• 高温の排水、そのまま排水にしていませんか?『排熱回収装置』 製品画像

    高温の排水、そのまま排水にしていませんか?『排熱回収装置』

    PR高温の排水を捨てる前に当製品に通すだけ!排水の熱を供給水に移して利用〈…

    『排熱回収装置』は、排水が保有する熱量を給水加熱に利用することで、 給水加熱に要する燃料消費削減を目的とした装置です。 排水を伝熱パイプに滴下させるだけで良いため、ポンプ等の動力機器や 安全機器搭載の必要がありません。伝熱パイプに異物の付着しにくい 防汚処理を施しているため、伝熱性能が低下しにくいです。 また、本体の分解、組み立てもとても簡単な構造になっており丸ごと取り外しが可能なため、 伝熱...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ショウワ 本社、東京営業所、名古屋営業所、北陸営業所

  • 新製品!『可搬式超低温作業台YDC-3000H』※動画あり 製品画像

    新製品!『可搬式超低温作業台YDC-3000H』※動画あり

    PR-150℃以下の超低温下で検体保管から移動まで可能!作業台内の温度と液…

    YDC-3000Hは、-150℃以下の温度帯で冷却しながらの作業に 適した可搬式超低温作業台です。 生物試料をケーンやボックス、ラック、フレームに収納するための作業台としてや、 移動式の作業台として、試料を安全に管理することができます。 【製品の特長】 ◆LCDタッチ操作 ◆USBインターフェイスを持ち、データの取出しが可能 ◆温度および液面レベルをリアルタイムでモニターし、予想残時間を表示 ...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社巴商会 管理部署:企画営業部

  • 酸化シリコン成膜CVD装置 製品画像

    酸化シリコン成膜CVD装置

    3インチウェハ対応!コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しま…

    当製品は、酸化シリコンを成膜する為のCVD装置です。 コンパクトな設計となっており省スペース化を実現。 内面処理は電解研磨、チャンバー材質はSUS316です。 また、3インチウェハ対応となっております。 【特長】 ■酸化シリコンを成膜 ■コンパクトな設計となっており省スペース化を実現 ■3インチウェハ対応 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • プラズマCVD装置 製品画像

    プラズマCVD装置

    漏洩マイクロ波検出用も付属!試料の取付は、下部よりモーターによる上下機…

    『プラズマCVD装置』は、実験用に極端に簡素化して製作されたCVD装置です。 マスフロー本体は、メーカー品を使用。表示器、設定器は当社オリジナルで 製作し価格を下げております。 また、プラズマ発生域と試料の距離を変更できるよう、マイクロ波導波管を 上下できる機構を備えています。 【特長】 ■実験用に極端に簡素化して製作 ■マイクロ波導波管を上下できる機構を備えている ■...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

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    高周波レーザーCVD装置

    簡単に試料セットする事が可能!外部ビューポートよりYAGレーザーを入射…

    当製品は、高周波加熱コイルの中心に試料ステージ(自動回転機構付き)があり、 外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができるCVD装置です。 サンプル導入口はチャンバー側面で、両側開閉可能。 簡単に試料セットする事ができます。 オプションでチャンバー上部にガス供給系(最大5系統)を設置する事も可能です。 【特長】 ■外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

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    2次元抵抗加熱蒸着装置

    蒸着源はボートタイプ!基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任…

    『2次元抵抗加熱蒸着装置』は、簡単に2つの材料を抵抗加熱により蒸着出来る 装置です。 蒸着源はボートタイプで、基板は支柱上のプレートに取付けられており、 高さは任意に変更可能。 排気系は、DPとRPを併用しておりますので、短時間で高真空が得られます。 【特長】 ■SUS製上チャンバーには、CF70ポートが2式、50φの窓が2式、  又下チャンバーはCF70ポートが6式標準...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 小型スパッタ装置 製品画像

    小型スパッタ装置

    対応基板は最大φ1インチまで処理が可能!デュアルガスノズルを備えた装置

    『小型スパッタ装置』は、1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載した 実験用高真空小型制膜装置です。 放電用にマッチングユニット付きのRF電源を一台装備。 酸化反応スパッタリングに対応できるデュアルガスノズルを備えます。 また、対応基板は最大φ1インチまで処理が可能です。 【特長】 ■1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載 ■放電用にマッチングユニット付きの...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 水素還元雰囲気炉『lZR-1600』 製品画像

    水素還元雰囲気炉『lZR-1600』

    6打点式(ハイブリット型)!水素排気に安全性が設計されている水素還元雰…

    『lZR-1600』は、室内寸法の割にはコンパクトサイズに設計されている 水素還元雰囲気炉です。 設置寸法は、700mmW×1800mmH×810mmD、重量は約600Kg。 ガス2系統が入ります。 水素排気に安全性が設計されています 【特長】 ■室内寸法の割にはコンパクトサイズに設計 ■ガス2系統が入る ■素排気に安全性が設計 ※詳しくは外部リンクページをご覧い...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

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    『卓上型高温電気炉』

    最高到達温度1800℃で急速加熱ができる卓上型の高温電気炉

    本製品は、理化学機器の販売を主とし、設計、製造を行う 株式会社和泉テックが取り扱っている卓上型高温電気炉です。 制御方式は、プログラム・サイリスタPID方式を採用。 サンプルの出し入れが容易な扉仕様となっております。 その他ご希望の仕様でも承りますので、お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■最高到達温度1800℃(大気) ■急速加熱が可能 ■サンプルの出し入れが容易な...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

  • 磁場中加熱炉 製品画像

    磁場中加熱炉

    従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで加熱…

    株式会社和泉テックで取り扱う『磁場中加熱炉』をご紹介します。 炉内寸法φ50石英管。 サンプルサイズは12mm口 x 縦配列5枚です。 従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで 加熱できます。 【仕様】 ■炉内寸法φ50石英管 ■サンプルサイズ12mm口 x 縦配列5枚 ■10^-5Pa (PR. 分子ポンプ) ■Minギャップ80mmまで可...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック

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