小型スパッタ装置

対応基板は最大φ1インチまで処理が可能！デュアルガスノズルを備えた装置

『小型スパッタ装置』は、1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載した 実験用高真空小型制膜装置です。 放電用にマッチングユニット付きのRF電源を一台装備。 酸化反応スパッタリングに対応できるデュアルガスノズルを備えます。 また、対応基板は最大φ1インチまで処理が可能です。 【特長】 ■1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載 ■放電用にマッチングユニット付きの...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

高周波レーザーCVD装置

簡単に試料セットする事が可能！外部ビューポートよりYAGレーザーを入射…

当製品は、高周波加熱コイルの中心に試料ステージ（自動回転機構付き）があり、 外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができるCVD装置です。 サンプル導入口はチャンバー側面で、両側開閉可能。 簡単に試料セットする事ができます。 オプションでチャンバー上部にガス供給系（最大5系統）を設置する事も可能です。 【特長】 ■外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができ...

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2次元抵抗加熱蒸着装置

蒸着源はボートタイプ！基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任…

『2次元抵抗加熱蒸着装置』は、簡単に2つの材料を抵抗加熱により蒸着出来る 装置です。 蒸着源はボートタイプで、基板は支柱上のプレートに取付けられており、 高さは任意に変更可能。 排気系は、DPとRPを併用しておりますので、短時間で高真空が得られます。 【特長】 ■SUS製上チャンバーには、CF70ポートが2式、50φの窓が2式、 　又下チャンバーはCF70ポートが6式標準...

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電気炉『高温ガス雰囲気炉』

デジタルプログラムPID制御を採用！下部から試料挿入可能な実験用炉です

『高温ガス雰囲気炉』は、下部から試料挿入可能な実験用炉です。 ヒーター内寸法はφ140mm×300mmHで、重量は200Kg。 デジタルプログラムPID制御を採用しています。 【特長】 ■下部から試料挿入可能な実験用炉 ■ヒーター内寸法はφ140mm×300mmH ■重量は200Kg ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...【仕様】 ...

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酸化シリコン成膜CVD装置

3インチウェハ対応！コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しま…

当製品は、酸化シリコンを成膜する為のCVD装置です。 コンパクトな設計となっており省スペース化を実現。 内面処理は電解研磨、チャンバー材質はSUS316です。 また、3インチウェハ対応となっております。 【特長】 ■酸化シリコンを成膜 ■コンパクトな設計となっており省スペース化を実現 ■3インチウェハ対応 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合...

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電気炉『LPE装置(縦型2段式加熱炉)』

溶湯に温度差をつけての実験に！上下個別温度制御可能な電気炉のご紹介です

『LPE装置(縦型2段式加熱炉)』は、溶湯に温度差をつけての実験に用いる 電気炉です。 サイズはφ80×300（有効内径）×2段。上下個別温度制御可能です。 また、駆動機構は「炉体上下」と「試料(溶湯)上下」、 「上部ロッド回転機構、上下微動」です。 【特長】 ■溶湯に温度差をつけての実験に用いる ■駆動機構 ・炉体上下 ・試料(溶湯)上下 ・上部ロッド回転機構、上...

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積層薄膜作製装置

多層塗りによる厚膜の作製！スピンコータに液だれ防止が工夫されている装置

『積層薄膜作製装置』は、化学溶液法による積層薄膜作製プロセスである、 スピンコーティング、乾燥、焼成、冷却の各工程の繰り返しをロボットを 用いて行い、多層塗りによる厚膜の作製を自動で行う装置です。 コンピュータコントロールによるプログラム設定により、スピンコーティング、 乾燥、焼成、冷却の各工程の詳細な条件設定並びに、工程の省略、 工程フローの変更、工程の保存が任意に出来るプログラム...

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レーザーCVD装置

サンプルMAXサイズ10mm口！耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用い…

『レーザーCVD装置』は、CO2レーザーをあてながらCVD成膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。 【仕様】 ■サンプルMAXサイズ10mm口 ■600℃までヒーター加熱 ■RPにて排気、MAX 5Pa ■O2 x 1 Ar x 4系統　MFC仕様 ■φ300 x ...

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真空(ガス置換)加熱炉

Max1000℃！石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱が可能で…

株式会社和泉テックで取り扱う『真空(ガス置換)加熱炉』をご紹介します。 ガスはO2に加えてArも使用可能。 試料を早く冷却するため炉体は可動式です。 石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱ができます 【仕様】 ■排気系　RP + TMP/到達真空5 x 10^-5Pa ■ガスはO2に加えてArも使用可能 ■Max 1000℃ ■石英管内経φ76 ■試料を早く冷却...

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水素還元雰囲気炉『lZR-1600』

6打点式（ハイブリット型）！水素排気に安全性が設計されている水素還元雰…

『lZR-1600』は、室内寸法の割にはコンパクトサイズに設計されている 水素還元雰囲気炉です。 設置寸法は、700mmW×1800mmH×810mmD、重量は約600Kg。 ガス2系統が入ります。 水素排気に安全性が設計されています 【特長】 ■室内寸法の割にはコンパクトサイズに設計 ■ガス2系統が入る ■素排気に安全性が設計 ※詳しくは外部リンクページをご覧い...

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プラズマCVD装置

漏洩マイクロ波検出用も付属！試料の取付は、下部よりモーターによる上下機…

『プラズマCVD装置』は、実験用に極端に簡素化して製作されたCVD装置です。 マスフロー本体は、メーカー品を使用。表示器、設定器は当社オリジナルで 製作し価格を下げております。 また、プラズマ発生域と試料の距離を変更できるよう、マイクロ波導波管を 上下できる機構を備えています。 【特長】 ■実験用に極端に簡素化して製作 ■マイクロ波導波管を上下できる機構を備えている ■...

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電気炉『高温試料急冷試験炉』

急冷が可能！試料サイズはφ30x60（白金ワイヤー吊り下げ式）です

『高温試料急冷試験炉』は、Max1500℃までガス置換昇温した後 試料を下部開閉蓋より落下させ急冷が可能な電気炉です。 電源は3相200V 60Aで、2系統プログラム温度調整器を採用。 また、試料サイズはφ30x60（白金ワイヤー吊り下げ式）です。 【特長】 ■Max1500℃までガス置換昇温した後試料を下部開閉蓋より落下させ急冷が可能 ■電源は3相200V 60A ■2系統...

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『卓上型高温電気炉』

最高到達温度1800℃で急速加熱ができる卓上型の高温電気炉

本製品は、理化学機器の販売を主とし、設計、製造を行う 株式会社和泉テックが取り扱っている卓上型高温電気炉です。 制御方式は、プログラム・サイリスタPID方式を採用。 サンプルの出し入れが容易な扉仕様となっております。 その他ご希望の仕様でも承りますので、お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■最高到達温度1800℃(大気) ■急速加熱が可能 ■サンプルの出し入れが容易な...

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磁場中加熱炉

従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで加熱…

株式会社和泉テックで取り扱う『磁場中加熱炉』をご紹介します。 炉内寸法φ50石英管。 サンプルサイズは12mm口 x 縦配列5枚です。 従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで 加熱できます。 【仕様】 ■炉内寸法φ50石英管 ■サンプルサイズ12mm口 x 縦配列5枚 ■10^-5Pa (PR.　分子ポンプ） ■Minギャップ80mmまで可...

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