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脂質ナノ粒子の開発を上流から下流まで網羅する『Sunシリーズ』
PR製剤条件のスクリーニングからスケールアップ、GMP製造までをシームレス…
脂質ナノ粒子(LNP)の開発は多くの課題に直面します。 製剤を作製し、最適化し、臨床試験のためのスケールアップは、 コストがかかる上に複雑で、時間との戦いでもあります。 弊社のLNPソリューションは、LNPの合成と特性解析の 全てのステップを加速化するようにデザインされています。 Sunscreenは、コストと時間を削減し、6時間以内に最大96のユニークな LNP製剤を生成することで、LNP製...
メーカー・取り扱い企業: Unchained Labs株式会社
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PR様々な目的に応じて攪拌ができるように開発したラボ用撹拌機!物性・目的に…
邪魔板不要で上下循環流を発生させる「往復回転式攪拌機アジター」 「ジェット式アジター」のほか気液反応に適した「ミクロアジター」の 実験機です。物性・目的に応じて実験できる3タイプを用意!実験に適した 機械の選定、実験方法、スケールアップ等、お気軽にご相談ください。 【製品詳細】 ■往復回転式攪拌機「SV」 三角翼をつけた撹拌軸が1/4回転ごとに反転する撹拌機です。 ■ジェッ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社島崎エンジニアリング 本社
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長距離(150mm)を細かく位置決め可能!『精密位置決め装置(分解能:…
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージ。 長ストローク(150mm)を細かく(10nm単位※)位置決め可能。 ストロークが長いため、光学実験での光学遅延を作る...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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【精密位置決め装置】50nm又は100nmの高分解能・高い位置決め再現…
光学式リニアスケールを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 独自の...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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【精密位置決め装置】10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後…
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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エンコーダ内蔵のフルクローズ制御可能なステージ
自社開発した光学式リニアスケールエンコーダを内蔵しているため コントローラで制御することで100nnまたは50nm分解能で 動作します。 進行方向に対してスリムなモデルです。 スリムなメリット ・省スペースで長いス...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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【精密位置決め装置】5nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の…
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 5nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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【精密位置決め装置】リニアエンコーダを内蔵し、5nm分解能で動作する位…
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 5nm 』分解能(*1)でストロークは『 40mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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10nm分解能で位置決め。スローダウン機能搭載
ローズドループ)制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。 FC-514はスローダウンセンサ信号とORGセンサ信号に対応しています。 10nmフィードバックステージではロングスケールタイプのステージにスローダウンセンサが搭載されており、高速にロングストロークを高分解能に位置決めすることができるため、測定データの範囲が広くすることができます。 外部機器からコマンドによる通...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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【昇降ステージ】リニアエンコーダ内蔵により10nmの高分解能・高い位置…
解能(*1)でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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【エンコーダ内蔵】分解能・位置決め再現性・位置保持性が高い5nm分解能…
リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 5nm 』分解能(*1)でストロークは『 20mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、 位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-611との組み合わせ...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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