【食品開発展】機能性表示食品対応素材と液体充填カプセルのご紹介

PR新たな機能性表示が受理された2原料のご紹介のほか、充填機のデモを実施し…

ロンザは、東京ビッグサイトにて開催される「食品開発展2024」に出展いたします。 機能性表示食品対応素材として新たに脂肪燃焼機能で受理されたL-カルニチン『Carnipure(R)』と、 膝関節サポート機能に加え、新たに運動習慣者の歩行サポート機能でも受理された非変性II型コラーゲン『UC-II(R)』をご紹介。 併せて、独自のカプセル技術として油系、水系、ビーズタイプなど様々なタイプの素材を...

メーカー・取り扱い企業： ロンザ株式会社

【人手に頼っていた重筋作業を改善】段ボールケース開梱・取出し装置

PR【人手に頼っていた重筋作業を改善】原料段ボールケースの開梱と原料の取り…

［重労働な原料段ボールケースの開梱作業］ 食品工場での原料の荷捌き工程は、重量物の取り扱いや作業環境による身体の負担、怪我の心配があり、省人化及び労務改善の観点から自動化を求める声が高まってきています。また、開梱時に段ボール自体をカットすると紙粉が発生しやすく、紙粉は異物混入の原因になり得ます。 ［自動で開梱、原料の取り出し、空ケース排出をコンパクトに］ 本装置は、食品原料入りの段ボールケースを...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニッコー

プラズマエッチャーチラー　NIKOLA3K/5K

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

【基本仕様】 温度範囲：－10℃～80℃ 冷却能力：NIKOLA3K ： 3000W＠20℃ NIKOLA5K ： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

プラズマエッチャーチラー ThermoRack1201/1801

半導体製造工程のプラズマエッチングに好適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1201/1801』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持した...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

温度制御チラー『ThermoRack1201』　

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持したまま稼働し...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

温度制御チラー　『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

【基本仕様】 温度範囲：－10℃～80℃ 冷却能力：NIKOLA3K ： 3000W＠20℃ NIKOLA5K ： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

プラズマエッチャーチラー『ThermoRack1201』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持したまま稼働し...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack1201』

半導体製造工程のプラズマエッチングに最適！消費電力最大93％削減！騒音…

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が起きても、約85％の能力を維持したまま稼働し...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー　『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

【基本仕様】 温度範囲：－10℃～80℃ 冷却能力：NIKOLA3K ： 3000W＠20℃ NIKOLA5K ： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

フロン対策はお済みですか？ 『NIKOLA3K/5K』

フロンガス不使用の高冷却能力ペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエ…

【基本仕様】 温度範囲：－10℃～80℃ 冷却能力：NIKOLA3K ： 3000W＠20℃ NIKOLA5K ： 5000W＠20℃ 加熱能力：2000W＠25℃ タンク：10L 接液部材質：アルミニウム、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：W566×D711×H887(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

フロン対策はお済みですか?『ThermoRack1201』

フロンガス不使用のペルチェチラー　半導体製造工程のプラズマエッチングに…

『ThermoRack1201』は、素早い温度応答性と、±0.05℃の温度安定性で 冷却・加熱が制御できる、フロンガス不使用の温度制御チラーです。 半導体製造工程のプラズマエッチングに最適化されたデザインで、 ウエハー、ロット同士の品質のバラつきが改善できます。 主要エッチャーメーカーの製品に対応！ 温度制御部は、7つのペルチェデバイスで構成され、 1個のデバイスに不具合が...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社