• NIR錠剤検査装置 製品画像

    NIR錠剤検査装置

    PR製剤工程の品質検査が変わるー透過NIRで最大25万錠/時の全数成分検査…

    NIR錠剤検査装置は、打錠機の後段におけるインライン全数検査を可能とし、ロット内全てにおける錠剤成分の均一性確保に貢献します。 <特長> ■NIR「透過」検査を実現 ■最高25万錠/時で高速検査 ■成分量を非破壊で全数検査 詳しくは、PDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。...お問合せください...

    メーカー・取り扱い企業: アンリツ株式会社 インフィビスカンパニー 医薬品事業本部

  • 軽包装フィルムの加工費コスト削減に貢献するラミネート加工 製品画像

    軽包装フィルムの加工費コスト削減に貢献するラミネート加工

    PRCPP15μmの極薄押出しラミネート加工による、軽包装フィルムのご提案…

    『イチゴラミ』は、基材等のOPPフィルムに接着剤を塗布しないで行う、広幅・ 薄肉のCPP押出しラミネート加工技術。 仕上がりのフォルム厚が薄いため、おもに軽包装用途に適しているほか、経済性 に優れ、環境にも配慮した加工法です。 また特定の樹脂を使用し、一般PPより低温でシールができるため、包装充填の 速度アップが可能で、加工生産量を増やすことができます。 【『イチゴラミ』が...

    メーカー・取り扱い企業: ニットーパック株式会社

  • プローブに原子を採用した表面分析装置(CAICISSの発展版) 製品画像

    プローブに原子を採用した表面分析装置(CAICISSの発展版)

    結晶方位・極製は15分で一目瞭然!帯電の影響がなく安定した表面分析が可…

    『TOFLAS-3000』は、金属、半導体、絶縁体などの固体表面の結晶構造および 元素分析を同時に行うことができる原子散乱表面分析装置です。 本装置は同軸型直衝突イオン散乱分光法(CAICISS)を発展させ、電気的に中性なHe(Ne、Ar)等の原子ビームを探査プローブとして用いている為、絶縁体でも帯電の影響がなく安定した表面分析が可能です。 結晶表面構造解析では、入射角の全方位スキャ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社パスカル

  • 真空薄膜形成装置や表面分析装置 長年培った真空技術がこの一冊に! 製品画像

    真空薄膜形成装置や表面分析装置 長年培った真空技術がこの一冊に!

    長年培った真空技術!真空機器関連及び理化学機器における製品ラインアップ…

    真空機器・装置、理化学機器・装置においてグローバルな視野を持ち、 常に時代の先端を見つめ、新しい技術と商品ニーズを先取りし、 ユーザー様の役に立つ製品を提供し続けている、株式会社パスカルの 総合カタログです。 従来のイオン散乱表面分析装置では不可能だった、絶縁体表面の極性判別や 構造解析、元素同定、さらに電場・磁場中での【その場分析】を可能にした 飛行時間型原子散乱表面分析装置「T...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社パスカル

  • RHEEDユニット『PHD-30K-034』 製品画像

    RHEEDユニット『PHD-30K-034』

    30kV対応かつコンパクトな制御電源!1Pa台まで使用可能な差動排気設…

    『PHD-30K-034』は、超真空下で加速収束された電子線を基板に照射し、 表面キャラクタリゼーションを行うための反射高速電子線回析システムです。 コンパクトサイズでICF34フランジマウントの電子銃は、その小ささから 取り付けやメンテナンスが容易。 また、標準的な回折像観察に加えて、オプション追加により高圧条件下での 測定またはサンプル面内スキャン機能を実現することができます...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社パスカル

  • 表面分析機器『TOFLAS-3000』 製品画像

    表面分析機器『TOFLAS-3000』

    電気的に中性な原子ビームを採用!帯電の問題を解決した表面分析機器

    『TOFLAS-3000』は、入射プローブとしてイオンではなく電気的に中性な 原子ビームを用いた飛行時間型原子散乱表面分析装置です。 本製品を使用することにより、半導体,金属のみならず絶縁体表面の 組成および原子配列の解析も可能です。 また、帯電(チャージアップ)の問題も解決します。 【特長】 ■金属、半導体はもとより絶縁体の表面分析にも威力を発揮 ■試料表面の元素の同定が可...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社パスカル

  • コンパクトレーザーMBE装置『PAC-LMBE』 製品画像

    コンパクトレーザーMBE装置『PAC-LMBE』

    扱いやすいデザインで各種成膜条件の制御が容易!6種類のターゲットが使用…

    『PAC-LMBE』は、拡張性の高い超高真空レーザーMBE(PLD)システムです。 基板加熱ユニットとして、赤外線ランプ加熱と半導体レーザー加熱の いずれかを選択可能。6種類のターゲットが使用できます。 また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を 簡単交換いただけます。 【特長】 ■拡張性が高い ■到達真空度:6.7×10^-7Pa(5×10^-9To...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社パスカル

  • クラスター真空成膜・評価装置紹介 製品画像

    クラスター真空成膜・評価装置紹介

    測定・研究したい要素をそのまま!お客様のニーズに合致させることが可能な…

    『クラスター真空成膜システム』は、試料自動搬送システム、サンプル交換室、 サンプルストッカー室、スパッタ室に加え誘電率・磁性測定、ホール測定装置 などの分析機を備えた評価室から構成されます。 また、中央の試料自動搬送チャンバーは、各成膜室ならびに分析室と接続。 試料を真空中でロボット搬送し試料作製から評価までを自動で行います。 尚、すべてのチャンバーは高真空環境で接続させることも...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社パスカル

  • モバイルコンビレーザーMBE装置『MC-LMBE』 製品画像

    モバイルコンビレーザーMBE装置『MC-LMBE』

    スキャニングRHEEDを標準装備!モーター駆動コンビナトリアルマスクを…

    『MC-LMBE』は、操作性の高いコンパクトな超高真空レーザーMBE(PLD) システムです。 1200℃まで加熱可能な半導体レーザー基板加熱ユニットを搭載。 モーター駆動コンビナトリアルマスクを2枚を装着しています。 また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を 簡単交換できます。 【特長】 ■操作性が高くコンパクト ■到達真空度:6.7×10^-7...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社パスカル

  • 飛行時間型原子散乱表面分析装置『TOFLAS-3000』 製品画像

    飛行時間型原子散乱表面分析装置『TOFLAS-3000』

    結晶方位・極製は15分で一目瞭然!帯電の影響がなく安定した表面分析が可…

    『TOFLAS-3000』は、金属、半導体、絶縁体などの固体表面の結晶構造および 元素分析を同時に行うことができる原子散乱表面分析装置です。 本装置は同軸型直衝突イオン散乱分光法(CAICISS)を発展させ、電気的に中性なHe(Ne、Ar)等の原子ビームを探査プローブとして用いている為、絶縁体でも帯電の影響がなく安定した表面分析が可能です。 結晶表面構造解析では、入射角の全方位スキャ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社パスカル

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