• Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100 製品画像

    Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • プラント向け海水電解装置『ダイキハイクロレーター』 製品画像

    プラント向け海水電解装置『ダイキハイクロレーター』

    原子力発電所にも採用実績あり!安全性と信頼性の高い防汚装置をご紹介しま…

    『ダイキハイクロレーター』は、海水を直接電気分解して次亜塩素酸 ナトリウムを発生させるプラント向けの海水電解装置です。 電気分解により安定した濃度の次亜塩素酸ナトリウムを生成できる ことに加え、シンプルな装置構造と自動運転のために、メンテナンスや 取扱いが容易なことが特長。 海水電解装置の心臓部である電極を自社工場で開発・製造することにより、 次亜塩素酸ナトリウム発生量が毎時1...

    メーカー・取り扱い企業: 日立造船株式会社 東京本社 脱炭素化事業本部 脱炭素化システムビジネスユニット 営業部

  • 【資料】ウルトラファインバブル(UFB)について 製品画像

    【資料】ウルトラファインバブル(UFB)について

    肉眼では見えない1μm以下の超微細気泡!ウルトラファインバブルについて…

    ミナミ産業では、効率的UFB発生装置の開発と様々なガスを活用して 主に食品製造に活かす研究開発を進めております。 当資料は、ウルトラファインバブル(UFB)についてご紹介しています。 「窒素UFBのまるごと豆乳製造への応用」をはじめ、「UFB発生能力」や 「得られたUFB水中の粒度分布と濃度」「洗浄用途」など、図や写真で わかりやすく掲載しています。 【掲載内容(抜粋)】 ...

    メーカー・取り扱い企業: ミナミ産業株式会社

  • Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300 製品画像

    Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150 製品画像

    Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本の...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

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