マイクロリアクターULREA（アルリア）シリーズ

PR各種ナノ粒子の超精密合成、大量生産ができます。

ULREA（アルリア）シリーズは2枚のディスク間にできるマイクロメートルオーダーの間隙を反応場、晶析場として応用した湿式法・連続式の反応装置です。 金属、合金、酸化物、複合酸化物、有機顔料など各種ナノ粒子の超精密合成・表面処理と大量生産が容易に実現できます。 その他、マイクロスフェア、ナノスフェアも容易に創製可能です。 【ULREA（アルリア）の特長】 1. 確実なスケールアッ...

メーカー・取り扱い企業： エム・テクニック株式会社

グラフェン『酸化グラフェン』

独自の黒鉛酸化法により、酸化グラフェンの効率的合成を達成！

『酸化グラフェン』は、水に溶け、加工が容易なグラフェン材料です。 300μサイズまでの単層酸化グラフェンが製造可能で、単層の含有率は90％ 以上。 電気的に絶縁ですが、還元により導電性を得ること...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニューメタルス　エンド　ケミカルス　コーポレーション

後酸化式スパッタリング装置

多層の光学薄膜に最適な後酸化式スパッタリング装置です。

特長 ■後酸化方式の採用で高生産性を実現 ■優れた膜厚均一性±１％以下を実現 ■水平基板搬送による全面スパッタが可能...

メーカー・取り扱い企業： 芝浦メカトロニクス株式会社

CZウェーハ　成膜加工

2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。

株式会社エナテックのCZウェーハ 成膜加工は、膜種により2インチから450ｍｍウェーハへの成膜が可能です。 酸化膜系：熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系： HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

産業向けDRAMモジュール DDR3L R-DIMM

DDR3L-1600 DRAMメモリモジュールの各種ビット構成のソリュ…

マンスのレベル向上を特色としています。 ADATA のR-DIMM DDR3Lシリーズで最も顕著なアスペクトは、その高効率にあります。主要なエネルギー節約を実現し、ビジネスの全面的な電力消費量と二酸化炭素の包括的な排出減少をもたらします。 これらの利点はパフォーマンスに関して何れの犠牲も不要です - これらモジュールの高速運転および軽減されたメモリバスの読み込みは、非常に強化された総合システム効...

メーカー・取り扱い企業： エイデータテクノロジージャパン株式会社

【ディスクリート】MOSFET　ラインアップ一覧

モーター駆動などのスイッチング素子として利用！大電流の高速のスイッチに…

『MOSFET』(モスフェット)とは、電界効果トランジスタ(FET)に 金属酸化膜半導体(MOS)を組み合わせたトランジスタです。 ゲート・ソース間の印加電圧によってスイッチング制御を 行うことが可能。 モーター駆動などのスイッチング素子として利用されることが多く...

メーカー・取り扱い企業： アールエスコンポーネンツ株式会社

【分析事例】ワイドギャップ半導体β-Ga2O3のドーパント存在

ミクロな原子構造を計算シミュレーションによって評価可能

β-Ga2O3は広いバンドギャップを有し、優れた送電効率や低コスト化の面で次世代パワーデバイスや酸化物半導体の材料として期待されています。近年、β-Ga2O3はSiまたはSnのドーピングでn型化することが報告されています。本資料では、β-Ga2O3にSiもしくはSnをドープしたモデルに対して構造最...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

1インチ以下～450ｍｍで提供可能　「CZウェーハ」

1インチ以下～４５０ｍｍまで提供が可能です。各種成膜加工、ＦＺウェーハ…

の対応も可能です。 新規作成の場合,最小枚数は10枚程度からのご提供になります。 直径：3inch-12inch SOI層：2-200um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） SiO2(酸化膜）層：50nm-2um程度(0.1-10umも対応可能） 支持基板：300-725um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） 数量：在庫品の場合は数枚程度から対応可能 ＊基板支給をSOIウ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

3インチ～12インチまで対応可能　「SOIウェーハ」

3インチ～12インチまで少量対応が可能です。 仕様により高抵抗基板・…

も、基板・デバイス層とも高抵抗FZシリコンを使用したSOIウェーハも対応可能です。 直径：3インチ～12インチ SOI層：2－200um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） SiO2(酸化膜）層：0.5－2um程度(0.1-10umも対応可能） 支持基板：300-725um程度（直径によりますが抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） ＊仕様によりますが新規対応は10枚程度から対応可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

保守・メンテナンスサービス

半導体・液晶・太陽電池製造設備の保守・メンテナンスは当社にお任せ下さい

＜対応実績＞ CVD装置, Dry Etching装置, 拡散炉/酸化炉, Wet洗浄装置, Wet Etching装置, 基板搬送装置, コーター/デベロッパー, ステッパー, など 詳しくは、お問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

産業向けDRAMモジュール DDR3L ECC U-DIMM

DDR3L-1600 DRAMメモリモジュールの各種ビット構成のソリュ…

ルギー効率とパフォーマンスのレベル向上を特色としています。 この新モジュールで最も顕著なアスペクトは、その高効率にあります。 これにより主要なエネルギー節約を実現し、ビジネスの全面的な電力消費量と二酸化炭素の包括的な排出減少をもたらします。 これらの利点はパフォーマンスに関して何れの犠牲も不要です - これらモジュールの高速運転および軽減されたメモリバスの読み込みは、非常に強化された総合システム効...

メーカー・取り扱い企業： エイデータテクノロジージャパン株式会社