• 間接加熱式縦型乾燥機『NEO サンエスドライヤ』 製品画像

    間接加熱式縦型乾燥機『NEO サンエスドライヤ』

    PR汚泥処分費削減に貢献&リサイクルにも!食品残渣、その他廃棄物も乾燥でき…

    ボイラからの蒸気を熱源とした蒸気ジャケット(間接加熱)による乾燥熱と、効率の良い熱伝達を考えた遠心造粒で乾燥させる、 安全で容易に運転ができる間接加熱式縦型乾燥機です。 ◇排水処理施設で排出される汚泥だけではなく、食品残渣やその他廃棄物等も乾燥できます。 ◇高速撹拌により乾燥過程でダマになりやすい原料も顆粒状になるので、処理時間も短縮できます。 【特長】 ■幅広い汚泥を乾燥できる ■様々な原料...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社西原ネオ

  • 乾湿原料連続式 粉体混合機「ダウミキサーPX」※納入事例集進呈! 製品画像

    乾湿原料連続式 粉体混合機「ダウミキサーPX」※納入事例集進呈!

    PR粉体の乾湿混合|加湿混練|造粒前混練など幅広い用途に好適!難易度が高い…

     「ダウミキサー」は独自の不等速2軸機構の採用により、 セルフクリーニングで固着成長を抑制機能(メンテ性)や、2軸間差速で高い均一分散性能(生産性) を兼ね備えており、粘性が高い湿潤原料でも効率よく混合・混練が可能です。  『ダウミキサーPX型』は、2500台以上の実績がある「ダウミキサー」ノウハウをもとに、 不等速2軸機構に配列する2条巻きの正逆パドルで高度な混練効果と圧密効果が得ら...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社新日南 京浜事業所

  • リニアエンコーダ内蔵 高分解能位置決め装置 製品画像

    リニアエンコーダ内蔵 高分解能位置決め装置

    【新型ステージコントローラ】とリニアエンコーダを内蔵した【フィードバッ…

    ] ・高い位置決め再現性による作業効率の向上 ・高分解能動作による微調整が可能 ・長い可動範囲による、試料の移動と微調整が1つのフィードバックステージで可能 詳しくはお問い合わせまたはカタログをダウンロードください。 □ステージ選定に役立つQ&A集を下記のリンクから無料ダウンロードできます。□...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • 真空対応5nmフィードバックステージシステム 製品画像

    真空対応5nmフィードバックステージシステム

    真空チャンバー内での位置決め用途に リニアエンコーダ内蔵により5nm分…

    、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20mm 』『 40mm 』『 50mm 』までラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • Z軸用サブミクロンステージ FS-1005Z/1010Z 製品画像

    Z軸用サブミクロンステージ FS-1005Z/1010Z

    【精密位置決め装置】50nm又は100nmの高分解能・高い位置決め再現…

    最大移動速度:5mm/sec(FC-411 or FC-111使用時) ストローク:5mm or 10mm 対応コントローラ:FC-411 or FC-111 ■詳細は資料請求またはカタログをダウンロードして下さい■...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • 1nmフィードバックステージシステム(精密位置決め装置) 製品画像

    1nmフィードバックステージシステム(精密位置決め装置)

    リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め 可動範囲最大50mm

    、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20mm 』『 40mm 』『 50mm 』までラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • 真空対応サブミクロンフィードバックステージシステム 製品画像

    真空対応サブミクロンフィードバックステージシステム

    真空チャンバー内での位置決め用途に サブミクロン分解能で位置決め 可動…

    きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは20mm~100mmまでラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • 真空対応1nmフィードバックステージシステム 製品画像

    真空対応1nmフィードバックステージシステム

    リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め 可動範囲最大50mm…

    、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20mm 』『 40mm 』『 50mm 』までラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • 真空対応10nmフィードバックステージシステム 製品画像

    真空対応10nmフィードバックステージシステム

    真空チャンバー内での位置決め用途に リニアエンコーダ内蔵により10nm…

    きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは20mm~100mmまでラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • 10nmフィードバックステージ FS-1050PX/XY  製品画像

    10nmフィードバックステージ FS-1050PX/XY

    【精密位置決め装置】10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後…

    自社開発したリニアスケールを内蔵していながら、薄型で軽量な設計になっています。 またフルクローズドループ制御により高精度な繰返し位置決めが可能です。 ■詳細は資料請求またはカタログをダウンロードして下さい■...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • 10nmフィードバックステージ FS-1040PX/XY  製品画像

    10nmフィードバックステージ FS-1040PX/XY

    【ストローク40mm】10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置保持…

    最小分解能:10nm 最大移動速度:10mm/sec(FC-511使用時) ストローク:40mm 対応コントローラ:FC-511 ■詳細は資料請求またはカタログをダウンロードして下さい■...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

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