 ■溶湯に温度差をつけての実験...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 小型スパッタ装置 製品画像

    小型スパッタ装置

    対応基板は最大φ1インチまで処理が可能!デュアルガスノズルを備えた装置

    気後3時間) ■基板サイズ:1インチSiウェハ1枚 ■膜圧分布:±5%以下(1インチ基板のφ20mm内) ■ターゲット寸法:φ25.4mm x 3t(非磁性金属材料など) ■RF出力:最大300W オートマッチング付き ■プロセス圧力:0.1Pa ~ 1.0Pa(Arガス) ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

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