• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 品質向上・装置トラブル防止に!鉄粉捕捉装置『マグトラップ』 製品画像

    品質向上・装置トラブル防止に!鉄粉捕捉装置『マグトラップ』

    PRフラット、チューブ、棒など様々なタイプをご用意!頑丈構造&高耐久性の鉄…

    『マグトラップ』は、パイプライン内液中の鉄、ニッケル、磁化された SUS400シリーズを強力なレアアース磁石(希土類磁石)で捕捉する装置です。 品質向上、PL法対策、装置トラブル防止、外部購入原料チェック、 捕捉金属による故障原因の早期発見等に広く利用されいます。 また当社では、フラットプレートタイプの「MODEL 115」をはじめ、 チューブタイプの「MODEL 135」など、...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アキュレックス 本社、大阪営業所

  • レーザーCVD装置 製品画像

    レーザーCVD装置

    サンプルMAXサイズ10mm口!耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用い…

    『レーザーCVD装置』は、CO2レーザーをあてながらCVD成膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。 【仕様】 ■サンプルMAXサイズ10mm口 ■600℃までヒーター加熱 ■RPにて排気、MAX 5Pa ■O2 x 1 Ar x 4系統 MFC仕様 ■φ300 x ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 電気炉『高温ガス雰囲気炉』 製品画像

    電気炉『高温ガス雰囲気炉』

    デジタルプログラムPID制御を採用!下部から試料挿入可能な実験用炉です

    『高温ガス雰囲気炉』は、下部から試料挿入可能な実験用炉です。 ヒーター内寸法はφ140mm×300mmHで、重量は200Kg。 デジタルプログラムPID制御を採用しています。 【特長】 ■下部から試料挿入可能な実験用炉 ■ヒーター内寸法はφ140mm×300mmH ■重量は200Kg ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...【仕様】 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 小型加圧ホットプレス 製品画像

    小型加圧ホットプレス

    高分子材料用の簡易なホットプレス!軽量化のため、ベースはアルミ材を使用…

    当製品は、手動油圧ジャッキで加圧する『小型加圧ホットプレス』です。 温度は最高300℃までかけられます。 上下に真空吸着付き。軽量化のため、ベースはアルミ材を使用しています。 温調はサイクル制御2系統です。 【特長】 ■高分子材料用の簡易なホットプレス ■手動油圧ジャッキで加圧 ■温度は最高300℃までかけられる ■上下に真空吸着付き ■温調はサイクル制御2系統 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 極低温ホール測定システム 製品画像

    極低温ホール測定システム

    真空中もしくはガス雰囲気中でプレスする極低温ホール測定システムをご紹介…

    本システムは、お客様がお持ちのホール効果測定装置に接続する事により、 4.2K~300Kの温度において試料を冷却制御する事が可能な 『極低温ホール測定システム』です。 又標準装備の温度コントローラーは、GP-IBにより既存装置との データー通信も行える様になっております。 真空中もしくはガス雰囲気中でプレスします。 【特長】 ■4.2K~300Kの温度において試料を冷却制...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 電気炉『LPE装置(縦型2段式加熱炉)』 製品画像

    電気炉『LPE装置(縦型2段式加熱炉)』

    溶湯に温度差をつけての実験に!上下個別温度制御可能な電気炉のご紹介です

    『LPE装置(縦型2段式加熱炉)』は、溶湯に温度差をつけての実験に用いる 電気炉です。 サイズはφ80×300(有効内径)×2段。上下個別温度制御可能です。 また、駆動機構は「炉体上下」と「試料(溶湯)上下」、 「上部ロッド回転機構、上下微動」です。 【特長】 ■溶湯に温度差をつけての実験に用いる ■駆動機構 ・炉体上下 ・試料(溶湯)上下 ・上部ロッド回転機構、上...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 小型スパッタ装置 製品画像

    小型スパッタ装置

    対応基板は最大φ1インチまで処理が可能!デュアルガスノズルを備えた装置

    『小型スパッタ装置』は、1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載した 実験用高真空小型制膜装置です。 放電用にマッチングユニット付きのRF電源を一台装備。 酸化反応スパッタリングに対応できるデュアルガスノズルを備えます。 また、対応基板は最大φ1インチまで処理が可能です。 【特長】 ■1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載 ■放電用にマッチングユニット付きの...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

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