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PRサイクル時間を短縮!歩留率を向上させることでプロセスの効率性を高めます
当社では、リアルタイムプロセス管理とラボスケールタンジェンシャル フローろ過(TFF)を統合した『KrosFlo KR2i RPM システム』を 取り扱っております。 当システムは、KrosFlo KR2i システムとCTech FlowVPX 可変光路長紫外可視分光光度計を組み合わせ、インライン濃度 モニタリングとエンドポイント制御を備えた自動TFFを提供。 KR2iとFlo...
メーカー・取り扱い企業: レプリジェンジャパン合同会社
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PR繰り返し使うことで環境負荷削減!金属製の高性能な高温集塵フィルター。
「パイロスクリーン」は、ステンレスまたは、アルミ製の高温集塵フィルターです。 ダストを含んだ気流を強制的に方向転換させるスクリーンを10枚複合することで、90~99%以上の除塵効率を実現しました。 圧力損失が極めて小さい点、材質・構造から高強度な点が大きな特長です。 【パイロスクリーンの特長・メリット】 ■乾性・湿性どちらにも使用可能 ステンレス製フィルターなので乾・湿どちらにも使...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社布引製作所 本社
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非接触式の重金属汚染・CV/IV・膜評価装置。 鉄濃度測定の感度はD…
世界に400台以上の実績を持つ非接触式の重金属汚染・CV/IV・膜評価装置です。 鉄濃度測定の感度はDSPVを採用することでE8を実現し、近年のCMOSイメージセンサーの歩留まり向上に寄与しております。 化合物半導体のCV測定が可能です。非接触で面内の濃度分布、プロファイル測定が可能...
メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社
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PN接合の深さおよびキャリヤ濃度分布を測定!オプションにより表面抵抗測…
介します。 斜め研磨したSiウェハーを深さ方向に2探針をコンタクトさせ、 そのプローブ間の拡がり抵抗値からSiの深さ方向の比抵抗プロファイル、 EPI層の厚み、PN接合の深さおよびキャリヤ濃度分布を測定。 「SRP2000」は、プローブのコンディショニング、ベベルアングルの測定、 標準サンプルのデータ入力などが全自動化し、多数サンプルの連続自動 測定ができ、サンプルは最大6個同...
メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社
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【デモ可能】化合物半導体材料の組成比の評価も可能!非接触・非破壊でエピ…
る薄膜評価装置です。 化合物半導体材料の組成比の評価も可能。 主な評価・測定項目は、“薄膜の膜厚値”、“エピ膜厚値”、“屈折率”、 “消衰係数”、“化合物半導体の組成比”、“ドーパント濃度”です。 【主な評価・測定項目】 ■薄膜の膜厚値 ■エピ膜厚値 ■屈折率、消衰係数 ■化合物半導体の組成比 ■ドーパント濃度 装置の仕様や価格については、お気軽にお問い合わせ下...
メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社
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非接触でエピウェハの抵抗率をモニター可能!
ことができます。測定原理としてサーフェイスフォトボルテージ(SPV)法を用いてウェハー上にパルス光を照射することによりウェハー表面電位変化を検出し、空乏層幅を測定します。強反転状態の空乏層幅が不純物濃度に比例することにより、不純物濃度測定を行い、抵抗率に換算(ASTM)します。 ...
メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社
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トレンチ深さ測定装置
DRAMのキャパシタートレンチの深さ、CD測定、リセス測定を非接触で測定。独自技術MBIR(Model Based Infrared)により高アスペクト比のトレンチの測定が可能。また、エピ膜のドープ濃度の縦方向プロファイルの測定にも対応。 ...
メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社
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超高感度DLTSシステム/バルク内欠陥・界面準位測定装置
主な測定・評価項目 主な測定・評価項目 ・測定Max感度 : C=2x10-5pF for S/N=1 (温度・周波数スキャンに可変時) ・トラップ濃度:Nt<10-5INd-Na) ・I-V/C-Vプロット ・捕獲断面積測定 ・電界依存性測定 ・トラップ深さ測定 ・Mos測定 ...
メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社
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全自動拡がり抵抗測定装置
Profiler)装置は,斜め研磨したSiウェハーを深さ方向に2探針をコンタクト させそのプローブ間の拡がり抵抗値からSiの深さ方向の比抵抗プロファイル,EPI層の厚み,PN接合の深さおよびキャリヤ濃度分布を測定する装置です。 ...
メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社
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