リニアポンプ『LRシリーズ』【優れた定量性と送液精度！】

PR医薬・研究・食品・環境分析など幅広い用途に応える高機能！独自開発による…

リニアポンプ『LRシリーズ』は独自開発による超高効率リニアドライブ により、優れた定量性と送液精度で医薬・研究・食品・環境分析など 幅広い用途に応える高機能を搭載しています。 【特長】 ■静音 　新しい駆動方式の採用により騒音の原因となる運転音を回避。 　※ 運転条件、周囲環境により異なります。 ■無脈動 　駆動部を独立制御。2つのポンプ部の交互運転により無脈動注入を実現。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イワキ

洗剤内製化でコスト削減｜高pHアルカリ電解水生成装置

PR【FOOMA出展 実物展示あり】pH 13.2 のアルカリ電解水を高効…

【FOOMA JAPAN 2024 6/4-7出展。実物展示あり。4B-01(東4ホール)】 『高pHアルカリ電解水生成装置』は、最低限の設備環境で使用可能な製品です。 業界最高水準pH13.2のアルカリ電解水を低コストで生成。酸性水、塩素ガス、廃水が発生しないため、廃液処理コストや管理は不要です。 電解質は環境に配慮した食品添加物を採用しており、環境汚染物質はありません。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社バンガードエンタープライズ

プラズマエッチャーチラー　NIKOLA3K/5K

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

【基本仕様】 温度範囲：－10℃～80℃ 冷却能力：NIKOLA3K ： 3000W＠20℃ NIKOLA5K ： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

プラズマエッチャーチラー ThermoRack1201/1801

半導体製造工程のプラズマエッチングに好適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1201/1801』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持した...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

温度制御チラー『ThermoRack1201』　

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持したまま稼働し...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

温度制御チラー　『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

【基本仕様】 温度範囲：－10℃～80℃ 冷却能力：NIKOLA3K ： 3000W＠20℃ NIKOLA5K ： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

プラズマエッチャーチラー『ThermoRack1201』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持したまま稼働し...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack1201』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持したまま稼働し...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー　『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

【基本仕様】 温度範囲：－10℃～80℃ 冷却能力：NIKOLA3K ： 3000W＠20℃ NIKOLA5K ： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

フロン対策はお済みですか？ 『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

【基本仕様】 温度範囲：－10℃～80℃ 冷却能力：NIKOLA3K ： 3000W＠20℃ NIKOLA5K ： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

フロン対策はお済みですか?『ThermoRack1201』

フロンガス不使用のペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエッチングに…

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応！ 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社