• LNPの製剤開発からGMP製造までをサポートする多彩なツール 製品画像

    LNPの製剤開発からGMP製造までをサポートする多彩なツール

    PR製剤条件のスクリーニングからスケールアップ、GMP製造までをシームレス…

    弊社のLNPツールは、合成から特性解析までにかかる様々な手間と時間を軽減し、製剤化を加速化します。 【LNP合成】 ・Sunシリーズ:処方・製造条件スクリーニングからスケールアップ、GMP対応製造まで、同じポンプとマイクロ流路チップを使用してシームレスに実行・移行可能です。  ・Sunscreen:スクリーニングのために開発された装置。96種類の条件検討を完全自動で実行。  ・Sunshine:...

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    メーカー・取り扱い企業: Unchained Labs株式会社

  • 無菌室向け 二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』 製品画像

    無菌室向け 二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』

    PR高精度計測器を搭載し、低濃度0.05ppm~高濃度1200ppm まで…

    当社トラステック愛知が得意とするのは二酸化塩素の高精度の濃度計測と制御管理。 その技術を用いて開発したのが、二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』です。 除染効果の高い二酸化塩素ガスを用いた除染装置で、 精度に優れたガスの濃度測定と、ガスの制御機能を有しています。 搭載された高精度計測器により、低濃度0.05~高濃度1200ppm(校正値1000ppm 検知管使用 当社...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社トラステック愛知 本社

  • イオン注入シミュレーション 製品画像

    イオン注入シミュレーション

    ご要望のイオン種や深さ、濃度に合わせてシミュレーションが可能です。

    お客様のご要望「ご希望の深さと濃度にするにはエネルギーと注入量をどれくらいにすればよいのか」や「ご指定のエネルギーと注入量でドーパントのイオンはどのような深さ分布となるか」に対して、シミュレーションをご提供することが可能です。 (...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

  • 半導体分析 製品画像

    半導体分析

    各種半導体の様々な目的に合わせて、各種手法で分析が可能!

    半導体の微細な形状の観察、結晶性評価、不純物濃度測定、硬度測定、故障解析など 各種手法により研究開発のサポートを致します。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

  • 組成比勾配のあるSi(1-x)Gex 試料の定量化 製品画像

    組成比勾配のあるSi(1-x)Gex 試料の定量化

    2点の問題を解決するために濃度既知の試料を3点以上分析。

    歪 Si デバイスに用いられる組成比勾配を持つ Si(1-x)Gex膜の深さ方向に 対するGeの濃度分布を正確に定量するのに SIMS(2 次イオン質量分析法)が 用いられます。 SIMS で Si(1-x)Gex 膜を分析する際に 2 点解決しなければならない問題があり、 1点目はSi...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

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