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PR水の力で撹拌機を動かす!エアーを使わないので空気が綺麗、電気を使わない…
水道水を作動流にするNADSの水圧モータを使用した撹拌機です。 エアーを使わないので空気が綺麗、電気を使わないので環境に配慮した 安全・安心な撹拌機です。 【NADSとは?】 NADSはNACOL株式会社の新・水圧技術(ADS: Aqua Drive System)を 使用したポンプやモータ、リリーフ弁、ソレノイドバルブ等を展開する シリーズ。空圧や電気駆動では難しかった高性能な駆...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社島崎エンジニアリング 本社
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ネジ山をなめてしまった…その課題『エンザート』が解決します!
PR壊れたネジ穴を再生・補修して強度もアップ!タップ立て不要で、めねじやコ…
部品のネジ山(めねじ)が破損した場合、どうしていますか? 「ヘリサート・リコイルなどのコイルインサートを使用している」 「サイズアップで立て直しをしている」 「部品交換をしている」 など様々な対応をされているかと思います。 エンザートならその部品を救えるかもしれません! ケー・ケー・ヴィ・コーポレーションが取り扱う『エンザートSBE』は、垂直出しが容易な三つ穴タイプのインサートナットです。 先...
メーカー・取り扱い企業: ケー・ケー・ヴィ・コーポレーション株式会社
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プラズマエッチャーチラー ThermoRack1201/1801
半導体製造工程のプラズマエッチングに好適!消費電力最大93%削減!騒音…
『ThermoRack1201/1801』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエ…
『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイ...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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薬液の流路チューブをダイレクトに温度制御するので従来の間接温調方式に比…
半導体製造の洗浄過程で使用される薬液の温度管理は製品の品質や生産性を左右する重要なファクターです。 ペルチェモジュールを用いた本装置は洗浄薬液を±0.05℃で温度制御を行います。 非常に小型のモジュールで、流路チューブをダイレクトに温度制御する方式ですので従来のタンクで薬液を温調するよりも10-30%使用量の削減が見込めます。 さらに動作部分がないシンプル構造のため振動・ノイズもなくメンテナンスが...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音…
『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエ…
『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイ...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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フロンガス不使用のペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエッチングに…
『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイ...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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消費電力大幅削減!ペルチェチラー『ThermoRack1801』
半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音…
『ThermoRack1801』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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消費電力大幅削減!ペルチェチラー『ThermoRack1201』
半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音…
『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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半導体製造工程のプラズマエッチングに最適!消費電力最大93%削減!騒音…
『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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消費電力大幅削減!ペルチェチラー 『NIKOLA3K/5K』
フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエ…
『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイ...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー 半導体製造工程のプラズマエ…
『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー です。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応! 温度制御部は、7つのペルチェデバイ...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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フロン対策はお済みですか?ペルチェチラー ThermoCube
コンパクト!消費電力大幅削減!低騒音・低振動!フロンガス不使用!ペルチ…
ています。オプションを多数用意しており、様々なカスタマイズが容易なデザインとなっています。フロンガス不使用で環境にやさしいチラーです。 *オプションに関してはお問合せ下さい 【特徴】 ■半導体製造装置の温度コントロール ■レーザーの冷却 ■ガス容器の温度コントロール ■スキャニング電子顕微鏡 ...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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薬液の流路チューブをダイレクトに温度制御するので従来の間接温調方式に比…
半導体製造の洗浄過程で使用される薬液の温度管理は製品の品質や生産性を左右する重要なファクターです。 ペルチェモジュールを用いた本装置は洗浄薬液を±0.05℃で温度制御を行います。 非常に小型のモジュールで、流路チューブをダイレクトに温度制御する方式ですので従来のタンクで薬液を温調するよりも10-30%使用量の削減が見込めます。 さらに動作部分がないシンプル構造のため振動・ノイズもなくメンテナンスが...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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【デモ機あり】 粉体溶解機 / 粉末溶解ポンプ
様々な粉体を液体中に分散・溶解が可能! ダマや溶け残りなし・短…
関西乳機株式会社