DNAコード化ライブラリー(DEL)：創薬スクリーニングの新手法

PR研究の初期段階を加速！NGSで化合物スクリーニングができるDNAコード…

効率的な化合物スクリーニング手法として、 創薬の現場などで一般的な手法として確立されてきているDNAコード化ライブラリー（DEL）。 Sigma-Aldrichでは多くの研究者がDELの技術を広く利用できるようするために、 独自のダイナミックライブラリー技術を持つDyNAbind社の協力を得てDELを簡易キット化しました。 準備された実験プロトコルに従いスクリーニングを進めた後は、...

メーカー・取り扱い企業： メルク株式会社ライフサイエンス（シグマ アルドリッチ ジャパン合同会社）

迅速微生物同定・菌株識別 - ブルカーLiveウェビナー開催

PRMALDIバイオタイパーおよびIRバイオタイパーの活用事例および最新情…

ブルカージャパン株式会社では、微生物同定・菌株識別に関する 最新情報をご紹介する、オンラインセミナーを開催いたします。 【プレゼンターおよび講演概要】 ◆国立感染症研究所　ハンセン病研究センター　感染制御部　小峰 壮史 様 　「国立感染症研究所での MALDI Biotyper sirius RUO の活用事例紹介」 ◆花王株式会社　安全性科学研究所　柏葉 明日香 様 　「...

メーカー・取り扱い企業： ブルカージャパン株式会社 ダルトニクス事業部　微生物同定・菌株識別

原子層蒸着(ALD)用バルブ ALD20

さらなる領域へ、ALDバルブ技術のブレイクスルー

Swagelok 原子層蒸着(ALD)用バルブは、高速開閉と再現性に高い作動機能を有し、非常に優れたサイクル・ライフを実現します。さらなる微細化・高度化へのニーズに対応すべく、大流量・高温用途向けの「ALD 20」を製品ラインアップ...

メーカー・取り扱い企業： スウェージロック・ジャパン

【新製品】超高純度用ダイヤフラム・バルブ『ALD7』

数百万サイクルにわたり、ALD用プリカーサーの高精度供給を実現。半導体…

超高純度用ダイヤフラム・バルブ『ALD7』は、 半導体製造の原子層蒸着(ALD)に必要なプリカーサーなど 超高純度の流体を、高精度で安定供給できるバルブです。 製品ごとの個体差を減らしたことで、 流量、アクチュエーターの速...

メーカー・取り扱い企業： スウェージロック・ジャパン

『原子層蒸着(ALD)用バルブ』※性能テスト結果付き技術資料進呈

高速開閉、非常に優れたサイクル・ライフ。大流量や高温環境、腐食性流体に…

スウェージロック社は、ALDバルブ技術で世界をリードする企業のひとつとして、 半導体デバイス製造アプリケーション向けのソリューションをお届けします。 【特長】 ○非常に優れたサイクル・ライフを実現する独自のデザイン...

メーカー・取り扱い企業： スウェージロック・ジャパン

ブラックシリコンフォトダイオード

【200nmから950nmの広い波長範囲において非常に高い感度を持つフ…

ElFys社のブラックシリコンフォトダイオードは、原子層蓄積（ALD）コーティングを組み合わせた表面ナノ構造技術により集光性を高めた、広い波長範囲において高感度に光を検出できるフォトダイオードです。 波長範囲200nmから950nmにおいて96％以上の外部量子効...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社

セラミック基板向け自動分割装置『スクライバー』

ダイヤモンドロータリーカッターで微細なクラックを発生させ、焼成後の基板…

『スクライバー』は、焼成後のセラミック基板へダイヤモンドカッターを 用いてスクライビング加工を行う装置です。 高速（最速500mm/sec）高精度（+/-30um)加工を実現し、材料ロスや切削液糖 の影響を受けることなくクリーンな状態で基板を分割することができます。 【特長】 ■ダイヤモンドロータリーカッターで微細なクラックを発生させ、 　焼結後の基板を分割 ■洗浄工程は不要...

メーカー・取り扱い企業： ヤマハファインテック株式会社

電子線を用いて透明フィルム上に高易動度のZnO薄膜

フレキシブルな透明電極を安価なZnO(酸化亜鉛)で作製可能！

半導体材料である透明電極の性能改善によるウェアラブル端末のさらなる進化が期待されている。ZnOは代表的な導電性の酸化物であり、透明電極への応用が望まれる。化学気相成長(CVD)・原子層堆積(ALD)・スパッタリング等の薄膜作製法が確立されているが、導電性を損なわずに樹脂などのフレキシブル基材上に形成できないという課題があった。本発明では電子線をZnO粒子に照射することで、優れた導電性と、こ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社東北テクノアーチ

隔膜式真空計（バラトロン真空計）

150℃/200℃対応！バイオ医薬品製造に最適な隔膜式真空計。

サへの堆積を防止することにより、ドリフトを低減し精確で長期安定性を持つ圧力測定を実現します。 150℃もしくは200℃の温度制御を選択できる631Bは、メタルエッチング、ナイトライドCVD、ALDなど、厳しい条件の半導体製造プロセス用真空計としての用途の他、バクテリア増殖を防止する目的で蒸気を用いる、凍結乾燥装置、滅菌装置などのバイオ製薬プロセスに最適です。 特徴 ●最小フルスケー...

メーカー・取り扱い企業： 日本エム・ケー・エス株式会社

インテリジェントリモートプラズマソース『Paragon（R）』

NF3最大流量8slm、独自のPEOプラズマブロック設計によりプロセス…

「Paragon（R）」は、量産実績のあるMKS低磁場トロイダルプラズマ源の特性を基に、次世代ナノプロセス開発と製造に、より適したデータ転送と制御性を実現しました。 CVDおよびALD／ALEプロセスチャンバークリーニングに対応し、8slmのNFガス流量および最大10Torrの圧力条件においても高い分析効率（＞98％）が得られます。 【特長】 ■NF最大流量8slm、コ...

メーカー・取り扱い企業： 日本エム・ケー・エス株式会社

高温デジタルキャパシタンスマノメーター『DA03A』

高温動作によりゼロ点シフトを低減、CVD, Etch, ALDに！

「DA03A」は、RoHS対応のデジタル高温タイプBaratron（R）キャパシタンスマノメータです。 高温で動作することによりセンサ内部へのプロセス副生成物の堆積を最小限に抑えます。 これにより副生成物堆積によって生じる出力ドリフトをほぼ無くします。 150℃または160℃の動作温度で使用でき、メタルエッチングや絶縁膜CVDのような半導体製造における最も必要とされかつ環境の厳しい真空プロセ...

メーカー・取り扱い企業： 日本エム・ケー・エス株式会社

東北大学技術：走査ミラー：T18-504

ねじり疲労に強いトーションバーを実現！真空封止不要・長寿命・低コストな…

本発明によって、大気中で、トーションバーの酸化や水酸化を防止し、トーションバーの劣化を抑制可能な、走査ミラー、および、走査ミラーの製造方法を提供することが可能になった。本発明は、ミラー部と、表面がALD(Atomic Layer Deposition) 層で覆われたトーションバーとを有していることを特徴とする。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社東北テクノアーチ

ドライ真空ポンプ『SDE-TXシリーズ』

あらゆるプロセスに対応する高耐久ドライ真空ポンプ！プロセス性能に特化

構造材料や温度設定による 高い耐食性を発揮します。 【ハーシュプロセス対応例】 ■Metal-Etch ■SA-CVD ■Metal-CVD ■PE-CVD ■LP-CVD ■ALD ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 樫山工業株式会社