除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

まるごと洗える撹拌機　ジェット式撹拌機AJITER×水圧モータ

PRいつも清潔　まるごと洗える撹拌機　オイルやグリースは不使用

水で撹拌機を動かすため設置環境には電気は不要。 またモータ・撹拌機本体はグリースやオイル等一切使用していません。 撹拌機まるごと水洗い可能でいつでも清潔です。 水産・食品工場等の油分を嫌うシチュエーションをはじめ、 危険場所や漏電の危険がある環境下等でも 安心してご使用いただけます。...【仕様】 ■型式：RJ02-ADS ■回転数：約350~1200rpm ■接液材質：（軸）SUS304/（翼）...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社島崎エンジニアリング 本社

レーザーCVD装置

サンプルMAXサイズ10mm口！耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用い…

『レーザーCVD装置』は、CO2レーザーをあてながらCVD成膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。 【仕様】 ■サンプルMAXサイズ10mm口 ■600℃までヒーター加熱 ■RPにて排気、MAX 5Pa ■O2 x 1 Ar x 4系統　MFC仕様 ■φ300 x ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

小型スパッタ装置

対応基板は最大φ1インチまで処理が可能！デュアルガスノズルを備えた装置

『小型スパッタ装置』は、1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載した 実験用高真空小型制膜装置です。 放電用にマッチングユニット付きのRF電源を一台装備。 酸化反応スパッタリングに対応できるデュアルガスノズルを備えます。 また、対応基板は最大φ1インチまで処理が可能です。 【特長】 ■1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載 ■放電用にマッチングユニット付きの...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック