半導体 | イプロス医薬食品技術

PR超硬丸ナイフ、セラミック刃はアルスにお任せください。お客様のご要望の仕…

このようなお悩みを抱えていませんか。・市販の丸ナイフでは耐久性がなく、頻繁に替刃が必要・市販の丸ナイフでは、特殊素材がカットできない・特注で刃を作りたいが、量が少なく高額になる・市販規格の超硬丸ナイフを機械に取り付けたいアルスは、そんなお客様のお悩みを解決します。金属粉、金属イオン、水分や水蒸気、薬剤を嫌う切断物にはセラミック刃のご提案も可能です。お客様...

メーカー・取り扱い企業：アルスコーポレーション株式会社

プラズマエッチャーチラー ThermoRack1201/1801

半導体製造工程のプラズマエッチングに好適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1201/1801』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社

プラズマエッチャーチラー　NIKOLA3K/5K

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。主要エッチャーメーカーの製品に対応！温度制御部は、7つのペルチェデバイ...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！薬液温調システム

薬液の流路チューブをダイレクトに温度制御するので従来の間接温調方式に比…

半導体製造の洗浄過程で使用される薬液の温度管理は製品の品質や生産性を左右する重要なファクターです。ペルチェモジュールを用いた本装置は洗浄薬液を±0.05℃で温度制御を行います。非常に小型のモジュールで、流路チューブをダイレクトに温度制御する方式ですので従来のタンクで薬液を温調するよりも10-30%使用量の削減が見込めます。さらに動作部分がないシンプル構造のため振動・ノイズもなくメンテナンスが...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社

温度制御チラー『ThermoRack1201』　

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社

温度制御チラー　『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。主要エッチャーメーカーの製品に対応！温度制御部は、7つのペルチェデバイ...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社

フロン対策はお済みですか?『ThermoRack1201』

フロンガス不使用のペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエッチングに…

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。主要エッチャーメーカーの製品に対応！温度制御部は、7つのペルチェデバイ...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack1801』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1801』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack1201』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社

プラズマエッチャーチラー『ThermoRack1201』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー　『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。主要エッチャーメーカーの製品に対応！温度制御部は、7つのペルチェデバイ...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社

フロン対策はお済みですか？『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

『NIKOLA3K/5K』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。主要エッチャーメーカーの製品に対応！温度制御部は、7つのペルチェデバイ...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社

フロン対策はお済みですか？ペルチェチラー　ThermoCube

コンパクト！消費電力大幅削減！低騒音・低振動！フロンガス不使用！ペルチ…

ています。オプションを多数用意しており、様々なカスタマイズが容易なデザインとなっています。フロンガス不使用で環境にやさしいチラーです。＊オプションに関してはお問合せ下さい【特徴】 ■半導体製造装置の温度コントロール ■レーザーの冷却 ■ガス容器の温度コントロール ■スキャニング電子顕微鏡 ...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社

薬液温調システム CLEANSTREAM

薬液の流路チューブをダイレクトに温度制御するので従来の間接温調方式に比…

半導体製造の洗浄過程で使用される薬液の温度管理は製品の品質や生産性を左右する重要なファクターです。ペルチェモジュールを用いた本装置は洗浄薬液を±0.05℃で温度制御を行います。非常に小型のモジュールで、流路チューブをダイレクトに温度制御する方式ですので従来のタンクで薬液を温調するよりも10-30%使用量の削減が見込めます。さらに動作部分がないシンプル構造のため振動・ノイズもなくメンテナンスが...

メーカー・取り扱い企業：エムエス機器株式会社