株式会社和泉テック

【全国対応可】研究室の搬出搬入作業

研究室の搬出搬入作業を全国対応で行っております。是非当社までご相談ください

株式会社和泉テックでは、装置に関して日本全国納品を行っております。 まずはお気軽にご相談ください。経験豊富なスタッフがお話を伺います。 その後、移設元、移設先、移設ルートの下見を行い、機器、設…

極低温ホール測定システム

真空中もしくはガス雰囲気中でプレスする極低温ホール測定システムをご紹介します

本システムは、お客様がお持ちのホール効果測定装置に接続する事により、 4.2K～300Kの温度において試料を冷却制御する事が可能な 『極低温ホール測定システム』です。 又標準装備の温度コント…

超伝導ケーブル電圧測定装置

30万画素のCCDカメラ！視認の困難な場所での観測、位置決めに威力を発揮

当製品は、厚さ約20mmの超伝導ケーブル試料の断面を表裏から CCDカメラで拡大して撮影しながら、任意のケーブルの抵抗を 測定するための『超伝導ケーブル電圧測定装置』です。 一定圧力でプロー…

恒温真空プローバー

小型TMP排気セット装備！最大4プローブまで増設可能なプロービングシステムです

当製品は、軽量化のため、ベースはアルミ材を使用している、上下に 真空吸着付きの『恒温真空プローバー』です。 温調はサイクル制御2系統。 ステージ部が温調機能があり、真空雰囲気・ガス雰囲気・温…

真空ホットプレス

真空中もしくはガス雰囲気中でプレスする真空ホットプレスをご紹介します

株式会社和泉テックで取り扱う『真空ホットプレス』をご紹介します。 加重MAX 1.5t（油圧式）。 温度はMAX 400℃で上下別制卸可能です。 真空中もしくはガス雰囲気中でプレスします…

小型加圧ホットプレス

高分子材料用の簡易なホットプレス！軽量化のため、ベースはアルミ材を使用しています

当製品は、手動油圧ジャッキで加圧する『小型加圧ホットプレス』です。 温度は最高300℃までかけられます。 上下に真空吸着付き。軽量化のため、ベースはアルミ材を使用しています。 温調はサイ…

マイクロ波ナノ結晶生成装置

導波管タイプを用い加熱効率を上げる為のショートプランジャーを採用した定在波方式

本装置は、10mL～30mLの溶媒液に注入された有機ナノ結晶を、 マイクロ波を用い効率よく生成するマイクロ波ナノ結晶生成装置です。 手動注入を除き、自動運転となっております。 又、生成条件を…

水素還元雰囲気炉『lZR-1600』

6打点式（ハイブリット型）！水素排気に安全性が設計されている水素還元雰囲気炉をご紹介します

『lZR-1600』は、室内寸法の割にはコンパクトサイズに設計されている 水素還元雰囲気炉です。 設置寸法は、700mmW×1800mmH×810mmD、重量は約600Kg。 ガス2系統が入…

真空(ガス置換)加熱炉

Max1000℃！石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱が可能です

株式会社和泉テックで取り扱う『真空(ガス置換)加熱炉』をご紹介します。 ガスはO2に加えてArも使用可能。 試料を早く冷却するため炉体は可動式です。 石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス…

磁場中加熱炉

従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで加熱できる電気炉

株式会社和泉テックで取り扱う『磁場中加熱炉』をご紹介します。 炉内寸法φ50石英管。 サンプルサイズは12mm口 x 縦配列5枚です。 従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空…

電気炉『高温試料急冷試験炉』

急冷が可能！試料サイズはφ30x60（白金ワイヤー吊り下げ式）です

『高温試料急冷試験炉』は、Max1500℃までガス置換昇温した後 試料を下部開閉蓋より落下させ急冷が可能な電気炉です。 電源は3相200V 60Aで、2系統プログラム温度調整器を採用。 また…

電気炉『高温ガス雰囲気炉』

デジタルプログラムPID制御を採用！下部から試料挿入可能な実験用炉です

『高温ガス雰囲気炉』は、下部から試料挿入可能な実験用炉です。 ヒーター内寸法はφ140mm×300mmHで、重量は200Kg。 デジタルプログラムPID制御を採用しています。 【特長】 …

電気炉『LPE装置(縦型2段式加熱炉)』

溶湯に温度差をつけての実験に！上下個別温度制御可能な電気炉のご紹介です

『LPE装置(縦型2段式加熱炉)』は、溶湯に温度差をつけての実験に用いる 電気炉です。 サイズはφ80×300（有効内径）×2段。上下個別温度制御可能です。 また、駆動機構は「炉体上下」…

積層薄膜作製装置

多層塗りによる厚膜の作製！スピンコータに液だれ防止が工夫されている装置

『積層薄膜作製装置』は、化学溶液法による積層薄膜作製プロセスである、 スピンコーティング、乾燥、焼成、冷却の各工程の繰り返しをロボットを 用いて行い、多層塗りによる厚膜の作製を自動で行う装置です。…

小型スパッタ装置

対応基板は最大φ1インチまで処理が可能！デュアルガスノズルを備えた装置

『小型スパッタ装置』は、1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載した 実験用高真空小型制膜装置です。 放電用にマッチングユニット付きのRF電源を一台装備。 酸化反応スパッタリングに対応…

酸化シリコン成膜CVD装置

3インチウェハ対応！コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しました

当製品は、酸化シリコンを成膜する為のCVD装置です。 コンパクトな設計となっており省スペース化を実現。 内面処理は電解研磨、チャンバー材質はSUS316です。 また、3インチウェハ対応と…

高周波レーザーCVD装置

簡単に試料セットする事が可能！外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができます

当製品は、高周波加熱コイルの中心に試料ステージ（自動回転機構付き）があり、 外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができるCVD装置です。 サンプル導入口はチャンバー側面で、両側開閉可…

レーザーCVD装置

サンプルMAXサイズ10mm口！耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます

『レーザーCVD装置』は、CO2レーザーをあてながらCVD成膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利…

プラズマCVD装置

漏洩マイクロ波検出用も付属！試料の取付は、下部よりモーターによる上下機構で交換

『プラズマCVD装置』は、実験用に極端に簡素化して製作されたCVD装置です。 マスフロー本体は、メーカー品を使用。表示器、設定器は当社オリジナルで 製作し価格を下げております。 また、プ…

2次元抵抗加熱蒸着装置

蒸着源はボートタイプ！基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任意に変更可能

『2次元抵抗加熱蒸着装置』は、簡単に2つの材料を抵抗加熱により蒸着出来る 装置です。 蒸着源はボートタイプで、基板は支柱上のプレートに取付けられており、 高さは任意に変更可能。 排気系…

『卓上型高温電気炉』

最高到達温度1800℃で急速加熱ができる卓上型の高温電気炉

本製品は、理化学機器の販売を主とし、設計、製造を行う 株式会社和泉テックが取り扱っている卓上型高温電気炉です。 制御方式は、プログラム・サイリスタPID方式を採用。 サンプルの出し入れが容易…