10nmフィードバックステージシステム　カタログ

10nmフィードバックステージと組み合わせて10nm分解能位置決め装置として使用できます。
ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック（フルクローズドループ）制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。

FC-514はスローダウンセンサ信号とORGセンサ信号に対応しています。
10nmフィードバックステージではロングスケールタイプのステージにスローダウンセンサが搭載されており、高速にロングストロークを高分解能に位置決めすることができるため、測定データの範囲が広くすることができます。

外部機器からコマンドによる通信制御が可能で、測定システムの一部として使用できます。 （詳細を見る）

■高分解能、再現性
コントローラ内蔵のモータードライバーにより10nm分解能でステージを動作させ、ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御しているため、高分解能で再現性に優れています。

■長ストローク
最大200mmの可動ができます。
これにより精密位置決めと試料の退避が1台のステージで可能です。

■制御
コントローラには通信インターフェースがいくつか用意されており、コマンド文字列をPC等から入力することでステージを制御することができます。

■可動タイプ
直動だけでなく昇降タイプや微小回転もラインナップしております。

詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。 （詳細を見る）

光学式リニアエンコーダを内蔵した高分解能Z軸用位置決めステージです。

『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。

独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっております。
自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。

(*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ （詳細を見る）

光学式リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して位置検出誤差を少なくし、コントローラへ位置情報をフィードバックすることで高い分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。

『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 100mm 』となっております。
動作範囲が長いため移動と位置決めがこのステージ1台で行えます。


(*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ （詳細を見る）

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。

『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。

自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、

位置決め後の位置保持性を備えております。

(*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ （詳細を見る）

光学式リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。

自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、分解能、位置決め再現性、位置保持性が優れております。

フィードバックステージコントローラ FC-511と組み合わせることでエンコーダの読み取り値の『10nm』分解能で『40mm』ストロークで動作させることができます。 （詳細を見る）

光学式リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。
エンコーダの位置情報をもとにフィードバック制御を行い、高分解能・高い位置再現性・高い位置保持性を持っています。

フィードバックステージコントローラ FC-511と組み合わせて使用することでストローク『 20mm 』間を『 10nm 』分解能で動作します。
 （詳細を見る）

10nmフィードバックステージと組み合わせて10nm分解能位置決め装置として使用できます。
ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック（フルクローズドループ）制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。

外部機器からコマンドによる通信制御が可能で、測定システムの一部として使用できます。
 （詳細を見る）

シグマテックが設計・製造・販売を行っている、大気用高分解能位置決め装置及び真空対応高分解能位置決め装置 （フィードバックステージシステム）の総合カタログ。
フィードバックステージ ・ フィードバックステージコントローラ及びケーブル、オプションについての仕様・構成・価格などを網羅。

位置決めの事なら何でもご相談ください。

■大気用システム特徴・説明
リニアスケールを内蔵した小型位置決め装置を開発・製造・販売しております。半導体関連の装置、通信関連、先端研究の光学系などで使用されており、そのノウハウを元にお客様のニーズに応えます。

■真空対応システム特徴・説明
創業以来特注対応にて得た真空対応に対するノウハウを元に真空用途で高分解能及び高精度な再現性を御提供致します。

詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。 （詳細を見る）

[新型フィードバックステージコントローラの特長]
従来品との互換性を残しつつ、
・通信コマンド数の増加
・ティーチング機能追加
・USBインターフェース追加
・パラメータ数増加
などの追加により。多機能になりフィードバックステージの状態把握や細かなパラメータを設定することができます。

[高分解能位置決め装置の特長]
フィードバックステージと新型フィードバックステージコントローラで構成されています。
フィードバックステージ内蔵のリニアエンコーダで検出する位置情報をもとにフィードバック制御するため高分解能かつ高い再現性が得られます。

[導入メリット]
・高い位置決め再現性による作業効率の向上
・高分解能動作による微調整が可能
・長い可動範囲による、試料の移動と微調整が1つのフィードバックステージで可能

詳しくはお問い合わせまたはカタログをダウンロードください。

□ステージ選定に役立つQ&A集を下記のリンクから無料ダウンロードできます。□ （詳細を見る）

光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージ。

長ストローク（150mm）を細かく（10nm単位※）位置決め可能。
ストロークが長いため、光学実験での光学遅延を作るのに適しています。

自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性を位置決め後の位置保持性を備えております。

※フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ

■詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログダウンロードしてください。 （詳細を見る）

情報通信・半導体・バイオなどさまざまな分野で使用されているステージ。「選定時に知っておきたい Q&A」は、精密な位置決めステージを検討している方や現在使用しており、より精密な動作が必要な方が位置決めステージを選定するときに必要な情報を、まとめてQ&A形式で解説しております。

【Q&A掲載例】
■ステージとストロークのサイズはどのくらい？
■簡単に通信する方法は？シーケンサとの接続は可能か？
■オープンステージとフィードバックステージの違いは？
■位置決め時間はどのくらいか？
■どのようなところで使用されているか？…

※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい  （詳細を見る）