大特価キャンペーン！ ゲノミクス研究開発サービスを包括的に提供！

PRNGS、サンガーシーケンシング、プラスミド全長シーケンス解析、人工遺伝…

この度、当社は１０月以降にキャンペーンを開催いたします。 【GENEWIZ ウィンターキャンペーン】 2024年10月1日～2025年3月末までのご注文対象​ RNA-Seq、シーケンシングのみ（解析のみ・Sequencing only）、シングルセル遺伝子発現受託解析など、お得な価格でご提供。 詳細は、１０月１日以降、当社Websiteにてご確認ください。 【キャン...

メーカー・取り扱い企業： アゼンタ株式会社

【製薬業界向け】AXOM社製AIロボット外観検査

PRロボットアームで全方位検査可能。シンプルかつフレキシブルな外観検査装置…

『AIロボット外観検査』は、ロボットアームを使用してボトルを持ち上げ、 回転させることで、カメラが全方位から、人間の目以上の精細検査を行う 異常検出のための実証済みソリューションです。 撮影された画像は、事前に欠陥認識のために訓練された、機械学習アルゴリズム (AI)によって解析。機械学習の活用により、従来のボルテックスミキサーで製品を回転させる方法が不要となります。 これまでの製品搬...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エステックエンジニアリング

回転補償子型 分光エリプソメータ『SE-2000』※セミナー開催

多層膜の膜厚・屈折率を非接触で高精度測定。本体の操作や解析作業が容易　…

『SE-2000』は、薄膜の膜厚・屈折率を“非接触”で高精度に測定できる回転補償子型の分光エリプソメータです。 ユーザーフレンドリーな解析ソフトを備えており、解析作業が容易。 深紫外から近赤外領域まで幅色い波長領域の測定に対応しています。 材料の組成比、異方性、Mueller Matrix、偏光解消度、反射率・透過率、ドーパン...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

【技術資料】分光エリプソメーター測定原理～偏光とは？　※資料進呈

偏光・エリプソメーター・ブリュースター角など！図やグラフと共に分かりや…

■偏光とは ■サンプル表面の変更 ■エリプソメーターとは ■エリプソメーターの原理 ■ブリュースター角とは 〈　ウェビナーを開催いたします！※詳細　〉 ■テーマ：分光エリプソメータ 解析モデル作成手順の説明～初級編～ ■開催日時 ・4/22(木) 10:00～ ・5/13(木) 16:00～ ■内容 一般的な構造のサンプルを例にして、解析モデルの作成手順をご説明します。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

超高感度DLTS　バルク内欠陥・界面準位測定装置

不良及び結晶欠陥の解析に有効！幅広いクライオスタット用のインターフェイ…

性等の測定が可能な バルク内欠陥・界面準位測定装置です。 「DLS-1000」は、10^8cm3レベルのバルク内欠陥、界面準位の高感度な 測定に対応。ライブラリーを標準装備しておりますので解析が容易に行えます。 高感度アナログ／デジタル（測定はアナログ、データ処理はデジタル） ロックイン平均法を採用したユニークなシステムで、且つオペレーター フレンドリーなソフトを装備しています...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

高感度DLTSシステム　DLS-1000

超高感度DLTSシステム／バルク内欠陥・界面準位測定装置

108 cm3レベルのバルク内欠陥、界面準位の高感度な測定に対応（DLS-1000)。 又、ライブラリーを標準装備しておりますので解析が容易に行えます。 【特徴】 ●高感度な汚染検出が可能 （2x108 atoms/cm3 ）。 ●幅広いクライオスタット用のインターフェイスを装備。 ●温度、周波数スキャン、C-V特性...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

トレンチ深さ測定装置 IR2100

トレンチ深さ測定装置

すると、薄膜各層の界面から（多重）反射した光は光学干渉を起こす。干渉波形（インターフェログラム）は検出器にて観察され、これをフーリエ変換し反射率スペクトルを得る。この反射率スペクトルは既存のFTIR解析技術に加え、各種測定アプリケーション（膜材とその構造）に対応可能なデータベース化された解析モデルを使用して、測定対象（主に絶縁膜）の膜厚、トレンチ深さ、空孔率、ドープ濃度、TSV形状、リセス測定など...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

結晶欠陥分析装置(非接触、非破壊式)

結晶欠陥分析装置(非接触、非破壊式)

結晶欠陥分析装置 SIRM-300は、非接触、非破壊にて結晶欠陥測定が可能な光学測定器です。 様々なバルク特性解析(バルク/半導体ウェハーの表面付近の酸素、金属　堆積物、空乏層、積層欠陥、スリップライン、転位)が可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社