耐摩耗性、切れ味抜群！超硬丸ナイフ（丸刃）およびセラミック刃

PR超硬丸ナイフ、セラミック刃はアルスにお任せください。お客様のご要望の仕…

このようなお悩みを抱えていませんか。 ・市販の丸ナイフでは耐久性がなく、頻繁に替刃が必要 ・市販の丸ナイフでは、特殊素材がカットできない ・特注で刃を作りたいが、量が少なく高額になる ・市販規格の超硬丸ナイフを機械に取り付けたい アルスは、そんなお客様のお悩みを解決します。 金属粉、金属イオン、水分や水蒸気、薬剤を嫌う切断物には セラミック刃のご提案も可能です。 お客様...

メーカー・取り扱い企業： アルスコーポレーション株式会社

まるごと洗える撹拌機　ジェット式撹拌機AJITER×水圧モータ

PRいつも清潔　まるごと洗える撹拌機　オイルやグリースは不使用

水で撹拌機を動かすため設置環境には電気は不要。 またモータ・撹拌機本体はグリースやオイル等一切使用していません。 撹拌機まるごと水洗い可能でいつでも清潔です。 水産・食品工場等の油分を嫌うシチュエーションをはじめ、 危険場所や漏電の危険がある環境下等でも 安心してご使用いただけます。...【仕様】 ■型式：RJ02-ADS ■回転数：約350~1200rpm ■接液材質：（軸）SUS304/（翼）...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社島崎エンジニアリング 本社

半導体材料の最先端の原料

次世代半導体材料のための最先端の原料

この化学物質は、中国の有名なチームによって開発されたもので、現在、29gの本製品を製造するための研究に成功し、98％以上の純度を実現しています。用途は、次世代有機半導体の原料です...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

ペルフルオロブタ－1，3－ジエン　685-63-2　C4F6

ペルフルオロブタ－1，3－ジエン　685-63-2　C4F6

ペルフルオロブタ－1，3－ジエンは、パーフルオロブタジエン（HFBD）としても知られ、分子式はC4F6である。ペルフルオロブタ－1，3－ジエンは、合成樹脂やフッ素系物質の重要なモノマーであり、半導体産業におけるエッチングガスとしても高い選択性と精度で使用されている。そのほか、さらに、ヘキサフルオロブタジエンは、従来のパーフルオロカーボン（PFCs）エッチングガスに比べ、大気汚染や環境汚染が比...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

四フッ化ゲルマニウム　GeF4　7783-58-6　6N

四フッ化ゲルマニウム　GeF4　7783-58-6　6N

四フッ化ゲルマニウムは重要な無機化合物の一種で、半導体分野では主にドーピングとイオン注入の時に使用されます。四フッ化ゲルマニウムはエチルシランガスと組み合わせることができ、直接ガラス基板上にシリコンゲルマニウム微結晶を作成し、低ノイズ低温アンプ、整流...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

ペンタフルオロホスホラン　F5P　7647-19-0

ペンタフルオロホスホラン　F5P　7647-19-0

ペンタフルオロホスホランは、一般的に使用される半導体エッチングガスで、シリコン系材料のエッチングや表面処理によく使用されます。 材料表面の有害な酸化物や有機汚染物質を迅速に除去し、半導体表面の化学的・物理的特性を変化させることができる。...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

オクタフルオロプロパン　C3F8　76-19-7

オクタフルオロプロパン　C3F8　76-19-7

半導体産業では、オクタフルオロプロパンはプラズマエッチング材料として使用され、医療では、オクタフルオロプロパンは網膜硝子体手術後の充填剤や超音波造影剤として使用され、オクタフルオロプロパンは冷凍混合物の製造にも使用されている。...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

ヘキサフルオロエタン C2F6 76-16-4

ヘキサフルオロエタン C2F6 76-16-4

使用される。 2.マイクロエレクトロニクス産業において、プラズマエッチングガス、デバイス表面洗浄、光ファイバー製造、低温冷凍に使用される。 ヘキサフルオロエタンは、無毒、無臭、高安定性のため、半導体製造工程で広く使用されている，例えば、エッチャント（ドライエッチング）として。 化学蒸着（CVD、Chemical Vapor Deposition）後のキャビティの洗浄。特に半導体デバイスの発展...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

フルオロメタン　CH3F　593-53-3

フルオロメタン　CH3F　593-53-3

Si3N4の異方性エッチングガスとして、SiO2やSiに対する選択比が高く、3次元NAND、DRAM、Fin-FET半導体デバイス製造の前工程微細構造エッチングプロセスで注目されている...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

3M FC-40代替品

Perfluorotributylamine CXFL-40（3M F…

many single phase heat transfer applications in the semiconductor manufacturing industry. 全フッ素化液体、半導体製造に適用。 ...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

CXFL-3283（3M FC-3283代替品

CXFL-3283（3M FC-3283代替品

many single phase heat transfer applications in the semiconductor manufacturing industry. 全フッ素化液体、半導体製造に適用...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

CXFL-7000 （3M Novec 7000代替品）

Methyl perfluoropropyl ether CXFL-7…

sed as an automatic cascade refrigerant. CXFL-7000 フッ化物は、製薬および化学処理用途で反応器を冷却するための低温熱伝達流体として使用されます。 半導体業界では、このフッ素化液体は極低温を必要とする自動テスト装置やウェーハ処理装置に適しています。 自動カスケード冷媒としても使用できます。 ...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

CXFL-43 （3M FC-43代替品)

Perfluorotri-N-Butylamine  CXFL-43…

vapor deposition, and TFT production in the electronics and semiconductor industries. エレクトロニクスおよび半導体産業における検出、化学蒸着、TFT 製造に適しています ...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO