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PR"手指を守る"基本は手袋です。労働災害の中で最も多…
保護手袋を装着することで防げる事故は確実にあります。ミドリ安全は、作業内容や用途に合わせて適切な手袋をご用意。汚れの防止、防寒はもちろん、油・溶剤・薬品に対する手の保護や切創・すべり・火傷防止等に対応した各種の保護手袋など、作業動作と作業環境に合った手袋を選んで、事故を―る防ぎましょう。 【作業動作】持つ・掴む・摘む・握る・触る →手の動きによってグリップ性、フィット性など求められるものが変...
メーカー・取り扱い企業: ミドリ安全株式会社
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PR様々な目的に応じて攪拌ができるように開発したラボ用撹拌機!物性・目的に…
邪魔板不要で上下循環流を発生させる「往復回転式攪拌機アジター」 「ジェット式アジター」のほか気液反応に適した「ミクロアジター」の 実験機です。物性・目的に応じて実験できる3タイプを用意!実験に適した 機械の選定、実験方法、スケールアップ等、お気軽にご相談ください。 【製品詳細】 ■往復回転式攪拌機「SV」 三角翼をつけた撹拌軸が1/4回転ごとに反転する撹拌機です。 ■ジェッ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社島崎エンジニアリング 本社
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長距離(150mm)を細かく位置決め可能!『精密位置決め装置(分解能:…
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージ。 長ストローク(150mm)を細かく(10nm単位※)位置決め可能。 ストロークが長いため、光学実験での光学遅延を作るのに適しています。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性を位置決め後の位置保持性を備えております。 ※フィードバック...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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サブミクロンフィードバックステージコントローラ FC-111
100nm分解能で位置決め!リニアエンコーダによる位置フィードバックで…
できます。 ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック(フルクローズドループ)制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。 そのため、再現性が必要な精密検査や研究等で使用されています。 外部機器からコマンドによる通信制御が可能で、測定システムの一部として使用できます。...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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【精密位置決め装置】50nm又は100nmの高分解能・高い位置決め再現…
光学式リニアスケールを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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【精密位置決め装置】10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後…
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、 位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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【ロングストローク】エンコーダを内蔵した高分解能・高い位置再現性・高い…
決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 『 50nm 』又は『 100nm 』分解能(*1)でストロークは『 150mm 』となっております。 ストロークが長いため試料の移動と精密位置決めをこれ1台で行うことができます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-411又はFC-111との組み合わせ...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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【精密位置決め装置】5nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の…
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 5nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-611との組み合わせ.....
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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【精密位置決め装置】リニアエンコーダを内蔵し、5nm分解能で動作する位…
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 5nm 』分解能(*1)でストロークは『 40mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路によりフルクローズドループ制御を行っているため、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコ...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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