サンプル保存用チューブ『二次元コード付きチューブ』

PRサンプル管理業務のデジタル化！業務効率化とトレーサビリティ構築に便利な…

二次元コード付きチューブは、チューブ底面に二次元コード（2Dコード）をもつサンプル保存用チューブです。 当社のThermo Scientific Matrix 2Dチューブは、摩擦や衝撃によるコード脱落や破損に強い2Dコードを持ちます。全てのコードに対して可読性と重複がないことを確認しています。気密性に優れたガスケットと一体成形のスクリューキャップにより、サンプルの輸送や超低温下での長期保管から...

メーカー・取り扱い企業： サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社／Thermo Fisher Scientific K.K.

DNAコード化ライブラリー(DEL)：創薬スクリーニングの新手法

PR研究の初期段階を加速！NGSで化合物スクリーニングができるDNAコード…

効率的な化合物スクリーニング手法として、 創薬の現場などで一般的な手法として確立されてきているDNAコード化ライブラリー（DEL）。 Sigma-Aldrichでは多くの研究者がDELの技術を広く利用できるようするために、 独自のダイナミックライブラリー技術を持つDyNAbind社の協力を得てDELを簡易キット化しました。 準備された実験プロトコルに従いスクリーニングを進めた後は、...

メーカー・取り扱い企業： メルク株式会社ライフサイエンス（シグマ アルドリッチ ジャパン合同会社）

CZ/高抵抗FZ 各種ウェーハ販売(評価・開発・テスト用)

少量ウェーハに対応！研究・テスト用途に便利なウェーハ販売サービス！ ハ…

されていないダミーウェーハ（コインロール）も取り扱っております。 ＊各種加工：成膜・グラインダー(30μm以下も可能）ダイシング・エッジ部面取り加工・サイズダウン・パターニング・シリコン及び化合物半導体ウェーハ再生（リクレイム）・再洗浄、測定及び分析サービス等も対応可能。 　 シリコン単結晶/多結晶/合成石英の各種加工品も取り扱っております。 化合物半導体や各種電子材料・ウェーハケー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

【分析事例】クリーンルーム内有機化合物の評価方法

GC/MS：ガスクロマトグラフィー質量分析法

半導体や液晶などの製造が行われているクリーンルームでは、パーティクルだけでなく分子レベルの化学汚染（分子状汚染）を把握することが重要です。浮遊分子状汚染物質としては酸・塩基性ガスや凝集性有機物質、ドーパント、金属などが挙げられ、成分に応じて分析方法は異なります。 ここでは凝集性有機物質の詳細と、代表的な捕集方法である“吸着剤捕集”と“ウエハ暴露捕集”について紹介します。...詳しいデータはカタロ...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

チップ移載装置『ACT-1000』

把持ピックアップ方式による新型チップソーター！

、 表面非接触ピックアップ機構により微小チップ（100μｍ以下）や ウェハー to トレー、トレー to トレー、ウェハー to GEL Pack等の チップ移載にも対応しています。 化合物半導体等の脆弱チップのハンドリングに最適な製品です。 【特長】 ■把持ピックアップ方式と吸着ピックアップ方式に対応 ■表面非接触ピックアップ機構により微小チップ（100μｍ以下）にも ...

メーカー・取り扱い企業： アクテス京三株式会社 技術センター

1インチ以下～450ｍｍで提供可能　「CZウェーハ」

1インチ以下～４５０ｍｍまで提供が可能です。各種成膜加工、ＦＺウェーハ…

50mmまでご提供が可能です。 また貴社でお持ちのウェーハにＥＰＩ成膜を行ったり、SOIウェーハへの加工なども対応可能です。 ＣＺウェーハ以外にも高抵抗ＦＺウェーハやサファイア、ゲルマニウム、化合物半導体、多結晶シリコンなども取り扱っております。 詳しくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

日本エクシード株式会社　事業紹介

複合技術で未来を創造する日本エクシード株式会社

日本エクシード株式会社は、主に半導体材料、酸化物材料、化合物材料、 金属材料の精密研磨加工及び洗浄を行っている会社です。 超平坦化技術・超薄化技術・超無歪み化技術・超清浄化技術・超平滑化 技術の5超の研磨技術を有し、すべての結晶材料の研磨加工を可...

メーカー・取り扱い企業： 日本エクシード株式会社

サンプル形状を選ばず、自由に処理！バレルタイプ プラズマ処理装置

微細なパターンやチューブ形状内面の洗浄、改質が可能！溶液を使用せずに洗…

バレルタイププラズマ処理装置「ＰＢシリーズ」は、等方性真空プラズマを利用して有機物の除去（Ashing）や油分の除去（Cleaning）、珪素化合物（ＳｉＯ2，ＳｉＮ）のEtching、濡れ性改善等の処理が溶液（Ｗｅt）を使用すること無く行える装置です。良環境性（クリーンな作業環境、無廃液）と低ランニングコストを実現します。 全方向から処理...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

測定器『FLA-200』

ウエハフラットネス測定システム！

【測定仕様】 ■測定対象 　・半導体・太陽電池材料関連（シリコン、ポリシリコン、SiCなど） 　・シリコン系エピタキシャル、イオン注入サンプル 　・化合物半導体関連（GaAs Epi, GaN Epi, InP, Gaなど） ■測定サイズ 　・3～8インチ ■測定範囲 　・Thickness: 200 –1200μm 　・Bow : +/...

メーカー・取り扱い企業： ナプソン株式会社

3インチ～12インチまで対応可能　「SOIウェーハ」

3インチ～12インチまで少量対応が可能です。 仕様により高抵抗基板・…

ハ(高抵抗シリコンウェーハ） →2"～8"(プライム/テスト）の紹介が可能 ○各種加工 →成膜加工・シリコン各種加工品（特殊加工・特殊厚み）も対応可能 ○その他 →シリコンウェーハの他、化合物半導体、ウェーハ用ケースなど ○LEDライト →御社のご使用環境に応じて提案可能 ●詳しくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

バレルタイププラズマ処理装置　ＰＢシリーズ

等方性プラズマを利用　微細なパターンやチューブ形状内面の洗浄、改質に最…

バレルタイププラズマ処理装置「ＰＢシリーズ」は、等方性真空プラズマを利用して有機物の除去（Ashing）や油分の除去（Cleaning）、珪素化合物（ＳｉＯ2，ＳｉＮ）のEtching、濡れ性改善等の処理が溶液（Ｗｅt）を使用すること無く行える装置です。良環境性（クリーンな作業環境、無廃液）と低ランニングコストを実現します。 全方向から処理...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

非接触式 抵抗測定器『NC-80MAP』

広範囲レンジ対応の非接触（渦電流法）シート抵抗/抵抗率 多点測定器

素材・機能性材料関連（カーボンナノチューブ、DLC、グラフェン、 　　銀ナノワイヤーなど） 　・導電性薄膜関連（メタル、ITOなど） 　・シリコン系エピタキシャル、イオン注入サンプル 　・化合物半導体関連（GaAs Epi, GaN Epi, InP, Gaなど） 　・その他（※お問い合わせください） ■測定サイズ：2～8インチ（オプション：12インチ） ■測定範囲 　・抵抗率：...

メーカー・取り扱い企業： ナプソン株式会社

非接触式 抵抗測定器『EC-80』

コンパクトで簡単操作の手動式非接触（渦電流法）抵抗測定器

素材・機能性材料関連（カーボンナノチューブ、DLC、グラフェン、 　　銀ナノワイヤーなど） 　・導電性薄膜関連（メタル、ITOなど） 　・シリコン系エピタキシャル、イオン注入サンプル 　・化合物半導体関連（GaAs Epi, GaN Epi, InP, Gaなど） 　・その他（※お問い合わせください） ■測定サイズ：～8インチ、または～156×156mm ■測定範囲 　・抵抗率：...

メーカー・取り扱い企業： ナプソン株式会社

【分析事例】SiC Planer Power MOSの分析

SiCデバイスの拡散層構造を可視化できます（拡散層構造の高感度評価）

査型静電容量顕微鏡）の機能を包括しており、 SCMでは評価が難しいSiCを代表とする次世代のパワーデバイスにおいても、低濃度から高濃度まで十分に評価を行うことができます。高感度を特徴とし、あらゆる化合物半導体デバイスに適用可能です。一例として、SiC Planer Power MOSの断面を製作し、SNDM分析を行った事例をご紹介します。...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST