• KrosFlo KR2i RPM システム 製品画像

    KrosFlo KR2i RPM システム

    PRサイクル時間を短縮!歩留率を向上させることでプロセスの効率性を高めます

    当社では、リアルタイムプロセス管理とラボスケールタンジェンシャル フローろ過(TFF)を統合した『KrosFlo KR2i RPM システム』を 取り扱っております。 当システムは、KrosFlo KR2i システムとCTech FlowVPX 可変光路長紫外可視分光光度計を組み合わせ、インライン濃度 モニタリングとエンドポイント制御を備えた自動TFFを提供。 KR2iとFlo...

    メーカー・取り扱い企業: レプリジェンジャパン合同会社

  • バックターン洗浄機 自動戻りシステム搭載! 製品画像

    バックターン洗浄機 自動戻りシステム搭載!

    PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現!移動範囲も…

    バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法:1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヒタカ精機

  • レーザー微細加工 製品画像

    レーザー微細加工

    研究分野に多数実績有!粘着性を持つ高分子素材にも微細加工が可能なレーザ…

    シーエステックのレーザー微細加工は、バリが出にくく高い精度で加工が 可能で、打ち抜くと割れてしまうような樹脂素材の加工に適しています。 部品などへの細かい模様や、ネーミングが可能。 4波長のレーザー微細加工でより高品質な加工が可能になりました。 研究開発者様や設計技術者様向けに、微細な受託加工・試作・量産を 承っています。 【特長】 ■加工困難な粘着性を持つ高分子材料にも...

    メーカー・取り扱い企業: シーエステック株式会社

  • 産業用全固体ナノ秒パルスUVレーザ『MATRIX UV』 製品画像

    産業用全固体ナノ秒パルスUVレーザ『MATRIX UV』

    待望の低価格、完全空冷式モデル誕生!実証済のPermalignおよびP…

    『MATRIX UV』は、完全空冷式で10Wの平均出力の産業用ナノ秒 UV(355nm)発振の全固体パルスレーザです。 コントローラは、レーザヘッドに一体化されており、長寿命、優れた コストパフォーマンスを実現します。 過酷な動作環境で、要求の厳しいUVのアプリケーション用に設計されており、 広い動作範囲(繰返周波数設定)において、パルスオンディマンドと 同期されたパルス出力を...

    メーカー・取り扱い企業: コヒレント・ジャパン株式会社 本社、大阪支店、厚木TEC

  • レーザー印字機『LPMシリーズ』 製品画像

    レーザー印字機『LPMシリーズ』

    金型不要で少ロット生産から量産まで対応可能なレーザー印字機!

    『LPMシリーズ』は、ワーク毎に作業内容を登録すると、呼び出すだけで 簡単に操作が出来るレーザー印字機です。 印字箇所の登録方法は、モニターでの目視指示、あるいはXYZの数値座標を 指定するだけ。自動連続ステージ式の場合、一度の操作で最大12個の ワークを自動的に加工が可能。また、平面だけでなく曲面にも加工する ことが可能です。 【LPMシリーズの特徴】 1.簡単操作・自動加...

    メーカー・取り扱い企業: アイセルグループ株式会社

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